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摘要 9 g- 8u+&
;O5Iu 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 83p8:C.Ze #l.s>B4
T|j=,2_ V$oj6i{ky 任务说明 ~2yhZ 57]La^# L/%{,7l<^? JsMN_%y? 简要介绍衍射效率与偏振理论 }W[=O:p 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 B[
D
s?: 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Snp(&TD<< =UWW(^M#[: 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 PlT_]p 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: tB4yj_ZF &OEBAtc/ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 IG2z3(j >IA1 \?( 光栅结构参数 E9t8SclV 研究了一种矩形光栅结构。 \%%M >4c 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 rSm#/)4A 根据上述参数选择以下光栅参数: t("koA=. 光栅周期:250 nm \5=4!Ez 填充因子:0.5 hx/A215L 光栅高度:200 nm St>
E\tXp 材料n_1:熔融石英(来自目录) Ml{4)%~Y7f 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Cy B4apJ 4!-R&<TLve lH@goh 1=!2|D:C)i 偏振态分析 D$rn?@&g 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 oz[G'[\}F 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 e eyZ$n 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 F[F
NtZ /q7$"wP JS<w43/j nLPd]%78> 模拟光栅的偏振态 g2 mq?q(g JRE\R&>g
%\)AT" IlI5xkJ( 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 'P4V_VMK 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 O#>,vf$ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 v:>sS_^ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 osLEH?iKW CP$,fj Passilly等人更深入的光栅案例。 S@~ReRew2 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 +Mn(s36f2 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 s&wm^R c|(Q[=
CWB<I "+
k}#<P4\ 光栅结构参数 m")p]B&i= 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 YG*}F|1 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 7qWa>fX 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 d>r ]xXB6 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 L}A2$@
T8W^qrx.v ou]jm=4[ 光栅#1——参数 km`";gUp> 假设侧壁倾斜为线性。 TQ[J, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 &XXr5ne~C 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 2n#H%&^?a 光栅周期:250 nm e ]2GAJLI
光栅高度:660 nm CwyE8v 填充因子:0.75(底部) :x^e T 侧壁角度:±6° J @IKXhb7_ n_1:1.46 }?O>.W,/ n_2:2.08 ltkA7dUbu 9o]!D,u8=5
e<~bDFH 1:u~T@;" ` 光栅#1——结果 gh `_{l
这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ,Hp7`I>/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 SaRn>n\ ;rnhv:Iw
r $ YEq5 ?f!&M 光栅#2——参数 qK%#$JgqA 假设光栅为矩形。 (S6>^:;=~ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 n*#HokX 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 O>"
|5wj 光栅周期:250 nm _BCq9/ 光栅高度:490 nm 1p<*11 填充因子:0.5 z$(`{
o%a n_1:1.46 *w6F0>u n_2:2.08 wX!0KxR/Z e{^lD.E ogV v 8Xb VmXXj6l& 光栅#2——结果 <^ratz!- 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 [EQTrr(
D 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 (ti E%nF+ M`)3(|4 Z8f?uF
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