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1. 建模任务 E_T!|Q. 1.1. 模拟条件 5%RiM|+ 光源: EML Emitter (Unit source) >p
9~' 偶极子方向: Polarization <d~si^*\ch Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) 2(H-q( 波长: 380~780 nm (10 nm step) LsO}a;t5 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) '^%k TNn aM YtWj 1.2 堆栈结构 ;"|QW?>$D frT<9$QUL
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2 R'Uf#. 2. 建模过程 aKz:hG I`;SA~5 2.1创建新的项目文件 k8 z1AP Bu"5NB
58P[EMhL n}/4em? 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 K/M2L&C nYE%@Up
'8=/v*j>? vn4z C 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) SM\qd4 `G`yA%
<nc6&+ '9!J' [W 3. 结果分析 ||4T*B06 *USG
p<iH 极坐标图结果 {r'+icvLX ^09-SUl^
`IT]ZAem`/ 5GbC}y> 等高线图结果 9_fbl:qk;\ ($-m}UF\/
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