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摘要 ,9OER!$y *`s*l+0b 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 =
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i<1 任务说明 k]4CN >U:-U"rA? h\C1:0x{ J^kSp 简要介绍衍射效率与偏振理论 RaiYq#X/ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Ow0~sFz 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: _)CCD33$ ^b&hy&ag 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 0l(G7Ju 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: [CnoMN }Ej^"T:H_; 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ziAn9/sT NR^Z#BU 光栅结构参数 yrzyus 研究了一种矩形光栅结构。 nCldH|>5w 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 ?r0>HvUf!l 根据上述参数选择以下光栅参数: `=TJw,q 光栅周期:250 nm LNgFk%EH 填充因子:0.5 Dhft[mvo 光栅高度:200 nm (Q"s;g 材料n_1:熔融石英(来自目录) Zf)<)o* 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 5Shc$Awc! i .?l\ 6%VRQ#g! &I(3/u 偏振态分析 l)Cg?9 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 "jq F 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 CfLPs)\ACm 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 n%dh|j2u e<{Ani0 LZPLz@=&] 5X`m.lhUc 模拟光栅的偏振态 r2;+ACwWf_ 6K.0dhl>`B
r-}C !aF] Yv;iduc(' 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: xqKj&RuLu 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ^@maF<Jb 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 9(9\kQj{C 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 0bIhP,4&
c+TCC%AJQI Passilly等人更深入的光栅案例。 2)`4(38 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ;#2yF34gv 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 5,V3_p:)VI |P=-m-W
b;e*`f8T3c %xwdH4_ 光栅结构参数 pu+jw<7 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 9<!Ie^o? 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 {Ve_u 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 X04JQLhy" 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 /`B:F5r
LT '2446 p?sC</R 光栅#1——参数 Pu|3_3^ 假设侧壁倾斜为线性。 xCiq;FFR 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 20RI S j 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Z:%~Al: 光栅周期:250 nm Bt-2S,c,o 光栅高度:660 nm arj?U=zy 填充因子:0.75(底部) n|I5ylt 侧壁角度:±6° e/!xyd n_1:1.46 g)~"-uQQ n_2:2.08 )KD*G;<O]L p# (5
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sq'bo8r 2~*.X^dR 光栅#1——结果 nx'D&,VX 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 kC-OZ VoO 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 (E?X@d iu PzDekyl
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, n iyf vcKO 光栅#2——参数 <MBpV^Y} 假设光栅为矩形。 A^"( VaK 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 G$$y\e$ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 YeCS`IXm 光栅周期:250 nm vTU*6) 光栅高度:490 nm loFApBD=$^ 填充因子:0.5 1|Z!8:&pj n_1:1.46 ,O/ t6' n_2:2.08 "_T8Km008 |.Y}2>{ &C=[D_h :NPnwX8w 光栅#2——结果 hUGP3ExC* 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 j LG
Q^v" 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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