空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Z bW!c1s{ t !8(I R 应用示例简述 QkFB\v
0&~JC>S 1. 系统细节 oSf6J:?*e 光源 H|Y*TI2vf8 — 高斯光束 !+k);;.+ 组件 QO/nUl0E — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 :'
=le*h 探测器 K/YXLR + — 视觉感知的仿真 #0"Pd8@ — 电磁场分布 :@RX}rKG 建模/设计 b FMBIA| — 场追迹: FUP0X2P 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 s/l>P~3= ;b5^)S 2. 系统说明 DL*&e|:q ]Sey|/@D 'uW&ADp 3. 模拟 & 设计结果 GI<3L K\ w61*jnvi@ 4. 总结 _,<@II
,/YTW@N 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 1`sTGNo 8 7z]qE 第1步 ;=UkTn}N?l 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 e#AmtheZR +h)1NX;o1 第2步 Ihd{tmr< 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Pil_zQ4 ?$ Dc> 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 TFNB%|
7Y%Si5 应用示例详细内容 z41v5rB4
/ M@[ 8 系统参数 + MtxS l
dC/@OV)0# 1. 该应用实例的内容 ;d.gVR_V M+VAol}1 uC! dy 2. 设计&仿真任务 &X6hOc:``\
VBtdx`9 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 `)tIXMn (]nX:t 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Y6`^E P9o=G=i z.~jqxA9 4. 参数:SLM像素阵列 <2e[; $
M2nWvU$ 2@!B;6*8q 5. 参数:SLM像素阵列 4$y P_3 #l
6QE=: eGLB,29g 应用示例详细内容 Os/?iGlD*E
0}"'A[xE 仿真&结果 :rU,7`sE/
A!v:W6yiz 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM &a+=@Z)kf 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 LvCX(yjZ* 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。
T|2v1Vj RB9ZaL\ 2. VirtualLab的SLM模块 (e#f
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 y" |gC!V}
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 %R<xe.X
XM) 3. SLM的光学功能 `PT'Lakf;3
q8}he~a 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 h!7Lvh`o 为此,将区域填充因子设置为60%。 tC5>K9Ed 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 zJ_y"bt r&_e3#]* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd nE56A#,Q, pV`/6
} 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 CY\D.Eow
D,()e^o 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd "TVmxE%( 8v)iOPmDC 4. 对比:光栅的光学功能 :m<#\!? 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ,F n-SrB: 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 T@Z-;^aV 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 abp\Ih^b 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 =imJ0V~RW 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 pjma<^|F
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\zeu vD 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $WO{!R
@SI,V8i 5. 有间隔SLM的光学功能 2$'bOo 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 L^=G(op* YRCOh:W* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd *;F:6p4_ fRHzY?n9; 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 6),!sO?
S~>R}= et/v/Hvw1 6. 减少计算工作量 yG;@S8zC !;Ke# E_d
uDLj*U6L 采样要求: _j*a5fsPU 至少1个点的间隔(每边)。 ^v+p@k 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 G_M8? G0 <*9(m 采样要求: ,b:~Vpb1I 同样,至少1个点的间隔。 {w@9\LsU 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 PsZ>L 随填充因子的增大,采样迅速增加。 P&yB(M-z G E? \Vm 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ght3# 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 cgO<%_l3` 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 wB:<ICm 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 AY;[v.Ff4 yq1G6hw '<>?gE0Cd
ErgWs Aw- 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
p=\Q7<Z6d, 7. 指定区域填充因子的仿真 }Syd*%BR[
0\,! 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 -!V{wD3,B 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 yMC6 Gvp 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 T=RabKVYP 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 S~R[*Gk_uT 5#y_EpL" =\mJ5v"hA
8. 总结 ~z,qr09 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 d%RH]j4 4$81ilBcL 第1步 $<"I*l@ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 (g&@E(@]? Xtloyph 第2步 ~SmFDg$/m 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 s< Fp17 扩展阅读 CSz+cS 扩展阅读 2 .\"Q 开始视频 %
[~0<uO - 光路图介绍 ;rNX 该应用示例相关文件: 3E0C$vKM - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 m4yWhUi(o
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 t,Q"Pt?