介绍
(>x_fDv O:O
+Q!58 在高约束
芯片上与亚微米波导上耦合光的两种主要方法是
光栅或锥形耦合器。[1]
z 4`H<Pn 耦合器由高折射率比
材料组成,是基于具有
纳米尺寸尖端的短锥形。[2]
5l(NX 锥形耦合器实际上是
光纤和亚微米波导之间的紧凑模式转换器。[2]
yYZ0o.<&T* 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。
w8AHs/'r 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅层作为
光学缓冲器,并允许与集成
电子电路兼容。[2]
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Jp`qE Y)v_O_` !Ry4w|w [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
V IU4QEW`x [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
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