空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ;^*W+,4WB GefTdO.& 应用示例简述 x;d6vBTUb
h]gp ^?= 1. 系统细节 >bW#Zs,6 光源 oPM96
( — 高斯光束 CdQ!GS<'y 组件 Y3b *a".X — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 `;C V=,M 探测器 D,feF9 — 视觉感知的仿真 7:1Lol-V — 电磁场分布 *]X'( /b_ 建模/设计 ~>|ziHx — 场追迹: SJ,v?=S! 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 vs4>T^8e e"<OELA 2. 系统说明 |{ip T SH !|(NgzDP/ MTn{d 3. 模拟 & 设计结果 7.oM J "to;\9lP 4. 总结 =^?/+p8k
?@86P|19 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 U xGApK=X qE"OB 第1步 <5051UEu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 !Uo4,g6r+ oEv'dQ9 第2步 |6-nbj 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 mfr|:i guR/\z$D@C 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 GbI/4<)l}
N!}f}oF 应用示例详细内容 I?CZQ+}Hq
oB7_O-3z 系统参数 W>r+h-kR
;$4\e)AB 1. 该应用实例的内容 ~n_HP_Kf? "tK=+f`NM |G<|F`Cj 2. 设计&仿真任务 f o3}W^0
~}
~4 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 *;FdD{+ pb,d'z\S 3. 参数:输入近乎平行的激光束 tH4B:Bgj! -9?]IIVb R=?[Nz 4. 参数:SLM像素阵列 }@)[5N#A|
;'1d1\wiDQ ueNS='+m 5. 参数:SLM像素阵列 53h0UL !4!~Lk= 6y<EgYzdE 应用示例详细内容 &p,]w~d,U
L~3Pm%{@A 仿真&结果 !G|@6W`
(8OsGn 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM U<XG{<2 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 zt%Mx>V@ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 zbiL P83 LzL
So"n 2. VirtualLab的SLM模块 8P`"M#fI
a+QpM*n7Lq
I/N *gy?*
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 XWw804ir
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 RnN!2K
@4#vm@Yf_ 3. SLM的光学功能 6eCCmIdaM
zuCSj~ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 nk:)j:fr 为此,将区域填充因子设置为60%。 O6Y0XL 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 V]^$S"Tv 2an f$^[ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd khd4ue$ xSu > 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 F'Z,]b'st3 d;>QhoiL 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Bw.i}3UT6 uAk.@nfiEv 4. 对比:光栅的光学功能 7EJ+c${e.- 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 X>^fEQq" 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 =~gvZV-< 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 6\t@)=C,Q 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Y:`&=wjP~ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 /wv0i3_e
7 8,n%=nG
m {}Lm)M 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd jiGTA:v
y7<|_:00 5. 有间隔SLM的光学功能 Wn6Sn{8W{ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 Gm`8q}<I (k P9hcV 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd QGz|*] Nboaf 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 4ppz,L,4
:11
A V[V[~;Py 6. 减少计算工作量 qgB_=Q#E L},_.$I?
3' 'me 采样要求: =pr7G+_u 至少1个点的间隔(每边)。 s#MPX3itK 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 *^r}"in atzX;@"K 采样要求: |BYRe1l6l 同样,至少1个点的间隔。 @9:uqsL 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 -RLOD\ZBh 随填充因子的增大,采样迅速增加。 HKe K<V ig"L\ C"T 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 DfB7*+x{ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 bMBLXk 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 H*6W q 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 A(X KyEx v^PO|Z #z42C?V
"jCu6Rj d 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
c " ,*h 7. 指定区域填充因子的仿真 ,z6~?6m
0"#HJA44 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ,u m|1dh 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 0\$2X- c 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 &Qm@9I s 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 [ hsds\ #E]59_
W3RT{\
8. 总结 z%kULTL 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 92{\B-
l JtZ7ti 第1步 6:2vP
NF 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 X?Au/ ]^]wP]R_ 第2步 IA(5?7x`< 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Ca\6vR 扩展阅读 V.Mry`9- 扩展阅读 ;kK/_%gN-G 开始视频 8>V5dEbx' - 光路图介绍 .(vwIb8\_ 该应用示例相关文件: 11lsf/IP - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 v,t:+
!8
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 ^}r1;W?n