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摘要 C`3XOth sa/9r9hc+ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 fk6=;{ ]\>MDH
!>!jLZ0 23K#9!3 任务说明 `s\[X-j] $G}k'[4C "\rO}(gC;` /NR*<,c% 简要介绍衍射效率与偏振理论 x*tCm8`{ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 W> Pcj EI 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: F3$8l[O_ p`Tl)[* 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 nygeR|:\ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: )k[XO <nV 3`L&] 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 tQyQ+1 .wWf#bB 光栅结构参数 RtxAIMzh? 研究了一种矩形光栅结构。 KyDd( 'i 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 0$Zh4Y 根据上述参数选择以下光栅参数: )' ,dP)b 光栅周期:250 nm ?}W#j 填充因子:0.5 A,4}
$-7 光栅高度:200 nm [AD%8H 材料n_1:熔融石英(来自目录) 'Cz]p~oF 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ^ yF
Wvfh4 >Rdi]:]Bv 6 !fq658 @Xh8kvc81 偏振态分析 Dk")/ ib 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 Oq3t-omXS 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ;F71f#iY 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 6"rS?>W/mO nHfAx/9! Sn.I{~ ygQAA!&'] 模拟光栅的偏振态 &@2`_%QtA u`-:'@4
l#w0-n%S y|9 LtQ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ^Ga_wJP8S 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ^;\6ju2 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 rXe+#`m2 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Tn38]UL {cw+kY]m4- Passilly等人更深入的光栅案例。 w#bdb; Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 `@:k*d 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ms+gq #\z"k<{*
{w99~? I;P! 光栅结构参数 =)Goip 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 MpIP)bdq7 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 d+8|aS<A 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 g$#JdN 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 9w\C
vO&R
3+M+5 n!NA}Oa 光栅#1——参数 z KG]7 假设侧壁倾斜为线性。 KDDx[]1Q 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ;b,
bHL 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ,/Y$%.Rp 光栅周期:250 nm f_QZql 光栅高度:660 nm cavzXz 填充因子:0.75(底部) a -5#8 侧壁角度:±6° S8]YS@@D n_1:1.46 uv7tbI"r n_2:2.08 %9t=Iu* MPsm)jqX
LQ"xm %-NG eN8 光栅#1——结果 $[(FCS 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 @Z9>E+udQ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ]jP0Z# L i`OaP$
\3j4=K'nE 42DB0+_wz 光栅#2——参数 r9^~I 假设光栅为矩形。 3HX-lg`0 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 #~qY%X 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 2|8$@*-\ 光栅周期:250 nm '[[*(4a3 光栅高度:490 nm ~T'$gl 填充因子:0.5 uF-Rl##
> n_1:1.46 xEe3,tb'e n_2:2.08 %TQ5#{Y lMXLd91 7!8R)m^1[ TJ(vq] |& 光栅#2——结果 +r__>V, 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 K%>3ev=y.s 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ]B-3Lh T4"*w 0J9Ub
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