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摘要 %so]L+r2! `D9$v(Ztr 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 V]^$S"Tv EQ_aa@M7
2<3K3uz 7>RY/O;Z, 任务说明 pR_9NfV{ wIgS3K
lhJ'bYI CC`JZ.SO 简要介绍衍射效率与偏振理论 q(w(Sd)#L 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 *1"+%Z^ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Vvo7C!$z i30!}}N8 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Xa&kIq}(g 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: qP
,EBE lquLT6] 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Dp:BU|r
!@sUj 光栅结构参数 P<-@h1p, 研究了一种矩形光栅结构。 Y-9I3?ar 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 k7^5Bp8= 根据上述参数选择以下光栅参数: W*G<X.Hf 光栅周期:250 nm Ort(AfW 填充因子:0.5 kx CSs7J/ 光栅高度:200 nm Rb;'O89Hj@ 材料n_1:熔融石英(来自目录) @VI@fN 材料n_2:二氧化钛(来自目录) EX"yxZ~ `0svy} -g<oS9 >mkFV@` 偏振态分析 ,: ^u-b| 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 *^r}"in 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 atzX;@"K 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 |BYRe1l6l @9:uqsL |[lKY+26:{ kf9X$d6 模拟光栅的偏振态 y>LBl] =|9!vzG4
g{LP7D;6 MfkZ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: A(X KyEx 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ~Gw*r\\+ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 #z42C?V 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 "jCu6Rj d !~Z"9(v'C Passilly等人更深入的光栅案例。 m+9#5a- Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 0"#HJA44 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 0 {mex4 kcEeFG;DQ
P
{'b:C D'4\*4is 光栅结构参数 `u\n0=go 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 :KO2| v\ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 *ui</+ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 d5d@k 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 9 $X-
5-M-X#( =c7;r]Ol 光栅#1——参数 'q.!|G2U 假设侧壁倾斜为线性。 t<qiGDJ<d 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 7z-[f'EIUI 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ,?3G;- 光栅周期:250 nm
5dg(e3T 光栅高度:660 nm QW"! (`K 填充因子:0.75(底部) +[P{&\d4} 侧壁角度:±6° .V*^|UXbHi n_1:1.46 ?Ob3tUz2 n_2:2.08 g&.=2uP iQ{VY
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r*Xuj= @pxcpXCy 光栅#1——结果 @|r{;' 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Mp]rUPK 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 8i pez/ 4\i[m:e=@
.^g p? 7o4\oRGV 光栅#2——参数 > P)w?:k 假设光栅为矩形。 cZ06Kx.. 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 cNH7C"@GVu 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ElXFeJ%[G 光栅周期:250 nm liSmjsk 光栅高度:490 nm `{Ul! 填充因子:0.5 \Cj B1]I n_1:1.46 \DzGQ{`~m n_2:2.08 <QvOs@i* P* o9a @@%ataUSBT 0`hdMLONR 光栅#2——结果 0aAoV0fMDz 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 o}!PQ#`M 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 5)E @F9N U~8g_* [!z,lY>
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