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摘要 Y#~A":A w-LENdw 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 N@}h \x]\W#C
5s`r&2 w u#Jr_ze 任务说明 xSSEDfq ;e/F( J 150-'Q 6o(IL-0]c 简要介绍衍射效率与偏振理论 GdVF; 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 >8=lX`9f{ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: g=@d!]Z~[ 4nh=Dq[ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 /sT?p=[. 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: voN~f> gkA_<,38 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 5\#I4\ dIYf}7 P 光栅结构参数 #RaqNu 研究了一种矩形光栅结构。 K%x]:|,>M 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Ro"'f7(v. 根据上述参数选择以下光栅参数: }zQgS8PQH 光栅周期:250 nm QeuM',6R 填充因子:0.5 Fs%`W4/ 光栅高度:200 nm )OxcCV?5Z 材料n_1:熔融石英(来自目录) /WE\0bf 材料n_2:二氧化钛(来自目录) mTxqcQc:7 [YHtBM:y O#=%t [WG\wj. 偏振态分析 3]mprX' 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ThI}~$Y 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 "#E<Leh' 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 LR>s2zu- f pq|mY ftR& 5!Wm c3g`k"3*` 模拟光栅的偏振态 |vl~B|", t(uvc{K*
*URT-+' m:[I$b6AY 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: WGUw`sc\ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 4^bt~{} 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 9,`i[Dzp 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 TEd5&Z M>p<1`t-& Passilly等人更深入的光栅案例。 .7gh2K Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 %\T,=9tD\ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 :ZIa Ue
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'kcR:5B "YgpgW 光栅结构参数 Q'Osw" 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 3,{eH6,O7M 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 0
h!Du|? 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 dVEs^ZtI 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $">j~! '
f?)7MR= Fw\Z[nh 光栅#1——参数 cVL|kYVWT 假设侧壁倾斜为线性。 QDQ"Sc06 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Qa )+Tv 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Hf]:mhH 光栅周期:250 nm 3rH}/`d4 光栅高度:660 nm j0; ~2W#G* 填充因子:0.75(底部) `HXv_9 侧壁角度:±6° s!/lQo5/ n_1:1.46 CMW4Zqau* n_2:2.08 n*wQgC'vw K%\r[NF
(!5Ta7X 3U{
mC}F 光栅#1——结果 Mp|Jt 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Y_:jc{? 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 %0C [v7\ aX;>XL4
i3N{Dt y&,|+h 光栅#2——参数 Gd%i?(U,R 假设光栅为矩形。 m.m6. 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 qsep9z. 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 '@.6Rd 8 光栅周期:250 nm #:gl+ 光栅高度:490 nm & mO n] 填充因子:0.5 ,X^3.ILz n_1:1.46 1 #,4P1" n_2:2.08 s;OGb{H7 rC^5Z Zpkd8@g@ lK=Is
v+ 光栅#2——结果 iF^qbh%%E 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 8c)GUx 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 H%vfRl3rB l[$GOLeS ]i.N'O<p
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