空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Ulj2Py} #OJ^[Zi< 应用示例简述 g@MTKqs
pL-p 1. 系统细节 TL]2{rf~ 光源 wbd>By(T1 — 高斯光束 7k+UCiu> 组件 qFe|$rVVIl — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 sb4r\[? 探测器 "* %=k%' — 视觉感知的仿真 kSB)}q6a — 电磁场分布 NkNw9?:#4 建模/设计 9g^@dfBV — 场追迹: #`y7L4V*o 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ^Bm9yR B`"-~4YAf 2. 系统说明 j,EE`g& [g&Q_+,j `hM]5;0 3. 模拟 & 设计结果 uZm<:d2%) 7"
Dw4}T 4. 总结 <^n9?[m*
;P5\EJo 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 VIAj]Ul *|_u~v:)|5 第1步 Pa0tf: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 1i bQ'bZ ;`X -.45 第2步 Rp}6}4=d 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 s)
V7$D Qs#v/r 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 =J0FT2 d
@hl5^d"l 应用示例详细内容 'e;*V$+
Qi6vP& 系统参数 YCw^u
47`{ e_YP0 1. 该应用实例的内容 akJ{- pOIFO=k 2ZIf@C{P. 2. 设计&仿真任务 ?kE2S6j5
cl:*Q{(Cjk 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 w
V27 }-:
d*YtK 3. 参数:输入近乎平行的激光束 t~sW]<qjp ;S,g&%N lSXhHy 4. 参数:SLM像素阵列 3w!oJB
tQo"$ JN} r-4I{GPb 5. 参数:SLM像素阵列 (t<i?>p -}4 H'%Z(i f=}u;^ 应用示例详细内容 '~3(s?B
\ E[0KvN;O 仿真&结果 c7wza/r>
=E4nNL? 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Br\/7F 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Qbt
fKn95 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 K# _plpr
,2 &'8:B 2. VirtualLab的SLM模块 ^C<dr}8
_or$^.='
z-krL: A
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 xv4nYm9
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 >a_K:O|AJ
~;bwfp_ 3. SLM的光学功能 0A5xG&
}@1LFZx 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 Y$oBsg\v 为此,将区域填充因子设置为60%。 "]zq<LmX 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 2R<1^ iDHmS6_c 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ,ZMYCl] -bo0!@MK 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 d{ OY &W.tjqmw 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 8 hWQ r~t&;yRv 4. 对比:光栅的光学功能 TN/I(pkt1B 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 {oz04KGsH 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 c!w4N5aM 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 :4(7W[r6 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ':.d,x) 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。
Ge(r6"%7
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MzJ5_} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd CZwZ#WV6
%,6@Uu#%6 5. 有间隔SLM的光学功能 M{O2O( 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 :Tj,;0#/ QD\S E 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd #-e3m/> NbkWy 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 DrMcE31 T3M 4r| _|*3uGo: 6. 减少计算工作量 (qohb0 r}*2~;:pW
.0\Wu+ 采样要求: sjShm 至少1个点的间隔(每边)。 HQf[T@ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 atl0#F Bd {&K#~[) 采样要求: `33h4G 同样,至少1个点的间隔。 {yspNyOx 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 mnu7Y([2> 随填充因子的增大,采样迅速增加。 &?zJ|7rh@| .HGEddcC 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 X)~JX}-L 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 v]_{oj_(- 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 puMpUY 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 QM;L>e-ZY vQBfT% &Q- 8iX?4qj{P
7F+w o 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
gI\J sN 7. 指定区域填充因子的仿真 w ="I*7c@
;=UrIA@y;= 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Q6}`% 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 : 2?i9F0_ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 !f7}5/YC7v 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 jL`S6E?7 W.0dGUi* {u9VHAXCf
8. 总结 ;[dcbyu@ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 4fpz;2% E;-R<X5n 第1步 UXIq>[2Z1 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 eeB^c/k(P NG S/lKz 第2步 0YIvE\- 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 LvW9kL+WiQ 扩展阅读 ,gkxZ{Eh 扩展阅读 Ce`{M&NSWX 开始视频 8 kd - 光路图介绍 nC[L"%E|se 该应用示例相关文件: s "*Cb* - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 ApS/,cV
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 W@pVP4F0xM