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摘要 *K=Yrisz }Oe9Zq 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 a{!
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8BggK6X vF.Ml 任务说明 vj+ S
1ZRSeh !/6KQdF tN&_f==e 简要介绍衍射效率与偏振理论 8\9s,W:5 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 =7 ${bp! 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: +I_p\/J?w/ IWP[?U= 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 JTfG^Nv>K 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 6^vHFJ$ >
@n?W" 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 #NR9\ kz?m `~1 光栅结构参数 1`l10f qU 研究了一种矩形光栅结构。 5d5q0bb 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 i~;Yrc%AEX 根据上述参数选择以下光栅参数: sA[eKQjaD 光栅周期:250 nm *pKj6x 填充因子:0.5 UWW_[dJr 光栅高度:200 nm Ilv
_. 材料n_1:熔融石英(来自目录) 2` j#eB1 材料n_2:二氧化钛(来自目录) =d`/BDD )Qixde>]p q? 2kD"%$ rulw6vTB( 偏振态分析 O/bpm-h`8c 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 u<a =TPAU 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 6n5>{X 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 /{+77{#Qn >2@ a\ iJem9XXb [m{uJdj\ 模拟光栅的偏振态 XbL\l +Rb0:r>kU
#+6t| *m9,_~t 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: (b4;c=<[{ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 }~3 %KHT 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 K_t!P 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 KMZEUmY1R1 ye-R Passilly等人更深入的光栅案例。 Fu6~8uDV{{ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 L#X!. 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 990sE
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F^)SQ%xx Bh*7uNM 光栅结构参数 X__>r ?oJ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 <4QOjW 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ^lYa9k 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 /vG)n9Rc 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 XP'7+/A
tW#=St0<.o __N#Y/e ] 光栅#1——参数 u"*Wo'3I| 假设侧壁倾斜为线性。 aO]FQ#l2b 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Z UCz-53 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 7)y9%-} 光栅周期:250 nm O.g!k"nas& 光栅高度:660 nm (aa}0r5 填充因子:0.75(底部) i9%cpPrg8 侧壁角度:±6° Hjtn*^fo^ n_1:1.46 DHnu F@M n_2:2.08 07:N)y, GI40Ztms
bPHqZ*f %Yi^{ZrM 光栅#1——结果 rBY{&JhS 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 M~+T
$K 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 =
rLL5< a1nj}1M%
MU/3**zoW y Ddi+ 光栅#2——参数 "X7;^yY 假设光栅为矩形。 vQiKpO* 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 fqcFfz6?x 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 _jr'A -M 光栅周期:250 nm h72#AN 光栅高度:490 nm #^FDFl 填充因子:0.5 {zf)im[. n_1:1.46 ]J%p&y+6 n_2:2.08 JO `KNI 8^FAeV# ^`&?"yj<z g)@d(EYY 光栅#2——结果 @Ht7^rz+S 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 RXF%A5FXh 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 n)'5h :Vyr8+] 6mH --!j
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