空间光调制器(SLM.0002 v1.1) !v/j*'L<M} )gX7qQ 应用示例简述 cZ8lRVaWW
8PN/*Sa 1. 系统细节 ]lBe 光源 'eM90I%( — 高斯光束 Z)V m,ng 组件 FI.Ae/(U — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 0<g;g%
探测器 $x5,Oe n — 视觉感知的仿真 4Sj;38F
.1 — 电磁场分布 O"'.n5>:` 建模/设计 ;N+
v x — 场追迹: |6qxRWT" 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 R,3E_me"} @ve4rc/LI 2. 系统说明 7z.(pg= /mdPYV YwbRzY-#F 3. 模拟 & 设计结果 ,]:vk|a#; ] ^f7s36 4. 总结 ">{Ruv}$
a'NxsByG]s 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 jruXl>T!U \>B$x@-wg 第1步 |3Fo4K%+ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 $A4rdhvd =)h<" 2 第2步 G<F+/Oi&DX 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 `&3hfiI} /]xu=q2 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 9S<87sO
I "8:IF 应用示例详细内容 fX:)mLnO/
RFsd/K; Zp 系统参数 5hhiP2q
4t C-msTf 1. 该应用实例的内容 $ 8"we t)#dR._q i8h(b2odQ 2. 设计&仿真任务 a&sVcsX
#!A'6SgbkM 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 f *Xum[ ^#6"d+lp 3. 参数:输入近乎平行的激光束 qI] PM9 # bqo+b{i\ 4. 参数:SLM像素阵列 U-U^N7
T[~8u9/ gI~4A, 5. 参数:SLM像素阵列 )2nx5" $uPM.mPFE P#8+GN+bF 应用示例详细内容 G{ |0}
CMcS4X9/} 仿真&结果 ?g~w6|U(r
?Aq
\Gr 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM P"Scs$NOU? 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 tom1u>1n 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 +#B4Z'nT )s#NQ.T[ 2. VirtualLab的SLM模块 T>~D(4r|pS
;0Vyim)S]
x|7vN E=Q
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 he
vM'"|4
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 Gp l
=\QKzQ'BC 3. SLM的光学功能 +i\ +bR
lc:dKGF6 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 3 L:s5 为此,将区域填充因子设置为60%。 wt@Qjbqd8 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 ~ z< &vQ= *X_-8 ^~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 71RG1, M0B6v}^H 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 ?k 4|;DD ,k9@%{4 l 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 2cB){.E A89n^@ 4. 对比:光栅的光学功能 6Mh;ld@ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Juhi#&`T 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 v^;p]_c~2 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 96VJE,^h 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 D*nNu]|j 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 Au=9<WB%H
,GU|3
odPdWV,&* 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd y8HwyU>
E7CeE6U 5. 有间隔SLM的光学功能 u@@0YUa 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 G
$F3dx.I .5tE, (<? 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd YKWiZ #GlQwk3 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 aFbIJm=! Li? _P5+a 1DTA Dh0 6. 减少计算工作量 pBb fU2p TwaK>t96[
-|FSdzvg 采样要求: hoDE*>i 至少1个点的间隔(每边)。 4Y>J,c 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 )-u0n], yu~o9 采样要求: 2~wIHtd 同样,至少1个点的间隔。 'g@Yra&09 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 lQq&tz, 随填充因子的增大,采样迅速增加。 nZtP!^# fqY;>Z 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 a*D])Lu[ 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 drM@6$k 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 JO&~mio 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 -".q=$f MT3TWWtZ: &yabxl_
Ld9YbL: 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
A><q-`bw 7. 指定区域填充因子的仿真 '=V!Y$tn
4H]~ ]?F& 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 GdlzpBl 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Rn4Bl8z'> 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 tx9;8K3 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ?6#F9\ 5.TeH@( BPwn!ii|
8. 总结 }}Kjb 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *^@{LwY\M d$?sS9"8( 第1步 &|
guPZ 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 nl\l7/}6 [e6zCN^t 第2步 )<+t#5" 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 xis],.N 扩展阅读
ib,BYFKEW 扩展阅读 ..=WG@>$+ 开始视频 $-Yq?: - 光路图介绍 [J-uvxD 该应用示例相关文件: #86=[*Dr - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 V:Lq>rs#
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 ~rl,Hr3Zo