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1. 建模任务 2"X~ju 1.1. 模拟条件 I3(d<+M 光源: EML Emitter (Unit source) JNi=`X&A 偶极子方向: Polarization RgZOt[!. Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) ^_W40/c3 波长: 380~780 nm (10 nm step) i%F<AY\O) 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) R/~,i;d> :$%>4+l 1.2 堆栈结构 (` c
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gWPa.'3 2. 建模过程 jn=:G+0 }`_(<H 2.1创建新的项目文件 IPtvuEju\ :c=.D;,
T$P-<s pr rT:Y 2.2 使用材质或层定义 1D 结构
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+TSSi em 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) r,;\/^ u* qINTCm j
NBOCt)C;H 8@eOTzm 3. 结果分析 :NE/Ddgc' }r3~rG<D71 极坐标图结果 yWb4Ify J=H)JH3
?obm7< 3CZS) 等高线图结果 /XbW<dfl m3 -9b"
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