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摘要 T<joRR ,j ',x\ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 nL}5cPI %|l8f>3[
ow;R$5G h~,JdDV8l* 任务说明 g3sUl&K C4#rA.nF| YyJPHw)Z )|<_cwz 简要介绍衍射效率与偏振理论 vNOH&ja-s 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ]$
b<Gs 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: xf>z @)e XC3Kh^ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 5Wj;
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) 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Q2%QLM:., }Y1>(U 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 V*$L;xbC| 9H]Lpi^OH 光栅结构参数 NOK/<_/ 研究了一种矩形光栅结构。 *Sf-;U 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 uH^PQ 根据上述参数选择以下光栅参数: KZ:8[d 光栅周期:250 nm }^K/?dM 填充因子:0.5 Hj1
EGCA 光栅高度:200 nm rspayO<]3 材料n_1:熔融石英(来自目录) hc$@J}` 材料n_2:二氧化钛(来自目录) aSYs_?&. i_LF`JhEQT rn:!dV[ yWHiw< 偏振态分析 Vjm_F!S 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 do>"[RO 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 W;Jx<-#1 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 L1)@z8] d(*fy} =]Hs|{ MYnH2w] 模拟光栅的偏振态 6vf\R*D|A g#K'6VK{
>1irSUj"~ \Z-2leL)j 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: q cA`)j 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 d2ENm%q*PX 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 fd8#Ng"1 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 8C.!V =@\ SHqyvF Passilly等人更深入的光栅案例。 +MO E Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 9-bG<`v\E 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 #G,XDW2"w Hwe)Tsh e
g>7Y~_} re,.@${H 光栅结构参数 *R`MMm 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 YirC* 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ;
a/cty0Ch 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 X`\:_| 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 kJ: 2;t=
K{}4zuZ "t&{yBQ0u 光栅#1——参数 JF qf;3R 假设侧壁倾斜为线性。 *"G 8 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 VKLU0*2R 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ]s|lxqP 光栅周期:250 nm CYB=Uq, 光栅高度:660 nm `:-J+<` 填充因子:0.75(底部) >e8JK*Blz 侧壁角度:±6° %f[Ep 3D n_1:1.46 ?:|YGLaB n_2:2.08 ,\hYEup /?zW<QUI
`h;}3r#R{ g^o_\hp 光栅#1——结果 a|N0(C 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 qCJ=Z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 yCM{M u2`xC4>c
"jU 12r` ) 光栅#2——参数 S+*cbA{J| 假设光栅为矩形。 &R\XUxI 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ":&|[9/ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 REx[`x,GUh 光栅周期:250 nm YbvX$/zGu 光栅高度:490 nm \!X?zR_ 填充因子:0.5 (
ji_o^ n_1:1.46 {qAu/ixp n_2:2.08 %^^h) Wy} 1XnBK$` tq E>Zx=X )b9I@)C 光栅#2——结果 *#ompm 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ]]V^:"ne 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 DM/hcY$MW 3GWrn,f ag/u8
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