空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Q<zL;AJ a2UER1Yp" 应用示例简述 Mq42^m:qe
[+gX6 1. 系统细节 <8!mmOK1 光源 |A7Yv — 高斯光束 iBxCk^ 组件 S
D]d/|y — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 QY-P!JD 探测器 Xca Y'k# — 视觉感知的仿真 Q5r cPU>A — 电磁场分布 SS
O$.rp 建模/设计 G=!Y ~q g — 场追迹: W$N_GR'4 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 DyG3|5s1R y ']>J+b0 2. 系统说明 >
zh%CF$ O~9
%!LAu ;f[Ki$7 3. 模拟 & 设计结果 -n!.PsGO> )& %X
AW{ 4. 总结 "Z }'u2%\m
sqei(OXy 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 @= 6}w_ R8Lp8!F' 第1步
v%/_*69a 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 KI-E=<zt R7e`Wn 第2步 %#02Z%?% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 c_O|?1 '%V ;oJ" 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 kE,~NG9P
jIZQ/xp8_ 应用示例详细内容
,L\OhT
joAR;J 系统参数 Z5[ t/
QZ"Lh 1. 该应用实例的内容 Bca\grA .gv J;A7 :bW}*0b- 2. 设计&仿真任务 W&}R7a@:<~
D^04b<O<x 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 QT9(s\u ^g~Asz5] 3. 参数:输入近乎平行的激光束 *@dRL3c^= "xa<Q%hk |
3!a= 4. 参数:SLM像素阵列 BGodrb1
4NQS'*%D IJs*zzR 5. 参数:SLM像素阵列 g/mVd;#o 6t*pV
[ >UE_FC*u 应用示例详细内容 MH 'S,^J
G!8O*4+A 仿真&结果 e~W35Y>A
g>_6O[;t% 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM O=MO M 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ]3NH[&+ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 )mB+#T<k- ]H[RY&GY 2. VirtualLab的SLM模块 TRcY!
XtNe) Ry
I/Hwf
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 %8yfFrk
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 T#|Qexz6 @
S@z$,}Yc`< 3. SLM的光学功能 f/&Dy'OV7
<)uUAh 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 R4_4 FEo 为此,将区域填充因子设置为60%。 x5WFPY$wM 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 /$! /F@^ Gz+Bk5#{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 1[[`
^v (%oZgvM 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 WT;=K0W6& @7"xDgA 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd F6}Pwz[c KY! 4. 对比:光栅的光学功能 I$n 0aR6 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Pc nr 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 14]!LgH 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 \%KJ+PJ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 &[3 xpi{v 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 fS>W-
%Fa/82:- "
']ya_ v~e 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd #y&3`N z3
yXh=~:1~ 5. 有间隔SLM的光学功能 I
.p26 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 8ysU.5S drBWo|/ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd js^@tgf$x& d8C?m*3J 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 YKJk)%;+w T@U_;v|rf 2Y(Phw2% 6. 减少计算工作量 |[>`3p"& 6|V713\
z[M LMf[c 采样要求: 9b``l-rO 至少1个点的间隔(每边)。 6Hi3h{ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 Gx|$A+U s_hf,QH 采样要求: H~i+:X=I 同样,至少1个点的间隔。 \;&j;"c,W 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 E
b-?wzh 随填充因子的增大,采样迅速增加。 c+f~>AaI JX7_/P 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 O"<D0xzF? 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 _"&b%! 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 |P$tLOrG 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 =<YG0K 3Nd&*QSV .5 p"o-:D
W2O
=dG` 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
H1yl88K 7. 指定区域填充因子的仿真 r,(rWptf4
'v GrbmK 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 >2x[ub%$L 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 *NS:X7p!V 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 BKP XXR 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 EoD;'+d \l?\%aqm yd$_XWp?\
8. 总结 #(j'?|2o% 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ^ b{0|: f>k]{W Y 第1步 0.'$U}#b 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <.HX_z3l 0j %s
H 第2步 ts`c_hH,1' 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @]uvpI!h 扩展阅读 V2Q2(yvdJ 扩展阅读 H5'/i; 开始视频 x9 bfH1 - 光路图介绍 \L>3E#R-Q 该应用示例相关文件: :aI[
lZ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 }xcA`w3u2?
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 F.i*'x0u