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摘要 U)S=JT~h U,
6iT 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 "
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JTlk[c =W(*0"RM 任务说明 yU$MB,1 .8hI
ad Mf}M/Fh G=dzP}B'WA 简要介绍衍射效率与偏振理论 6Rd4waj_,U 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 9
_d2u# 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: M[uWX= EeIDlm0o 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 !<bwg 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: }Q7y tE [U\?+@E* 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 N^^0j, #cbgp;,M{I 光栅结构参数 |(7}0]BP0 研究了一种矩形光栅结构。 jm_-f 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 7>JYwU{ 根据上述参数选择以下光栅参数:
&)eg3P)7 光栅周期:250 nm +)]YvZ6%[, 填充因子:0.5 0lw>mxN 光栅高度:200 nm
y(A' *G9 材料n_1:熔融石英(来自目录) g 7oY 1; 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Onmmcem "fFSZ@,r R1jl <= 8h)XULs2 偏振态分析 0=d2_YzSf 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 1Pf(.&/9_ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Vej$|nF 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Zg;$vIhn t=_^$M,yr q5'S<qY^ H=dIZ 模拟光栅的偏振态 *zfgO pK P
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UD I{4+z x)5}:b1B= 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ZWs 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 f^c+M~\JKj 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 qA*~B' 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 A_9WSXR \1EuHQ? Passilly等人更深入的光栅案例。 <,d550GSm Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 >mGH4{H 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Ts iJK ez4!5&TzRm
+`y(S}Z vSzpx 光栅结构参数 Aoa8Q
E
在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 rTD +7
)E 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 >A#5` $i 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 b0P3S!E 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 '3.\+^3
#A63?kDE&& %1z;l. c 光栅#1——参数 P8 X07IK 假设侧壁倾斜为线性。 dj gk7 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 56.!L 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ^@fD{]I 光栅周期:250 nm =C\Tl-$\f 光栅高度:660 nm $ {yct 填充因子:0.75(底部) fHt \KP 侧壁角度:±6° >7U/TVd& n_1:1.46 }$6L]
n_2:2.08 g?j)p y mvn- QP~"
gt kV=V "~KDm(D 光栅#1——结果 6jE.X 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 yR[6s#F/h 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 .qBc;u Pwh}hG1sa
l1KMEGmG U S^% $Z: 光栅#2——参数 l{By]S 假设光栅为矩形。
js$R^P 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 0Tj,TF 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 U)}]Z@I- 光栅周期:250 nm GT{4L]C 光栅高度:490 nm wO??"${OH 填充因子:0.5 Koa9W>! n_1:1.46 w[~G^x& n_2:2.08 (
eV,f x#{!hL
5G 9>RkFV +VwQ=[y] 光栅#2——结果 #UGSn:D<i 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 -L2.cN_ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 6?Ncgj
&@ 7FX4|] .7iRV
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