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摘要 (\t_Hs::a W Gw!Y1wq 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 oL Vtu5 @f{_=~+
;Q=GJ5`B b/B`&CIA0" 任务说明 knOnUU s
S5fd)x a4(?]ND~6 [z% ?MIT 简要介绍衍射效率与偏振理论 5 n+ e 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 b"M`@';+ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 7grt4k r1ok u0 o 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 b"nG-0JR 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: oU0
h3 Pc)VK>.fc 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 $iqi:vY pAil]f6 光栅结构参数 *)bd1B# 研究了一种矩形光栅结构。 3`k[!! 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 rjL?eTU"s 根据上述参数选择以下光栅参数: +K;Y+
K&;2 光栅周期:250 nm 5U{4TeUH 填充因子:0.5 v0`qMBr1y 光栅高度:200 nm lMwk.# 材料n_1:熔融石英(来自目录) 3gG+`{< 材料n_2:二氧化钛(来自目录) iog #
, mT6q}``vtG .vN%UNu 6!+X.+ 偏振态分析 [Iw>|q<e 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 |,;twj[?4 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 O:;OR'N9 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 eb!s'@ >X[|c"l. *O+R|Cdp/ sK@Y!oF}\ 模拟光栅的偏振态 r+{d!CHq} *#lBQBH|.
/WgPXE B +_
*eu 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 7-".!M 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 LBmM{Gu 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 ;GE26Ymqly 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 C5es2!^-]O F1gt3 ae Passilly等人更深入的光栅案例。 X-kXg)!Bg Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 |5=~(-I>@ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 K`Bq(z?/ -RG8<bI,
]8$#qDS@ EqD^/(,L2 光栅结构参数 EkJVFHfh 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 URYZV8=B~ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 sULIrYRA 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 I %|@3=Yc 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ih>a~U<
>vWEUE[ _1>SG2h{fV 光栅#1——参数 ePp[m
zg6 假设侧壁倾斜为线性。 oL<BLr9> 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 "7=bL7wM& 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 |',M_
e] 光栅周期:250 nm K;oV"KRK 光栅高度:660 nm HLjvKE=W 填充因子:0.75(底部) x3Nkp4=Xd 侧壁角度:±6° JY{X,?s n_1:1.46 tT;8r8@ n_2:2.08 h&lyxYZ+T$ oW0gU?Rr)u
pw@`}cM= m6b$Xyq[ 光栅#1——结果 %'N$lF"] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Y[W6Sc 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 w{PUj B!eK!B
HHz;0V4w? O!;H}{[dg 光栅#2——参数 jcE Msc 假设光栅为矩形。 d9O:,DKf 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 SOVjEo4'3 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 6\NvG,8 光栅周期:250 nm "tqnx?pM 光栅高度:490 nm YWEYHr;%^? 填充因子:0.5 E W`W~h[ n_1:1.46 *oCxof9JA n_2:2.08 P{?;T5ap6 d$w(-tV42 dUIqD l !X-9Ms}(d 光栅#2——结果 ton1oq
这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 4S tjj!ew 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 T/ik/lFI IXnb]q. ;AKwx|I$g
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