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摘要 n6s[q-td y9)Rl)7-: 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 yUp"%_t0 M|uWSG
\?rBtD( ]J>{ZL 任务说明 ,T\)%q }KCb5_MDF K"U[OZC` BP`'1Ns 简要介绍衍射效率与偏振理论 8^|lsB}x? 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 m03]SF(#3 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: }E]&,[4&M a2\r^fY/ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Ed=]RR4R 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~k[q:$T mDJN)CX 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 #>@~3kGg :r,o-D 光栅结构参数 F F7 研究了一种矩形光栅结构。 Dhy@!EOS 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 yCLDJ%8 根据上述参数选择以下光栅参数: t;e+WZkV 光栅周期:250 nm `oUuAL 填充因子:0.5 H|i39XV 光栅高度:200 nm q=(.N>% 材料n_1:熔融石英(来自目录) :*MqYny& 材料n_2:二氧化钛(来自目录) B>"O~ gZ{# 7G<v<& p!]$!qHO( $X%'je 偏振态分析 ui$JQ _P 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 KaGG4?=V 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ,Kw]V %xOb 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 a2tRmil EA+}Rf6} v;m}<3@' /<WK2G 模拟光栅的偏振态 I"1H]@"= .*zWm
}uaRS9d drc]"6 k 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: cun&'JOH?U 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 l[D5JnWxt 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 C_~hX G 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 vOl<
5o&noRIIr Passilly等人更深入的光栅案例。 4$^\s5 K Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 8vL2<VT; 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 .3QX*]{ F}Kkhs
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;@R=CQ6 eumpNF%$ 光栅结构参数 {+V]saYP 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 bXw!fYm& 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 YAoGVey 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 +4Uxq{.K 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $V0G[!4
BD(Y=g g*& |Eq/ 光栅#1——参数 7\?0d! 假设侧壁倾斜为线性。 fd<a%nSD 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 jLZ^EM- 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 L~u@n24 光栅周期:250 nm #rkz:ir4 光栅高度:660 nm X5hamkM*m 填充因子:0.75(底部) D%+cf 侧壁角度:±6° +KzbaBK n_1:1.46 {#,eD n_2:2.08 8o SNnT &eqeQD6
$yA>j (k4 ?"o7x[ 光栅#1——结果 (&)PlIi7 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 &*4C{N 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 =5v=<, ] LW$(;-rY
5@kNvi <V~B8C!) 光栅#2——参数 @g{FNXY$ m 假设光栅为矩形。 |v6kZ0B< 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 H`:2J8 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 z{N~AaY 光栅周期:250 nm P,}cH;w6Ck 光栅高度:490 nm +=:*[JEK,U 填充因子:0.5 lI<Q=gd n_1:1.46 ,_N+t:*#0 n_2:2.08 /YLHg5n8+ +'lj\_n \@}G'7{ R'udC} 光栅#2——结果 -*<4 hFb 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 }^@Q9<P^E 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 )#H&lH ? +q(,P@* y$Rr,]L
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