空间光调制器(SLM.0002 v1.1) "m +Eu|{ PETrMu< 应用示例简述 kRNr`yfN
c38RE,4U 1. 系统细节 P8!Vcy938 光源 S!8eY `C. — 高斯光束 i_ws*7B< 组件 zR
h1 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 [P)'LY6F
探测器 y
%Get — 视觉感知的仿真 bTZ/$7pp9 — 电磁场分布 I_.(&hMn 建模/设计 # 'G/&&< — 场追迹: 6gwjrGje\ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Woa5Ov!n0 RL |.y~ 2. 系统说明 )0`;leli |J2_2a/" cv;&ff2%? 3. 模拟 & 设计结果 w[\*\'Vm0 bW<_K9" 4. 总结 OQaM4 7"
o!L1Qrh 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 <aa#OX /A\'_a| 第1步 0trVmWQ8 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 NuI9"I/ mbv\Gn#> 第2步 Rct|"k_"Ys 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 /pgfa-< sR,]eo<p& 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 3sc5meSu'
3v;o`Em& 应用示例详细内容 0F=UZf&
eS fT+UL 系统参数 AuUT 'E@E
nlXg8t^G 1. 该应用实例的内容 9>u2;
'Ls K+Q81<X~ VJBVk8P 2. 设计&仿真任务 xy46].x-
<(`dU&&%"} 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Ya*lq!
u jVL<7@_* 3. 参数:输入近乎平行的激光束 meu\jg QE84l ^M6v;8EU 4. 参数:SLM像素阵列 -(~Tu>KaH
VYTdK"% LW?] ~| 5. 参数:SLM像素阵列 X'.}#R1 QD]Vfj4+ l"RX`N@In 应用示例详细内容 &}32X-~y
m'Z233Nt" 仿真&结果 YNc%[S[u^1
r Efk5R 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 2/=CrK 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 &tw.]3 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 B<DvH"+$ Smo^/K`f9 2. VirtualLab的SLM模块 ##Z:/SU
/@R|*7K;9
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 yk!,{Q?<$
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 OJ8W'"`L&
<%hSBDG!x 3. SLM的光学功能 Gv>,Ad
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Y oNg3 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 u91;GBY 为此,将区域填充因子设置为60%。 QXishHk& 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 J6Hw05%0= tvP_LN MF 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 5FtbZ1L pA"x4\s 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 T({:Y. A; Un^QNd> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ?;,s=2 h|yv*1/| 4. 对比:光栅的光学功能 4LtFv)i 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Zw| IY9D 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 );}k@w
fw) 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 5g&.P\c{ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 s6OnHX\it7 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Mr<2I
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x8.7])?w 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd `"H!=`
"^ydoRZ 5. 有间隔SLM的光学功能 )^
R]3!v 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 i&-g 0
UMm<HQ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd !e&ZhtTuC 'I($IM 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 +Qt=N6> ]7O)iq% apF!@O^}y 6. 减少计算工作量 C 6Bh[:V& l^:m!SA_
m'KY;C 采样要求: jiYYDGs77 至少1个点的间隔(每边)。 ~KDx 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 enj Ti5X a)MjX<y 采样要求: skR/Wf9DH 同样,至少1个点的间隔。 <>A:Oi3^ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 1}tZ,w> 随填充因子的增大,采样迅速增加。 $@FD01h.t3 2JYp.CJv 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 %Xh/16X${ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 |]RV[S3v 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 @SDsd^N{2P 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 xM9EO(u gq*- v:P> Vs]+MAL
BXO(B'1)] 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
\bCm]wR 7. 指定区域填充因子的仿真 lInq=
Ra'0 ^4t 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 A)2vjM9}K 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 5UVQ48aT 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 n }7DL8 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 HDIB GG~ _YWw7q sT[)r]`T
8. 总结 im>Sxu@ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Z_QSVH68A 0J_ AX 第1步 XrYMv
WT 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。
02Ur'| $7a|
9s0 第2步 xQ>c.}J/i 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 %RL\t5TV 扩展阅读 8JAA?0L"' 扩展阅读 fa=#S 开始视频 3%/]y=rA - 光路图介绍 /wK5YN.em 该应用示例相关文件: j2cLb - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 U
u(ysN4`
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 TYw0#ZXo