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摘要 #B_Em$ p7SX,kpt> 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 {T;A50
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H]]UsY` *=yUs'brB 任务说明 1=U(ZX+u 6Bv!t2 XFj\H(D s,z$Vt"h*K 简要介绍衍射效率与偏振理论 |A .U~P): 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 aC!e#(q 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: i^<P@ |q 9^yf'9S1 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 0cGO*G2Xr 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: tccw0 <[*%d~92z 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 f&=WgITa z2.9l?"rfQ 光栅结构参数 NY(z3G 研究了一种矩形光栅结构。 *s=jKV# 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 G`;YB 根据上述参数选择以下光栅参数: 3bWYRW 光栅周期:250 nm -'!K(" 填充因子:0.5 +ConK>; 光栅高度:200 nm a9f!f %9 材料n_1:熔融石英(来自目录) to2#PXf]y 材料n_2:二氧化钛(来自目录) aLo^f=S UrC>n wSV}{9}wr% 0c-.h 偏振态分析 /m"#uC!\ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 y3Z\ Y[ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 4+tKg*| 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 o$4i{BL )2pOCAjL2 _VjfjA<c8 :m&cm%W]ts 模拟光栅的偏振态 R>C^duos. o[A y2"e?
y^u9Ttf{ *UerLpf 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: _N @h 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ^CBc~um2 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 n%R l$ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 /#FU" qOqU
CRUe: Passilly等人更深入的光栅案例。 `SfBT1#5G Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 |_h$}~; 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 LvPcH VG=mA4Dd
39yp1 [X&VxTxr 光栅结构参数 IG(1h+5R( 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 }Sx+: N* 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 /0_^Z2 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 id?B<OM 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Gi+ZI{)
rlpbLOG` <Pnz$nH:e 光栅#1——参数 {CaTu5\ 假设侧壁倾斜为线性。 L,/(^0; 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,_iR 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ! N!A% 光栅周期:250 nm e[($rsx 光栅高度:660 nm J1\H^gyW) 填充因子:0.75(底部) C f(g 侧壁角度:±6° 9 *+X^q' n_1:1.46 j*fs [4 n_2:2.08 ~Qm<w3oy AzZb0wW6p
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JEG: 光栅#1——结果 ,7/F?!G!J 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 #*tWhXU 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 i.5?b/l0 F8pP(Wl
U3tA"X.K AdL>?SG% 光栅#2——参数 U{Xx)l/o 假设光栅为矩形。 @s%!R 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,3,(/%=k 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 KmX?W/%R 光栅周期:250 nm v*lj>)L 光栅高度:490 nm 6V&HlJH
填充因子:0.5 EG#mNpxE n_1:1.46 INF}~DN] n_2:2.08 K)&oDwk K?]c ,&ld:v?~ ]m=2 $mK 光栅#2——结果 2_C&p6VGj 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ;56mkP 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 M@a=|N~ d+L!s7 ;8iK] ;^
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