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摘要 6h>#;M 9-c3@>v 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 +-@n}xb@ R|C`
t<##0#xS. 1p.c6[9- 任务说明 rQimQ|+ fwz:k]vk =o##z5j
K &!CVF 简要介绍衍射效率与偏振理论 t`H1]`c? 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 9S|sTf 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: v@Uk% O/ 031"D*W'i 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 UN.;w3`Oc 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ,-e}Xw9 h~ k<" 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 src9EeiV !l
$d^y345 光栅结构参数 X,v.1#[ 研究了一种矩形光栅结构。 YbP
@ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 c#N4XsG, 根据上述参数选择以下光栅参数: ZW [&7[4 光栅周期:250 nm =-si|
1Z 填充因子:0.5 ynIC (t 光栅高度:200 nm ^L2d%d\5 材料n_1:熔融石英(来自目录) S1|u@d' 材料n_2:二氧化钛(来自目录) K<J,n!zc 3}H{4]*%_ ^+P.f[ '8;bc@cE 偏振态分析 ;W?#l$R 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 I8gNg
Z 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 U4!KO;Jc 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 "bhK%N; |0i{z(B _c>ww<*3 Ku,wI86 模拟光栅的偏振态 :01d9|# yI:
;+K
r/sSkF F `}?;Ow&2CY 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: O6G\0o 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 hQ@k|3=Re 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 w.x&3aG 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Q-oDmjU %/Wk+r9uu Passilly等人更深入的光栅案例。 r ]7: ?ir Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 a dqS.xs 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 "&2 F vS8&,wJ!
r%=-maPL[ hBX*02p 光栅结构参数 OE@[a 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 %'iJVFF 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 JUr
t%2 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 yu'-'{% 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 MrR`jXz
-P;0<j@6k5 KkCGL*]K 光栅#1——参数 Y$ jX 假设侧壁倾斜为线性。 v#Rh:#7O%U 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 d=vuy
为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 712nD ?> 光栅周期:250 nm V?M(exN 光栅高度:660 nm D}?p>e|<D 填充因子:0.75(底部) {mJ'
Lb0; 侧壁角度:±6° iO$87! n_1:1.46 Fx:38Ae n_2:2.08 ~X3g_<b_8 }:2##<"\t
x4*
bhiu ]6e(-v!U 光栅#1——结果 *S}@DoXS 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 NT+.E[J6 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 %R>n5m hS,&Nj+
a?-&O$UHf\ 5GM-*Ak @ 光栅#2——参数 uHKEt[PS$ 假设光栅为矩形。 ooVs8T2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 yJI~{VmU7 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 HEVjK$ 光栅周期:250 nm o-rX 4=T 光栅高度:490 nm S~3|1Hw*tN 填充因子:0.5 +cH>'OXoB n_1:1.46 I!L J&> n_2:2.08 |,$&jSe R,BJr y 8%K{l g"
~z:]rgX 光栅#2——结果 [OCjYC` 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 q SNCBn ' 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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