空间光调制器(SLM.0002 v1.1) =u;q98r ,MvvW{EY 应用示例简述 pwZ &2&|
Q o= 1. 系统细节 O0$ijJa| 光源 J|DWT+$#Z — 高斯光束 lJYv2EZ 组件
?5GjH~ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 dO8Z {wfs 探测器 X*Q7Yu — 视觉感知的仿真 'Gt`3qG — 电磁场分布 cxv)LOl- 建模/设计 XqwdJND — 场追迹: 1Gqtd^*; 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 _9gn;F _|Dt6 2. 系统说明 jyT(LDsS :iWV:0)P c`jTdVD 3. 模拟 & 设计结果 tllg$CQ5 2 rBF<z7 4. 总结 2'}2r ~6
4Sl^cKb$7 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 :m~lgb< r-0
7!A 第1步 4{Ak| 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 %FRkvqV* ;kF p)*i 第2步 J *B`C^i 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 0y1t%C075 50Jr(OeU< 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 |JDJ{;o
x-QP+M`Pu 应用示例详细内容 ZEMo`O
j>:T)zhyY 系统参数 97g-*K
lGz0K5P{ 1. 该应用实例的内容 @Uu\x~3y E:tUbWVp N1$P6ZF 2. 设计&仿真任务 FPMk&
0VZj;Jg}q 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 >*(>%E~H 0CR;t`M@ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 @rF\6I 0t&H1xsxX 4CCux4)N 4. 参数:SLM像素阵列 K_xOY
*
7wnzef?) D0P% .r"v 5. 参数:SLM像素阵列 lyPXlt i_@RWka< S.jjB 应用示例详细内容 Rju8%FRO
+!Ltn 仿真&结果 Y^G3<.B
`iI"rlc 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 2uTa}{/% 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 vB{b/xmah 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 f#t^<`7 >KPJ74R 2. VirtualLab的SLM模块 <j#EyGAV
E~P0}'
Uu+C<j&-
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 m0"\3@kB
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 rZv+K/6*M
(AYS>8O& 3. SLM的光学功能 aiHr2x6
GP$Y4*y/ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 )8SP$ 为此,将区域填充因子设置为60%。 k
))*z FV 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 %np#Bv-L ar|[D7Xrq\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd (0Cszm. ,LZ:y1z'V- 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 x,dv~QU d@tr]v5 B 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd l'T0< <^Tj}5)n 4. 对比:光栅的光学功能 02[II_< 1 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 )mdNvb[*n 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 s>\g03= 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 jVIpbG44 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 BT3O_X`u 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 o3qv945
@UX@puK`/
]LTc)[5Zj 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #:|?t&On
l`&6W?C 5. 有间隔SLM的光学功能 J36@Pf]h 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 &|'6-wD. ?8@*q6~8 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd yXx62J QtQ^"d65 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ]ECZU ;;!{m(;LS} [Z\1"m 6. 减少计算工作量 8
-;ZPhN& qk,y |7p
(H+[ ^(3d2 采样要求: Vor9
?F&w 至少1个点的间隔(每边)。 !h>$bm 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 "n }fEVJ, ~^~RltY 采样要求: tcEf
~|3 同样,至少1个点的间隔。 hX%v`8 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 ddDJXk)!0 随填充因子的增大,采样迅速增加。 Az9J{) ;}~Bv<# 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ',`4 U F 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 8M+F!1-# 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 _np>({ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 zl
0^EltiU up3<=u{>
0C+yq'D~[
l=~99mE 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
B4Af 7. 指定区域填充因子的仿真 u6I0<i_KZ
k`mrRs 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 B9)qv>m 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 <VR&=YJ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ((>3,%B` 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 A|_%'8 7W firRM OGi4m |
8. 总结 bA^:p3 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 'a/6]%QFd! D3AtYt 第1步 1\J1yOL 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 us,,W(q nB Iv{ 第2步 x*"pDI0k) 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 xiOrk 扩展阅读 |XA aKZA 扩展阅读 X1V}%@3: 开始视频 zV(tvt - 光路图介绍 JS7}K)A2B6 该应用示例相关文件: 5A]LNA4i - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 V?V)&y] 4
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 (:bCOEZ