摘要 M-3kF" {)j3Pn P%A^TD| 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
CpuL[|51 Q#
w`ZQX3 设计任务 Y]aVa2!Wb WG8}}`F| %|$h<~ 连接建模技术:蛾眼结构 k/A8| -t_t3aU| GsG.9nd 光栅阶数分析器 Z,%^BAJ 9kmkF, rmS.$h@7 m 元件内场分析器:FMM v1Tla]d =X[]0.I% `LU[+F8< 参数运行 iB;EV8E fmf3Hp@ S"ZH5O( 参数优化 YIv!\`^ \ W 86`R G.Z:00x 模拟结果 XdX1GH*C jj2 [Zh/h 通过计算器进行参考测量 YvD+Lk' hm =e2|:Ba!
'\8gY((7 结构内的场 m~cz R57>z`; XKD0n^L[ 7\>P@s 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 U5N/'p%)< U~8;y' u;f${Wn'3 初始解决方案 #1 的参数优化 e 4- (}ObX!, .)L%ANf 最终设计 #1 的性能分析 "mlVs/nsyG ZbVo<p5* ] 初始解决方案 #2 的参数优化 04ZP\ 7kX;|NA1 Bx9R!u5D 最终设计 #2 的性能分析 )Il)
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