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摘要 VsjE*AJpe e{6I-5`|,# 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 lq_(au. hVe39BBtO
qdQQt5Y'm |]UR&* 任务说明 U'oFW@Y;h !V~,aoKTj Gzw9E.Hk `iZ){JfAH 简要介绍衍射效率与偏振理论 y{k65dk- 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 *P;
cSx?2 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: G5!J9@Yi jnzOTS 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 3bBCA9^se 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: $)v`roDD. {Q~HMe`, 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 rUxjm\ IZSJ+KO 光栅结构参数 &$NYZ3?9 研究了一种矩形光栅结构。 |)[I$]L 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 VOkSR6 根据上述参数选择以下光栅参数: NjH`
AMGBT 光栅周期:250 nm n1 填充因子:0.5 4Je[!X@C 光栅高度:200 nm Y2d(HD@ 材料n_1:熔融石英(来自目录) 08MY=PC~R 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Q^ }Ib[ AO~f=GW ={G0p=~+,p !4vepa}Y 偏振态分析 Q`)iy/1M 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 UNF@%O4_T 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 c_Lcsn 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 von<I y"T(Unvc pZ)N,O3 ]WvV*FL9D3 模拟光栅的偏振态 (,I9| 8Xx4W^*_
oXFo SSn{,H8/j 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ncdj/C 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 &B?*|M`)k 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 *b,4qMr 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 77H"= ZbfpMZ g Passilly等人更深入的光栅案例。 `6RR/~kP( Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 b<27XZ@ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 "L&84^lmf MRN=-|fV^
tRVz4fk[G `DS7J\c$ 光栅结构参数 ngOGo = 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 TOw;P:- 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 F10TvJ
U 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 &2sfu0K 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 i)q8p
/2>.*H_2 ksy]t| 光栅#1——参数 ?bGk%jjHXM 假设侧壁倾斜为线性。 S1a6uE 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 +!cibTQTT 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 :$Xvq-#$| 光栅周期:250 nm c>%%'c 光栅高度:660 nm h'.B-y~c 填充因子:0.75(底部) iI Dun Ih 侧壁角度:±6° ows3% n_1:1.46
;[B-!F> n_2:2.08 agd^ga3 -T2w?|
ymb{rKkN3 k!py*noy 光栅#1——结果 _c>8y 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 $1Qcz,4B| 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Jd28/X5& Zg$RiQ^-{J
B &e'n< o[%\W 光栅#2——参数 ]([^(&2 假设光栅为矩形。 s"~3.J 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 LnPG+< 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ^@f.~4P*I 光栅周期:250 nm n;LjKE 光栅高度:490 nm >e!Y 63` 填充因子:0.5 {ObUJ3 n_1:1.46 \Vx_$E n_2:2.08 H;MyT Vl W>(w&k]%B ;r}yeISf mo"1|Q& 光栅#2——结果 #ri;{d^6 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 kD}vK+ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 `(M0I!t *iVEO )]C(NTfxg
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