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摘要 >STWt>s g/'MECB 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 d\D.l^ ZB<goEg
1Y\g{A" /J8y[aa 任务说明 ErHbc2 jBarY g $#8dtF jL>IX`,+6 简要介绍衍射效率与偏振理论 G2zfdgW${/ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 6Jrh'6o@ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: BUuNI_?M#5 | Fm( 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 k*[["u^u] 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: hK&jo(V [n44; 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 , 0MDkXb -:dUD1 光栅结构参数 5ZSV)$t 研究了一种矩形光栅结构。 SBgBZm}% 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 I!|_C~I` 2 根据上述参数选择以下光栅参数: S{zi8Oc6 光栅周期:250 nm aI{Ehbf= 填充因子:0.5 6DD"Asi+ 光栅高度:200 nm #Huvn4x 材料n_1:熔融石英(来自目录) {'NdN+_C 材料n_2:二氧化钛(来自目录) JJPU! @~qlSU& 4U*J{''L mADq_`j 偏振态分析 4
>at#Zc 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 J 6D?$ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 b*\K I 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Lo5itW '%vb&a!.6 Az8>^|@ vT#zc)j 模拟光栅的偏振态 ?|s1Cuc hOx'uO`x(
Gt3V}"B3\ 4p\<b8(9> 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: *$1M=$ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 )
wtVFG 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 KuL2X@)} 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 u%3D{Dj }1VxMx@ Passilly等人更深入的光栅案例。 CkKr@. dV Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ~ODm?k 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 *NHBwXg+ $!)Sgb
c=p`5sN) Soy!)c] 光栅结构参数 B2w\ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ^V#9{)B 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 .&:y+Oww~ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 =ZR9zL=h 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 # -e
;[V_w/-u j6]+fo&3 光栅#1——参数 (Z;;v|F.i= 假设侧壁倾斜为线性。
jT}3Zn 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 T[]2]K[&B 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ,K'>s<} 光栅周期:250 nm N3nFE:`u] 光栅高度:660 nm ,:Qy%k}f 填充因子:0.75(底部) |WqEJ*$, 侧壁角度:±6° PY-
1 oP n_1:1.46 EhL
8rR n_2:2.08 l?2(c FKRO0%M4}Z
&7"a.&*9xX {|nm0vg`A 光栅#1——结果 (hWr!(>C4] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 "uf*?m3 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 bL
soKe o!!";q%DX
&.J8O+ /I&Hq7SW` 光栅#2——参数 VO r*YB& 假设光栅为矩形。 y=7WnQc 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ^K*uP^B= 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 {5w'.Z]0v 光栅周期:250 nm z ea=vx>` 光栅高度:490 nm C%_^0#8-0 填充因子:0.5 /J!C2 n_1:1.46 3
r4QB n_2:2.08 hiO:VA acr@erk Jf6uE?. j}$dYbf$ 光栅#2——结果 Au3>=x` 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 l,AK 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 o_;pEe <{!^ wgfy; #
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