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摘要 hnH:G`[F Y`\zLX"_m 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 h&.9Q{D Mm|HA@W^
2VMau.eQ 7zpwP 任务说明 r=8]Ub[ d$b{KyUA V/J[~mN9 TY~0UU$ 简要介绍衍射效率与偏振理论 P?\rRB 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 $Pl>T09d 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: CSwNsFDR% 7ug mZO}lL 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 1rTA0+h 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: :cIE8<\% fM
\T^X 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 }evc]?1( >aN@)=h} 光栅结构参数 .r[J} O" 研究了一种矩形光栅结构。 {I`B?6K5 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 7A7K:,c 根据上述参数选择以下光栅参数: 2 R 1S>X 光栅周期:250 nm g)xzy^2e 填充因子:0.5 %|r@q 光栅高度:200 nm Mp"] = 材料n_1:熔融石英(来自目录) d<fS52~l 材料n_2:二氧化钛(来自目录) u&r@@p. !>gc!8Y'o oa1&9 RSzp-sKB 偏振态分析 |0A n|18 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 oKzV!~{0M; 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 UyTq(7uo 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 7q$9\RR5 /8J2,8vZ z[IG+2 'HPw5 L 模拟光栅的偏振态 iTqv= LP#CA^*S
p^\>{ pl|<g9 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Z*jhSy 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 lr,hF1r&Y 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 D;d'ss; 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 tAbIT;> [sACPn$f Passilly等人更深入的光栅案例。 ~'v^__8 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 @b-?KH 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 S#2'Jw klv^310
!OC?3W:^_ DCP" 光栅结构参数 tH17Z 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 q'",70"\ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 8Bo'0
由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 r$G;^ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 @fbvu_-].
nb(#;3DQ x\I9J4Q 光栅#1——参数 q\d'}:kfu 假设侧壁倾斜为线性。 oV,>u5:B 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 pd>EUdbrp& 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 h#;fBQ]
光栅周期:250 nm n3~xiQ' 光栅高度:660 nm ~A>3k2N/e 填充因子:0.75(底部) ~wh8)rm 侧壁角度:±6° ~cU,3g n_1:1.46 Gd:fWz( n_2:2.08 /`:5#O F RS@-P
k<8: #H M0s~^w& 光栅#1——结果 9~Q.[ A 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 qhL e[[> 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 EDL<J1% ,i,f1XJ|
yd`.Rb&V evu @uq 光栅#2——参数 <Pg.N 假设光栅为矩形。 \HTXl] 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 GMB%A 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 CNfeHMT 光栅周期:250 nm G)'cd D1 光栅高度:490 nm {Qlvj.Xw 填充因子:0.5 HO&#Lv n_1:1.46 W#-M| n_2:2.08
7&l _2U1$0xK GJ{]}fl ]#+fQR$! 光栅#2——结果 ]U'KYrh 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 1w1(FpQO. 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 oy/#,R_n% l,,5OZw U2@?!B[\d`
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