空间光调制器(SLM.0002 v1.1) S1Q2<<[ 2#z 6= M~A 应用示例简述 y~)rZ-eSB
L(tA~Z"k 1. 系统细节 57/9i>
@ 光源 odxsF(Q0p — 高斯光束 ^4@~\#$z 组件 _%G)Uz{3 — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 F,0@z/8a 探测器 i~\fpay — 视觉感知的仿真 %mR roR6 — 电磁场分布 ZKKz?reM' 建模/设计 %JBFG.+ — 场追迹: <1tFwC|4BJ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 FC.d]XA%/d 8D[8(5 2. 系统说明 fm2,Mx6 >Lo 0,b$ /s.O3x._' 3. 模拟 & 设计结果 ODn6%fp% JZ6{W 4. 总结 +5pK[%k
y(&JE^GfX 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 =|IB= d%l_:M3 第1步 mG[S"?C 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 ~@ZdO+n? [9f
TN2'z 第2步 @MIBW)P< 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 T1bPI/ H!U\;ny 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 W69
-,w/
l1^/Q~u 应用示例详细内容 XWvT(+J
4`@]jm 系统参数 t ZUZNKODW
G5W6P7-<X 1. 该应用实例的内容 *<*{gO?Q4 -|^}~yOx0= usiv`.
2. 设计&仿真任务 Dt,b\6
5Cxh>,k 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 E@\e37e @xR7>-$0p 3. 参数:输入近乎平行的激光束 m7X&"0X $ wGDk Xv3u}nPMq 4. 参数:SLM像素阵列 Q!/<=95E
%&KJtKe z'a#lA.$} 5. 参数:SLM像素阵列 <{@?c 8cn)ox|J[ WT Pp/Nq' 应用示例详细内容 REnd#
V2x
6U;pYWht 仿真&结果 <>GWSW
\&\_[y8U 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM F/9]{H 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 IdTeue 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 Z!Sv/5xx vQ=W<>1 2. VirtualLab的SLM模块
2V(ye9
~Nf01,F
\dj&4u3
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 ! *\)7D
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 b u%p,u!
CBx 1.xL 3. SLM的光学功能 cSCO7L2E18
TkhbnO g6 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 BMU}NZA 为此,将区域填充因子设置为60%。 \7Hzj0hSi 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 E>Ukxi1 quc?]rb 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd P<GY"W+rR ]g-(|X~> 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 3F2> &p|7 ^7v}wpwX\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd j>~^jz: \{J gjd 4. 对比:光栅的光学功能 iRo UM.% 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 M= !Fb 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 &,+G} 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 p,}-8#K[ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 &
Sy0Of 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 B9|!8V
`),7*gn*)
%Rv&VFg 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Gxv@ a
|Q:$G!/ 5. 有间隔SLM的光学功能 b_-ESs]g 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 4xhV
+Y QQPbKok> 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd NylN-X7[# gT-'#K2qT 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 9Q-/Yh =IV_yor a*hOT_;# 6. 减少计算工作量 i`7{q~d= 6FG h=~{3,
L?&+*|VxI 采样要求: CJg & 至少1个点的间隔(每边)。 iZ#dS}VlJ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 :bwdEni1P a#FkoA~M 采样要求: E-_)w 同样,至少1个点的间隔。 /,$;xt-J35 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 9Am&G 随填充因子的增大,采样迅速增加。 7CYu"+Ea R'qB-v. 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 %1SA!1>j 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 is?`tre\P 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 l5Z=aW Q 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 -h^FSW($-R n[n0iz1- }!\NdQs
4;Z`u.1 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
_CAWD;P 7. 指定区域填充因子的仿真 [&t3xC,
3 8pw 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 Htl6Mr*{ 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 2\l7=9 ]\3 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 %!%3jo0t 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 <<@\K,= Gnp,~F" i;lzFu)G
8. 总结 N72z5[.. 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 iN+Dmq5 QKc3Q5)@j 第1步 6@g2v^ % 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 4ao
oBY$ \$^ z. 第2步 4Ub_;EI> 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 ESiNW&u2 扩展阅读 l>h%J,W 扩展阅读 >4}+\ Q`S 开始视频 w7p%6m - 光路图介绍 X<\^*{ 该应用示例相关文件: #Bj{
4OeV - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 (*7edc"F
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 I!9u](\0