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1. 建模任务 Q2fa]*Z5 1.1. 模拟条件 <?Lj!JGX 光源: EML Emitter (Unit source) x1Si&0T0P< 偶极子方向: Polarization i, )kI Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization)
Pt1Htt:BE 波长: 380~780 nm (10 nm step) L1D%vu` 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) CX1'B0=\r H>Fy 2w 1.2 堆栈结构 ?ii a 9k *'5(D4S
 h[lh01z \}<nX n! 2. 建模过程 W0nRUAo[
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`T 2.1创建新的项目文件 wi FckF/
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 }2h~ o~ ZAiQofQ:2 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 J7l1-
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 O^IpfS\/ @|cas|U.r 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) =nY*,X u< s+(8KYTs`
 -bs~ { ( E0be. 3. 结果分析 w>!KUT
( ^6SF>' 极坐标图结果 R"82=">v
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