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摘要 GP=&S|hi =7<g;u 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 t
x#(K#/ 0I[3%Q {
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8 ) =BBDh`$R 任务说明 ~ ^)4*@i6 |ea}+N k54Vh=p 47
9yG/+\ 简要介绍衍射效率与偏振理论 of?'FrU 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 2k"!o~s^ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: #
,27,# 0o-KjX?kP 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 g;G.uF& 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: {~eVZVv kY`L[1G$ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 >^%TY^7n (Zv/(SE5% 光栅结构参数 Y'2 |GJc2 研究了一种矩形光栅结构。 CqbPUcK 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 $qh?$a 根据上述参数选择以下光栅参数: F<A[S" 光栅周期:250 nm Ra^GbT|Z 填充因子:0.5 d@_| 光栅高度:200 nm [f\TnXq24 材料n_1:熔融石英(来自目录) >TZyax<: 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 2 1]87$ fkK42*U@r 5$L=l K
na 偏振态分析 NU$?BiB?R 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 U<mFwJ C] 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 eU.HS78 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 T_b$8GYfCY AH#klYK )
v^;"q" lq\/E`fc` 模拟光栅的偏振态 fI1,L" nRlvW{p;
~V<imF %(y0,?* 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: mu}T,+9\ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ZF6?N?t}h8 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 >@9>bI+Q 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 WaYT7 : Erd)P Passilly等人更深入的光栅案例。 S,~DA3 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 [<p7'n3x 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Pf?y!dK< vTY+J$N__
Km9Y_`? `8rInfV 光栅结构参数 W_ hckq. 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ({_Dg43O'[ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 }D>nXhO& 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 1JXa/f+ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 *iVCHQ~
&E&e5(&$ llP
5 光栅#1——参数 :;(zA_- 假设侧壁倾斜为线性。 dy%#E2f 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 $Q cr 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 \E3evU
光栅周期:250 nm s9'lw' 光栅高度:660 nm KixS)sG 填充因子:0.75(底部) o|?bvFC 侧壁角度:±6° E
Z}c8b n_1:1.46 N1O.U"L; n_2:2.08 6(uK5eD(!n }+1Y>W7q
EgT2a ;>duY\$< 光栅#1——结果 Rg!Fu 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 O8drR4Pt 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 xF4>G0 vS{zLXg
DZI:zsf;5Q v9qgfdBS5 光栅#2——参数 G$B( AWL 假设光栅为矩形。 tgP x!5U 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 "A6T'nOP 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 >5Rcj(-&l 光栅周期:250 nm ;Xw'WMb*= 光栅高度:490 nm B8'e,9 填充因子:0.5 8;C_@ n_1:1.46 LK1 r@ n_2:2.08 RS>;$O_(M `N69xAiy ?zD?- _*I@ J/ 光栅#2——结果 @1w9!\7Vt 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 UtebSQ+h\ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Q8kdX6NMd& K2u$1OKv A@kp`-
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