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摘要 j2"Y{6c "7tEk<x 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 mQ]wLPP{1 hr] :bR
(6Sf#M J((.zLvz 任务说明 sCF7K=a 1GL@t?S >o"3:/3
zOnQ656 简要介绍衍射效率与偏振理论 !^*I?9P 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 L?5OWVX!v 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: T c{]w?V 4? a!6 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 HN*w(bROr 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: q$=EUB"C X@ Gm:6 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 044*@a5f ,3{z_Rax- 光栅结构参数 (SlrV8; 研究了一种矩形光栅结构。 De*Z UN|< 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 H.ZmLB 根据上述参数选择以下光栅参数: = ?hx+-' 光栅周期:250 nm "jUr[X2J 填充因子:0.5 6T_Mk0Sf+ 光栅高度:200 nm "A_WU| 材料n_1:熔融石英(来自目录) Q(2X$7iRq 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ;=.QT n_n0Q}du {&Fh$H! %q@eCN 偏振态分析 [[P UK{P0 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 wxg`[c$: 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 .bYDj&]P{ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 kxg]sr" m$xyUv1 >_biiW~x : Aghcjy|j 模拟光栅的偏振态 |Aw(v6 "kKIVlC
_F *("
o ~{[~ =~\u 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: _ID2yJ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 *Bt`6u.>e, 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 L30x2\C 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 6?0^U 9 8IH&=3 Passilly等人更深入的光栅案例。 W.ud<OKP90 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 .6[xX?i^T 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 HlB'yOHv! -P 5VE0
W&]grG2/ z+1#p.F$@ 光栅结构参数 QY2!.a^q 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 0:**uion 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 (9BjZ&ej 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 *_$%Tv.] 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 !b*lL#s,Y
qphN 6-#f1D 6 光栅#1——参数 A>$VkGo 假设侧壁倾斜为线性。 Ou;
]>FJ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 J!
>HT'M 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ^\cB&<h 光栅周期:250 nm JBa=R^k 光栅高度:660 nm M"K$81 填充因子:0.75(底部) LS?hb)7 侧壁角度:±6° %#NaM\=8v n_1:1.46 vhEPk2wD, n_2:2.08 0K,*FdA /40Z-'Bl=(
iLy}G7h @.-g 光栅#1——结果
Nora< 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 r]km1SrS 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 !xMyk>%2 !a3cEzs3
E/ (:\Cm^ K2L+tw 光栅#2——参数 &:8a[C2= 假设光栅为矩形。 xrO:Y!C? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 s_K:h 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 <!&nyuSz 光栅周期:250 nm anA>' 63 光栅高度:490 nm PF@<>NO+W 填充因子:0.5 HPpKti7g n_1:1.46 ro6peUL*2` n_2:2.08 ZSYXUFz }MrRsvN TH)gW ~tDV{ml 光栅#2——结果 kwK<?\D 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 52K3N^RgR 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 LKxyj@Eq `#2}[D %`HAg MgP
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