空间光调制器(SLM.0002 v1.1) gEIjG Zla5$GM 应用示例简述 -9} ]J\
J;+tQ8,AP 1. 系统细节 z[0L?~$ 光源 6aK'%K — 高斯光束 gmLGK1 组件 f";70}_ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 "}*P9-% 探测器 3lMmSKN — 视觉感知的仿真 _:+W0YS — 电磁场分布 ^TVica 建模/设计 Yt++? — 场追迹: $V]D7kDph* 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 {(o\G"\<XY @NlnZfMu 2. 系统说明 ~ d/Doi } !pC}m Os*,@N3t 3. 模拟 & 设计结果 DvF`KHsy )+RGXVp 4. 总结 o(]kI?`
r9%4q4D?>9 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 _T6WA&;8 6JmS9ho 第1步 *1ekw#' 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 3xsC"c> VHM ,W]
第2步 &w*.S@ ; 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 WUQ2[)< B*zb0hdo: 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 :o*{.
NVS U)# 应用示例详细内容 OC#o JwC
@+syD 系统参数 g`y
>)N/
d5T0#ue/e 1. 该应用实例的内容 _;yp^^S j{7_p$JM bo <.7 2. 设计&仿真任务 i'L7t!f}o
FGr0W|?v 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 x(hUQu 6 -F4CHpua 3. 参数:输入近乎平行的激光束 <&8cq@< pA!+;Y!ZB< A_{QY&%m 4. 参数:SLM像素阵列 Fw!5hR`,
/]>&OSV r@e_cD]
M 5. 参数:SLM像素阵列 G( nT.\ x|U]x n~8-+$6OR 应用示例详细内容 'hVOK(o0
bNFX+GA/ 仿真&结果 d{9rEB?
lR{eO~'~V 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 3`n5[RV 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 '@AK0No\W 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 00%$?Fyk 5A7!Xd 2. VirtualLab的SLM模块 %ia/i :
VaZS_qGe:
6@wnF>'/\
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 H }uT'
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ^\e:j7@z
Y_p 3. SLM的光学功能 @-qxNw
>>(2ZJ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 w/d9S(
为此,将区域填充因子设置为60%。 yHCQY4/ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 T d4 /3k ok-sm~ bp 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd h}q+Dw.i _S,2j_R9 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 O(~`fN?n q}ZZqYk 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd V>g EF'g fk*JoR.o 4. 对比:光栅的光学功能 S?OK@UEJ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 zST#X} 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 fT[6Cw5w` 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 x\3 ` W 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 +SrE 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Gd%6lab
}UXj|SY
KP_=#KD 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $SG^, !!&A
RNRMw;cT 5. 有间隔SLM的光学功能 ~bigaY 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。
Ca@[]-_H QMy;?, 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd @`wBe#+\ z.e%AcX 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ]AERi]
B Z)P x6\?+ V,|l&- 6. 减少计算工作量 : 60PO []3xb`<&
]8+%57:E 采样要求: u-OwL1S+ 至少1个点的间隔(每边)。 Te$/[`<U 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 jn]hqTy8 fa\<![8LAU 采样要求: 7fI[yCh 同样,至少1个点的间隔。 s3g$F23 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 B(Y{ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 ^=OjsN Fdm7k){A 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Z>o;Yf[ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 TjD`<k 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 }=s@y"[" 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 v :6`(5 JP!$uK{u 3 c@Cb`w@
<~"q z*_ 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
fAUtqkB 7. 指定区域填充因子的仿真 n@T4z.*~lA
6by5VESx 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Bq79Ev
.- 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 \{{B57/Isq 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 */nb%QV 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 q$:T<mFK$ $o/?R]h nt "VH5
8. 总结 *Z|!%C 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 KNIYar*3 ;o%r{:lng 第1步 Z(/jQ=ozQ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 NjYpNd?g B964#4&
9 第2步 xzW]D0o0 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 VH#]67 扩展阅读 "JJ )w0 扩展阅读 GG(rp]rgl 开始视频 tz1iabZ{ - 光路图介绍 'V 1QuSd 该应用示例相关文件: 3<m"z9$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 RBt"7 '
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Wf0ui1@