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1. 建模任务 ?Ss!e$jf 1.1. 模拟条件 {(?4!rh 光源: EML Emitter (Unit source) +qdEq _ m 偶极子方向: Polarization Uo ix Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) >c}u>] D 波长: 380~780 nm (10 nm step) )Bf Aw 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) YZJyk:H\ 2I{"XB 1.2 堆栈结构 W=4FFl[ ,MIV =*
 Z<{Q aY$" , 9
a 2. 建模过程 U,1-A=Og{o
Yz)qcU 2.1创建新的项目文件 MnW+25= N
FML(4BY,
 P0jtp7 )7 8*a&Jl 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 g<
.qUBPKX
Q=yg8CQ
 eb$#A _m DLNb o2C 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) BING{ew [z9Z5sLO
 0+b1vhQ Yc*; /T} 3. 结果分析 2^yU ~`#
3"\l u?-E 极坐标图结果 P=G 3:eX
%ULr8)R;
 mpJ#:}n )wh A<lC 等高线图结果 ^pk7"l4Xm
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