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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) hg#O_4D  
    h&n1}W+  
    应用示例简述 AJE$Z0{q  
    T\(k=0R M  
    1. 系统细节 =FI[/"476  
    光源 t%J1(H  
    — 高斯光束 13w(Tf  
     组件 3Pgokj   
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 t K/.9qP  
     探测器 wW/q#kc  
    — 视觉感知的仿真 F#M(#!)Y"  
    — 电磁场分布 K#AexA  
     建模/设计 gujP{Z  
    — 场追迹: 'TuaP `]<  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 2ZEGE+0  
    2  
    2. 系统说明 $evuL3GY#  
    zH6@v +gb  
    gzqp=I[%  
    3. 模拟 & 设计结果 m{?f,Q=u@  
    EApbaS}Up  
    4. 总结 ZTz07Jt  
    '21gUYm  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 EwU)(UK  
    "om7 : d  
    第1步 V$w lOMp  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 0Ci/-3HV!  
    #0Y_!'j  
    第2步 #v xq|$e  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Bt(<Xj D  
     k4dC  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 Ez0zk9  
    ^ r(My}  
    应用示例详细内容 i,a"5DR8  
    '&B4Ccn<V  
    系统参数 P/|1,S k  
    1O NkmVtL  
    1. 该应用实例的内容 / + %  
    y32$b,%Xi,  
    @v2ko5  
    2. 设计&仿真任务 D_0Vu/v  
    PWiUW{7z  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 cPNc$^Y  
    wN4#j}C  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 !Kg ']4  
    #o4tG  
    SnQT1U%  
    4. 参数:SLM像素阵列 #IM.7`I   
    VDbbA\  
    62qjU<Z  
    5. 参数:SLM像素阵列 y7fy9jQ 8.  
    o25rKC=o  
    5HV+7zU5  
    应用示例详细内容 )B0%"0?`8  
    G_S>{<[  
    仿真&结果 }}QR'  
    uI/ wR!  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM r9})~>   
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 kt978qfk  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 -m%`Di!E  
    qGV_oa74  
    2. VirtualLab的SLM模块 (jDz[b#OPz  
    % ERcFI]G  
    =zcvR {Dkp  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 bPU i44P  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ?Z7QD8N  
    Zob/H+]  
    3. SLM的光学功能 hDW!pnj1  
    D![v{0er  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 2H)4}5H  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 3uqhYT;  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 w>&*-}XX  
    0<-E)\:[g  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Yg^ &4ZF  
    ro{!X,_$,  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 sI!H=bp-8  
    T`ibulp  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd t~->&Ja   
    W-=6:y#A  
    4. 对比:光栅的光学功能 tX{yR'Qhu  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 qUkM No3  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Cku"vVw,  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 YNEwX$)M,B  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 5 8bW  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 e"nm<&  
    CI'RuR3y]Z  
    !qt2,V  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd >X*tMhcb  
    f~`=I NrU  
    5. 有间隔SLM的光学功能 L (Y1ey9x  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 7Q}pKq]P  
    o}OY,P  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd }Y~Dk]*  
    d~LoHp  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 FE~D:)Xj'?  
    fK J-/{|  
    ?h= n5}Y  
    6. 减少计算工作量 Z[oF4 z   
    BzzC|  
    g4IF~\QRVi  
    采样要求: $9)os7H7  
     至少1个点的间隔(每边)。 G,u=ngZ]  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 m8q4t ,<J  
    ! _S#8"  
    采样要求: -50DGA,K6  
     同样,至少1个点的间隔。 B/twak\  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Joow{75K  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 A~?M`L>B  
    hsC T:1i  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 n|(lPbD  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Hn|W3U  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 0HzqU31%l@  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 sg2;"E@  
    b}[S+G-9W  
    ?:(y  
    tW\yt~q,  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    82r8K|L.<y  
    7. 指定区域填充因子的仿真 $R9D L^iD  
    @) Qgy}*5  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 OM86C  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。  ;Shu  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 ] ; w 2YR  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 YvR bM  
    akj<*,  
    Abc{<4 z0?  
    8. 总结
    |Y9>kXMl  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~tDYo)hH8  
    d:=' Xs  
    第1步 WtT;y|W  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 kf, &t   
    MmF&jd-=  
    第2步 ~ao:9 ynY  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 bi<<z-q`wJ  
    扩展阅读 ,06Sm]4L,  
    扩展阅读 J9^NHU  
     开始视频 <b 5DX  
    -    光路图介绍 kDmm  
     该应用示例相关文件: .u-a+ac<  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Ak'=l;  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    D"7}&Ry:  
     
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