空间光调制器(SLM.0002 v1.1) mw";l$Aq} 4(Gs$QkSo| 应用示例简述 $A,fO~
X*VHi 1. 系统细节 sF^3KJ| 光源 &Al9%W — 高斯光束 >tXn9'S 组件 LGZ5py=xb — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 5fPYtVm 探测器 $/5<f<%u&) — 视觉感知的仿真 +J30OT8 — 电磁场分布 a@Tn_yX 建模/设计 Lc(D2=% — 场追迹: 0{g @j{Lbz 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 ,A9pj k' Ffk$8" 2. 系统说明 h[72iVn +,<\LIP t QkEJ
pj 3. 模拟 & 设计结果 :Jwc'y-] q/~U[.C 4. 总结 ik02Q,J
#$7 z 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 awN{F6@ZE YP{)jAK 第1步 5"Q3,4f 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 DG}YQr.L cy8+@77 第2步 #<|5<U 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 j$<uE{c 68?oV)fE 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 L+2!Sc,>
0o2o]{rM{2 应用示例详细内容 GCCmUR9d
tyFhp:ZB 系统参数 Tyt:Abym=
'jWd7w~( 1. 该应用实例的内容 jXq~ x"( }7YDe'5V e_s9E{( 2. 设计&仿真任务 |E$Jt-'
=0 W`tx 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 +N1oOcPC>C 4} uX[~e& 3. 参数:输入近乎平行的激光束 f)hs>F {Buoo~ ^! /7 4. 参数:SLM像素阵列 aCzdYv\} &
c\~H_ ~F }LQ*vD-Jj 5. 参数:SLM像素阵列 4qo4g+ e\i K T5_z^7d 应用示例详细内容 #+Z3!VS
^Cb7R/R3 仿真&结果 0/P!rH9
eA9U|&o 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM "GoNTM5h 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 vr56
f1 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 <e"O`*ZJ M"[s5=:Lo 2. VirtualLab的SLM模块 OQ"%(w>Hb
:Z(?Ct&8
d!/@+i
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 mN3}wJ}J
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 x bF*4;^SI
yA_;\\ 3. SLM的光学功能 e"(l
|qbCmsY5/ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。
Xm`s=5% 为此,将区域填充因子设置为60%。
3U=q3{%1 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 qQN&uBQ[ rZ<0ks 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd AH`D&V ;hR!j!3} 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 l=*^FK]L` -'+|r] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ])h={gI UI|L;5 4. 对比:光栅的光学功能 }CZ,WJz= 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 EB jiSQw 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Nw $io8:d
通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 c.jq?Q k 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 h-h U=I8 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 6'ye-}vD-
K6=-Zf
a%f{mP$m 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Ga~N7
+kTAOfM 5. 有间隔SLM的光学功能 RGYky3mQK 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 %lNWaA jzV*V< 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd g(<02t!OT= GyJp!
xFB 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ^T"9ZBkb V[,/Hw~d% 8yax.N
j 6. 减少计算工作量 J]ivIQ pVn6>\xa
JbzYr]k 采样要求: ~!~VC)a* 至少1个点的间隔(每边)。 8h9t8? 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 _m;cX!+~_ iQ*JU2;7t 采样要求: ||hy+f[A 同样,至少1个点的间隔。 D
h ]+HF 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 f2[z)j7 随填充因子的增大,采样迅速增加。 |GE3.g PYr#vOH 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 =O1CxsKt6 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 mU:C{<Z 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 vrn IEur 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 !.iu_xJ R6dw#;6{I 0*VRFd4
Cca(
oV 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
X obiF 7. 指定区域填充因子的仿真 UV)[a%/SB&
W5}.WFu 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 m}6GVQ'Q 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 C]*9:lK 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 %^^2 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 xuO5|{h {.SN dW;{,Q
8. 总结 JI )+ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 #QZg{ -"Lia!Q]M 第1步 2i',
e 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 O<S*bN>BF 2tCep 第2步 2f`u?T 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 4PTHUyX 扩展阅读 T*\'G6e 扩展阅读 ]eb9Fq:N7 开始视频 /YHBhoat - 光路图介绍 UBpYR>
<\ 该应用示例相关文件: fS-#dJC";` - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 9g>]m6
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 ujB:G0'r