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摘要 k< j"~S1 S%mfs!E> 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 D WiBG 5[gh|I;D
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<Y}~N 9em*r9- 任务说明 _yH`t[ 'Ot,H_pE 6'C2SihYp h|;qG)f^ 简要介绍衍射效率与偏振理论 .Zmp , 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 pyZ9OA!PD 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: =!b6FjsiG G64Fx*` 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 c EnkU] 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 9X}I> jO~:<y3
= 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 (Ddp|a"b {b)~V3rsY 光栅结构参数 {+.r5py 研究了一种矩形光栅结构。 1wj:aD?g 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 'UU\4M 根据上述参数选择以下光栅参数: :t("L-GPW 光栅周期:250 nm &1|?BZv 填充因子:0.5 0?DC00O 光栅高度:200 nm K^l:MxO-X 材料n_1:熔融石英(来自目录) D=r)) 材料n_2:二氧化钛(来自目录) YT#3n 3gZ8.8q3 <|B1wa:| ,e722wz 偏振态分析 P9Q~r<7n 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。
nY%5cJ`" 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 UUe#{6Jx_ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 s1N?/>lmB N)2f7j4C& PmpNAVE' zYER 模拟光栅的偏振态 NAC_pM&B o{:xp r=(
oqd;6[%G Z8O n%Mx{" 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: NpP')m!`} 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 CY:d`4 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 D;}xr_ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 A7_4.VH kOwMs<1J Passilly等人更深入的光栅案例。 l |2D/K5 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 :M3oUE{ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 N2r/ho}8 b}^S.;vNj
VosZJv= Ex amD">T 光栅结构参数
mEG6 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 +n0r0:z0 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 LkruL_E> 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 S0,R_d') 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 &F
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6RO(]5wX HAz By\M{ 光栅#1——参数 _9 .(a 假设侧壁倾斜为线性。 `:8J46or 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 E51dV:l 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 .T<=z 光栅周期:250 nm >eQr<-8 光栅高度:660 nm $,=6[T!z+e 填充因子:0.75(底部) v4,h&JLt 侧壁角度:±6° 5@IB39 n_1:1.46 2"P99$" n_2:2.08 mYN7kYR}<` - O98pi
x5`br.b J?@DGp+t 光栅#1——结果 ,j;m!V 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 <~ad:[ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {^mNJ $E<Esf$
d<!3`qe .;y# 光栅#2——参数 Ars687WB 假设光栅为矩形。 4'j
sDcs 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 H&1[nU{?> 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 OMhef,,H 光栅周期:250 nm M#"524Nz 光栅高度:490 nm AqKz$ 填充因子:0.5 Wt)Drv{@ { n_1:1.46 'j^xbikr n_2:2.08 +;$oJJ F|Mi{5G% H1<>NWm!v7 m }a|FS 光栅#2——结果 PWh^[Rd) 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 q{s(.Uq$& 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 C{sLz9 )vmA^nU> j?y LDLj
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