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摘要 @n(In$ \zUsHK?L"t 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 v=>Gvl3&U v(O.GhJ@
p3o?_ !Z ._Xtb,p{ 任务说明 wW4S@m LayU)TIt 2'U9!.o [}p.*U_nw 简要介绍衍射效率与偏振理论 <GN?J.B 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 xTMTkVa+B 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 2LU'C,o? !Xi>{nV 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 D,/9rH 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: O@rb4( C.-a:oQ[ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 @\?f77Of6 3#[I_ 光栅结构参数 MVdx5,t 研究了一种矩形光栅结构。 #Au&2_O 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Cj+=9Dc 根据上述参数选择以下光栅参数: .)w0C%] 光栅周期:250 nm #8jd,I%L 填充因子:0.5 Uj)]nJX 光栅高度:200 nm {@AcL:Eit 材料n_1:熔融石英(来自目录) }o-P 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ,be?GAq @`D6F;R z%tu6_4j ~0|hobk 偏振态分析 =1\wZuK# 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 5QJL0fc 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 17oxD 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ;[ueNP%*y| CaBS0'
n KCE-6T ;r"B?] JO 模拟光栅的偏振态 `F 8;{`a RfG$Px '
{2r7:nvR jqWvLBU! 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: u$8MVP 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 g"S+V#R 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 [uQZD1<q 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 t}*!UixE wtLMc Passilly等人更深入的光栅案例。 f"N3;,Oc Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 |9]K:A 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 lG>e6[Wc z
5+]Z a~
4 GW[GT '/g+;^_cB 光栅结构参数 Ilb
|:x"L 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 XF$]KAL0 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 :-" jKw 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 C)p<M H< 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 AiK4t-
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n>P 光栅#1——参数 |o=ST
假设侧壁倾斜为线性。 Ia:puks= 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 1e&b;l'*= 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 !&p:=}s 光栅周期:250 nm n4T2'e 光栅高度:660 nm l(\8c><m 填充因子:0.75(底部) )wv[!cYyW 侧壁角度:±6° T)f_W n_1:1.46 C+m^Z[ n_2:2.08 4Olv8nOe< R${4Q1
'4lT*KN7\ [k7N+W8 光栅#1——结果 /M*\t.[ 46 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 >@"3Q` 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 8!Mzr1: {&u7kWD|
Qwo9>ClC tSc>@Q_| 光栅#2——参数 )X!DCL:16 假设光栅为矩形。 Yk@s"qm3 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 G^@Jgx3n 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 NF(IF.8G 光栅周期:250 nm [piF MxZP 光栅高度:490 nm jsi#l 填充因子:0.5 s5aOAyb*w n_1:1.46 7a]Zws n_2:2.08 #0<y0uJ(y ;@YF}%!+W )bXx9,VL t,1! `/\ 光栅#2——结果 C\^<v& 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 1L=Qg4 H 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 YEPG[W<kg +IO1ipc4cE ?"<r9S|[O
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