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摘要 f~& a- [p;*r)f2} 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 wuK=6RL Unl?fXI
-R+zeu(e' Y'm=etE 任务说明 i1*C{Lf;%) [$:,-Q @ c c G['7 Zy$L rr! 简要介绍衍射效率与偏振理论 D(Ix!G/ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 G\Hq/4 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 4!%]fg}Um i*tv,f.( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 6OUvrfC(H 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Cyk s _\AUQ{ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 L4974E?S ?9?4p@ 光栅结构参数 H:}}t]E 研究了一种矩形光栅结构。 }Jxq'B 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 a+(j?_FyI 根据上述参数选择以下光栅参数: $+VgDe5{S 光栅周期:250 nm r#h {$iW 填充因子:0.5 t{(Mf2GR1
光栅高度:200 nm b :\D\X 材料n_1:熔融石英(来自目录) }""p)Y& 材料n_2:二氧化钛(来自目录) OhWC}s w!,QxrOV~ 9]~PCZ2j WM< \e 偏振态分析 E2:D(7(;l 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 h%b hrkD 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Cg6;I.K 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 z[#6-T
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U1\MA6pXW [\HQPo'S oI$V|D3 9 模拟光栅的偏振态 EVz9WY Y?!/>q
-uR{X G. D u8uW9 < 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: -N^=@Yx) 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Uz>Yn&{y6 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 "Z9^} 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 &q>h*w4O gHH&IzHF Passilly等人更深入的光栅案例。 XARSGAuw Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 lZ a?Y@ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 |0w~P
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9S"N4c> sA2o2~AmM 光栅结构参数 }9}w8R~E 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 /,t|
!)\] 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 1}DerX 6 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 /$*; >4=>f 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Jk~UEqr+
g^n;IE$B lxOqs:b 光栅#1——参数 Ns~g+C9 假设侧壁倾斜为线性。 ;_bq9x 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Bfn]-]>sD 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 Zih5/I 光栅周期:250 nm VVN#
$ 光栅高度:660 nm Ei~]iZ} 填充因子:0.75(底部) hs,5LV)|y 侧壁角度:±6° V%o#AfMI_ n_1:1.46 jDp]R_i n_2:2.08 v['AB4 ?:JdRnH \
* S{\#s 8tC + lc 光栅#1——结果 / (.'*biQ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {V=vnL-- 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 X%35XC.n gm}C\q9
2}|vWKej{ ?9,YVylg 光栅#2——参数 .yG8B:7N2 假设光栅为矩形。 sFD!7; 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 6|i`@|# 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 L:Ed-=|Uw 光栅周期:250 nm ew/KZE 光栅高度:490 nm @Z,qu2~|! 填充因子:0.5 k~ZBJ+
94 n_1:1.46 Hc"N&
%X[ n_2:2.08 [I_BCf
{\F2*P @V7;TJk e ^-3etx 光栅#2——结果 l`oT: 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 EqYz,%I% 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 f};!m=b #Xj;f^}/ y K=S!7p\
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