空间光调制器(SLM.0002 v1.1) kxR!hA8wv4 *&tTiv{^ 应用示例简述 +s6v!({Z
uzI-1@` 1. 系统细节 AV4fN@BX 光源 #Cx#U"~G` — 高斯光束 jZQ{XMF 组件 A)gSOC{3F) — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 e _(';Lk 探测器 Qp7F3,/# — 视觉感知的仿真 gi>W&6 — 电磁场分布 0Y'ow=8M 建模/设计 l$kO%E' — 场追迹: Fn0|v66 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 >oN Wf |&@`~OBa 2. 系统说明 4 aE{}jp1 W56VA>ia i&p6UU 3. 模拟 & 设计结果
.<E7Ey# H )>3c1 4. 总结 7PuYrJ
0176 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Mnk-"d b@Dt]6_UL 第1步 XwfR/4 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 S_nAO\h NcHU) 第2步 A^$xE6t 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 (sI`FW_ =.OzpV)=V 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ~W={"n?=
`A5n6*A7 应用示例详细内容 )#GF:.B
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]D`b6p 系统参数 <CJy3<$u
ji\&?%(B 1. 该应用实例的内容 =HB(N|9 _d Q/]o'_[vW LitdO>%#2 2. 设计&仿真任务 W'=}2Y$]u
jse!EtB: 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 a\~118 ! l^KCsea# 3. 参数:输入近乎平行的激光束 BJ\81 R `>b,'u6F SSbx[<E3 4. 参数:SLM像素阵列 "'GhE+>Z
@y'ZM I}f7|hYX 5. 参数:SLM像素阵列 ,t;US.s([. *0?@/2& r&Qa;-4Pl 应用示例详细内容 j:>0XP
QoZZXCU 仿真&结果 :>o0zG[;f
p@Cas 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM !! )W` 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 @H3x51PT(m 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 2`%a[t@M. Ml;` *; 2. VirtualLab的SLM模块 sekei6#fi
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 x]`@%8Sm
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 tl*h"du^
Mu-kvgO`L 3. SLM的光学功能 Wv9L}@J
&cJ?mSI 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ~'0ZW<X. 为此,将区域填充因子设置为60%。 61_-G#W 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 )''V}Zn.X q_ryW$/_ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd _%Ua8bR$ =kzp$ i 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 80T2EN:$ kM1N4N7 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd (fr=N5 _h1eW9q 4. 对比:光栅的光学功能 CWRB/WH: 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 !4FOX>|L@ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 L|:CQ 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 RLL%l 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 /3tErc' 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 _Gaem"k|
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= &?&}pVF 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #qR 6TM&;
r>i95u82' 5. 有间隔SLM的光学功能 o)n)Z~ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 @V:Y%#% EY3F9h3xM| 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd _dz ZS(7M6 2eeFaFif 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 tLN^k;w <1Sj_HCT 0!KYi_3 6. 减少计算工作量 ~e]B[>PT pwS"BTZ
5GgH6 采样要求: ^k$Bx_{ 至少1个点的间隔(每边)。 ,EVPnH[F~ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 '
Q(kx*; SdYbT)y 采样要求: WiB~sIp 同样,至少1个点的间隔。 /DyeMCY- 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 QxxPImubB 随填充因子的增大,采样迅速增加。 yzT1Zg_ER {:VK}w 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 <?}pCX/O 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 vr{|ubG]d 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 qsXkm4 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 2
'D,1F s^IC]sW\% Fw{#4
vM!2?8bEFd 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
.-mIU.Nwi 7. 指定区域填充因子的仿真 .boBb<
:4Nv6X61 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 2#3`[+g<n 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 V_D wHq2 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 =EM<LjO 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 G3+e5/0 ts@Z5Yw*! ^ <`SUBI
8. 总结 DR3om;Uk 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 y6-P6T *{j;LA.BR# 第1步 zTfjuI|R 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 8-7Ml3G* DEhR\Z! 第2步 %e0X-tXcmX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ]v),[]Xs 扩展阅读 ?V+\E2 扩展阅读 D|m0Vj b 开始视频 \v\ONp" - 光路图介绍 T,uF^%$@AQ 该应用示例相关文件: $joGda - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 2-N7%]h
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 skan1wQ