空间光调制器(SLM.0002 v1.1) hg#O_4D h&n1}W+ 应用示例简述 AJE$Z0{q
T\(k=0RM 1. 系统细节 =FI[/"476 光源 t%J1(H — 高斯光束 13w(Tf 组件 3Pgokj
— 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 tK/.9qP 探测器 wW/q#kc — 视觉感知的仿真 F#M(#!)Y" — 电磁场分布 K#AexA 建模/设计 gujP{Z — 场追迹: 'TuaP`]< 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 2ZEGE+0 2 2. 系统说明 $evuL3GY# zH6@v+gb gzqp=I[% 3. 模拟 & 设计结果 m{?f,Q=u@ EApbaS}Up 4. 总结 ZTz07Jt
'21gUYm 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 EwU)(UK "om7 :d 第1步 V $w
lOMp 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 0Ci/-3HV! #0Y_!'j 第2步 #vxq|$e 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Bt(<Xj D k4dC 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Ez0zk9
^r(My} 应用示例详细内容 i,a"5DR8
'&B4Ccn<V 系统参数 P/|1,Sk
1ONkmVtL 1. 该应用实例的内容 / +% y32$b,%Xi, @v2ko5 2. 设计&仿真任务 D_0Vu/v
PWiUW{7z 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 cPNc$^Y wN4#j}C 3. 参数:输入近乎平行的激光束 !Kg']4 #o4tG SnQT1U% 4. 参数:SLM像素阵列 #IM.7`I
VDbbA\ 62qjU<Z 5. 参数:SLM像素阵列 y7fy9jQ
8. o25rKC=o 5HV+7zU5 应用示例详细内容 )B0%"0?`8
G_S>{<[ 仿真&结果 }}QR'
uI/
wR! 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM
r9})~>
由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 kt978qfk 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 -m%`Di!E qGV_oa74 2. VirtualLab的SLM模块 (jDz[b#OPz
%ERcFI]G
=zcvR {Dkp
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 bPU
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必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ?Z7QD8N
Zob/H+] 3. SLM的光学功能 hDW!pnj1
D![v{0 er 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 2H)4}5H 为此,将区域填充因子设置为60%。 3uqhYT; 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 w>&*-}XX 0<-E)\:[g 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Yg^ &4ZF ro{!X, _$, 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 sI!H=bp-8 T`ibulp 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd t~->&Ja W-=6:y#A 4. 对比:光栅的光学功能 tX{yR'Qhu 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 qUkMNo3 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Cku"vVw, 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 YNEwX$)M,B 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 5 8bW 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 e"nm< &
CI'RuR3y]Z
!qt2,V 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >X*tMhcb
f~`=I NrU 5. 有间隔SLM的光学功能 L(Y1ey9x 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 7Q}pKq]P o}OY,P 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd }Y~Dk]* d~LoHp 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 FE~D:)Xj'? fK J-/{| ?h= n5}Y 6. 减少计算工作量 Z[oF4 z BzzC|
g4IF~\QRVi 采样要求: $9)os7H7 至少1个点的间隔(每边)。 G,u=ngZ] 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 m8q4t,<J !_S#8" 采样要求: -50DGA,K6 同样,至少1个点的间隔。 B/twak\ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Joow{75K 随填充因子的增大,采样迅速增加。 A~?M`L>B hsC T:1i 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 n|( lPbD 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Hn|W3U 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 0HzqU31%l@ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 sg2;"E@ b}[S+G-9W ?:(y
tW\yt~q, 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
82r8K|L.<y 7. 指定区域填充因子的仿真 $R9D
L^iD
@)Qgy}*5 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 OM86C 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ;Shu 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ]; w 2YR 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 YvR bM akj<*, Abc{<4 z0?
8. 总结 |Y9>kXM l 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~tDYo)hH8 d:=' Xs 第1步 WtT;y|W 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 kf,
&t MmF&jd-= 第2步 ~ao:9ynY 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 bi<<z-q`wJ 扩展阅读 ,06Sm]4L, 扩展阅读 J9^NHU 开始视频 <b 5DX - 光路图介绍 kDmm 该应用示例相关文件: .u-a+ac< - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Ak'=l;
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 D"7}&Ry: