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摘要 M49l2x=]9 3N-pND0>p 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 9Q}g
Vqn |hw.nY]J
uV_%&P GC7 WRA 任务说明 /hu>MZ(\ @XolFOL"f" ,dTmI{@O * 30K}&T 简要介绍衍射效率与偏振理论 p&x!m}! 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 6 5dMv*{ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: gN/>y1{a >h\u[I$7 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ~WTk X(\ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: )dX(0E4Td/ 'nGUm[vh 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ~a[/l #:0-t!<0C 光栅结构参数 aIFlNS,y 研究了一种矩形光栅结构。 `j@1]%&z 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 w-e{_R 根据上述参数选择以下光栅参数: |@'O3KA 光栅周期:250 nm r!dWI 填充因子:0.5 6QY;t:/< 光栅高度:200 nm <fG\J 材料n_1:熔融石英(来自目录) H}5WglV. 材料n_2:二氧化钛(来自目录) m!Z<\2OP =xIZJ8e $'3xl2T 9/29>K_ 偏振态分析 pg4pfi^__V 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 eIalcBY 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 s+lBai*# 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 }' AY#g a24 AmoWx Dho6N]86r s2G9}i{ 模拟光栅的偏振态 x+Xd7N1 8]&:'
iOURS I_v}}h{ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: i m;6$3 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 n_km]~ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 U[f00m5{HV 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 r)'vn[A `T[@ - Passilly等人更深入的光栅案例。 u3+B/ 5x Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Pn">fWRCx 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 e9h@G# &}k7iaO
'1ySBl1> F=e9o*z 光栅结构参数 O[ird`/ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 #mu L-V 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 :Fb>=e 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 @h{|tP%" 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 (4L/I
hvw9i7# ~< bpdI0 光栅#1——参数 Z{0BH{23 假设侧壁倾斜为线性。 3MQZ)!6 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 +`Z1L\gmA 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 >%U+G0Fq 光栅周期:250 nm =9a2+ v0 光栅高度:660 nm 8mreHa 填充因子:0.75(底部)
:9UgERjra 侧壁角度:±6° WMa0L&C~v n_1:1.46 \QK@wgu n_2:2.08 DQXUh#t\(] :'Qiwf&
_ Ncbo#G [v"Z2F<.= 光栅#1——结果 ;yt6Yp.6e 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 INi$-Y+ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 2@zduL'do_ D9oNYF-V
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3QgX4vq 光栅#2——参数 !'jq.RawP 假设光栅为矩形。 CjQO5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 p,fV .5q 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 '9V/w[mI 光栅周期:250 nm %PYl 光栅高度:490 nm dM-cQo: 填充因子:0.5 |
;tH?E n_1:1.46 r<+C,h;aww n_2:2.08 (gBKC]zvz3 S:_Ms{S !LN8=u. ii)#(b:V 光栅#2——结果 hC:'L9Y 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 QQ3<)i 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 m+Ye`] "<ZV'z b&z#ZY
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