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1. 建模任务 .AF\[IQ 1.1. 模拟条件 w=~X 6[+3 光源: EML Emitter (Unit source) %)e&"mq!| 偶极子方向: Polarization pQ8f$I#v Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) }3-`e3 波长: 380~780 nm (10 nm step) -8S Z}J 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) 3RI %O CGF `mquGk|) 1.2 堆栈结构 zGP@!R`_ { Ut,xi
 k?_ uv 6-\M }xq? 2. 建模过程 (Y"./BDY
d[p?B-7% 2.1创建新的项目文件 +t(Gt0+
>ffQ264g=i
 9CZ EP0i7 GvL\%0Ibx 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 +0:]KG!Zs.
sDkO!P
 6L-3cxqf\ \M*c3\&~,e 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) BD M"";u gbu)bqu2x
 cq$ _$jRx _ ujhD 3. 结果分析 .gCun_td#
= @ 1{LF; 极坐标图结果 "[CR5q9Pr
W}WDj:
 w1+
%+x xBE}/F$ 45 等高线图结果 cfHtUv
+y 48.5
 Z5"5Ge-M
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