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 e1&c_"TOih  内容简介  `m'2RNSc+#  Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 l@#X]3h!  《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _\o +9X!  薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 fngZ0k!    yMz@-B  讯技科技股份有限公司 2015年9月3日<Bu*: O 目录 miN(a;	Q2P
 Preface 1 gn(n</\/O
 内容简介 2 ;ejC:3yO
 目录 i E?08=$^5%
 1  引言 1 kFk+TXLDIt
 2  光学薄膜基础 2 1YnDho;~
 2.1  一般规则 2 eW	>k'ez
 2.2  正交入射规则 3 ^O892 -R
 2.3  斜入射规则 6 ~=c^Oo:
 2.4  精确计算 7 7%w4?Nv3I
 2.5  相干性 8 >656if	O
 2.6 参考文献 10 SZwfYY!ft0
 3  Essential Macleod的快速预览 10 MF	E%q
 4  Essential Macleod的特点 32 &x=<>~Ag3
 4.1  容量和局限性 33 r&ToUU	5
 4.2  程序在哪里? 33 s_1]&0<
 4.3  数据文件 35 $<33E	e:a
 4.4  设计规则 35 
2EE#60
 4.5  材料数据库和资料库 37 I|R9@
 4.5.1材料损失 38 TD3R/NP
 4.5.1材料数据库和导入材料 39 J::SFu=
 4.5.2 材料库 41 [9+M/O|Vs
 4.5.3导出材料数据 43  i!,>3
 4.6  常用单位 43 *Li;:b"t
 4.7  插值和外推法 46 C8G['aQ
 4.8  材料数据的平滑 50 t<: XY
 4.9 更多光学常数模型 54 $\P!P.
 4.10  文档的一般编辑规则 55 D% 50
 4.11 撤销和重做 56 |`O7>(h
 4.12  设计文档 57 sHEISNj/^
 4.10.1  公式 58 c8}1-MKs_R
 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 
d;CD~s
 4.10.3  沉积密度 59 #vS>^OyP
 4.10.4 平行和楔形介质 60 'x6Mqv1W
 4.10.5  渐变折射率和散射层 60 "HYK~V
 4.10.4  性能 61 z-,U(0 	.
 4.10.5  保存设计和性能 64 fk",YtS*
 4.10.6  默认设计 64 Bq$bxuhV
 4.11  图表 64 +F0M?,
 4.11.1  合并曲线图 67 &2)	mpY8xQ
 4.11.2  自适应绘制 68 8o4
 vA,
 4.11.3  动态绘图 68 :W'1Q2
 4.11.4  3D绘图 69 ZMx<:0ai
 4.12  导入和导出 73 1[}VyP6	e
 4.12.1  剪贴板 73 =CqLZ$10
 4.12.2  不通过剪贴板导入 76 bTn-Pg){
 4.12.3  不通过剪贴板导出 76 v4S|&m
 4.13  背景 77 !J6k\$r
 4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 }S42.f.p
 4.15  生成Rugate 84 Ajq<=y`NzV
 4.16  参考文献 91 e1'_]
 5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 h"<rW7z
 5.1  Jobs 92 %Y!lEzB5
 5.2  创建一个新Job(工作) 93 "dkvk7zCP
 5.3  输入材料 94 	 kU#$
 5.4  设计数据文件夹 95 &i!.6M2
 5.5  默认设计 95 AalyEn&>
 6  细化和合成 97 I/'jRM
 6.1  优化介绍 97 KD#ip3
 6.2  细化 (Refinement) 98 rN>f"/J
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 6.3  合成 (Synthesis) 100 fC81(5
 6.4  目标和评价函数 101 :/1WJG:!
 6.4.1  目标输入 102 4ci
@$nL1
 6.4.2  目标 103 8cW]jm
 6.4.3  特殊的评价函数 104 
w1iQ#.4K_
 6.5  层锁定和连接 104 `|]juc
 6.6  细化技术 104 K@?S0KMK
 6.6.1  单纯形 105 oFY'Ek;d
 6.6.1.1 单纯形参数 106 :KW
 6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Z4rK$B
 6.6.2.1 Optimac参数 108 YgVZq\AV"
 6.6.3  模拟退火算法 109 7DT9\BT
 6.6.3.1 模拟退火参数 109 M'[J0*ip
 6.6.4  共轭梯度 111 
cvAkP2
 6.6.4.1 共轭梯度参数 111  :MJTmpq,
 6.6.5  拟牛顿法 112 L-$GQGk{
 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 PY)	74sa
 6.6.6  针合成 113 7@06x+!
 6.6.6.1 针合成参数 114 `XI1,&Wp7
 6.6.7 差分进化 114 RX#:27:
 6.6.8非局部细化 115 '{C=vW
 6.6.8.1非局部细化参数 115 R|5w :+=z
 6.7  我应该使用哪种技术? 116 "|&SC0*
 6.7.1  细化 116 m}8c.OJ>K`
 6.7.2  合成 117 /pV^w
 6.8  参考文献 117 g9
g
&]
 7  导纳图及其他工具 118 `@eQL[Z9x
 7.1  简介 118 mGoUF$9	k
 7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Pc1vf]
 7.2.1  四分之一波长规则 119 NO;+:0n
 7.2.2  导纳图 120 G;`+MgJ)
 7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^gD&Nb
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