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摘要 s
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|& N<b~,[yCd> 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 :| !5d{8S8 +cM~|
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+Z/nfS uAV7T /' 任务说明 o/ 7[
G 6Yc(|>b! U9K'O !i> P&Uj?et" 简要介绍衍射效率与偏振理论 V(8,94vm 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 'Yi="kno 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Q7-iy bDm7$ ( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 %'X~9Pvi 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Ud7Z7?Ym kBxEp/y 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 /='Q-`?9 7&9w_iCkV 光栅结构参数 X%iJPJLza 研究了一种矩形光栅结构。 7t1as. 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 c&N;r|N 根据上述参数选择以下光栅参数: tfu`_6 光栅周期:250 nm S^;;\0#NK 填充因子:0.5 !Z
0U_*& 光栅高度:200 nm ,iY:#E 材料n_1:熔融石英(来自目录) jD%|@ux 材料n_2:二氧化钛(来自目录) &]GR*a X6T[+]Gc 8a&c=9 ;^u,[d 偏振态分析 @56*r@4:q 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 G.^)5!By 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 R\XS5HOE( 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 em5~4;&' p*)I QM<B }2;iIw` S3i p?9 模拟光栅的偏振态 /-i m
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4(VV@:_% F\^8k /0 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: LMx/0 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 DB65vM 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 < \fA}b 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 JN4gH4ez) HA,8O[jon Passilly等人更深入的光栅案例。 cm_5,wB(w Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 `GW&*[.7 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 c*. F8dr-"G
:"Otsb7 A%?c1`ZxF 光栅结构参数 U;4i&=.! 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 7<*0fy5n n 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 8a`3eM~?[ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 {:*G/*1[. 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 /*{'p!?
`B4Ilh"d yn$1nt4 光栅#1——参数 2>o^@4PnZ 假设侧壁倾斜为线性。 HR"clD\{Di 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ]Idwy|eG 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 HcJ!( 光栅周期:250 nm 2uN3:_w 光栅高度:660 nm A[^#8evaK 填充因子:0.75(底部) wK7w[Xt 侧壁角度:±6° XHj%U n_1:1.46 s>I]_W)Pt n_2:2.08
[?|yQ x ZD'mwj+K
NK/y,f6 LKp;sV 光栅#1——结果 #n{4f1TZ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 >
^zNKgSQ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 fdX|t"oz 0m]QQGvJ{
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Q 光栅#2——参数 2ua!<^, 假设光栅为矩形。 2t_g\Q 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 z9 Ch %A{ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 =v?P7;T 光栅周期:250 nm h)ZqZ'k$ 光栅高度:490 nm %L-qAI&V 填充因子:0.5 R*2N\2 n_1:1.46 pTG[F n_2:2.08 Y:O|6%00Y C]8w[)d[`; _b&26!gl k<Gmb~Tg1 光栅#2——结果 %q3`k#?< 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 6`Y:f[VB 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 f~\H|E8( poW%F zj g[1>|Ax`'
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