空间光调制器(SLM.0002 v1.1) 7HYwLG:\~ YPI-<vM~ 应用示例简述 R.<g3"Lm>
(TT}6j 1. 系统细节 V(!V_Ug9. 光源 {]4LULq — 高斯光束 $6R-5oQ 组件 Nu)NqFG, — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 H3-hcx54T 探测器 sc#qwQ# — 视觉感知的仿真 5*u+q2\F — 电磁场分布 \1M4Dl5! 建模/设计 gL/9/b4 — 场追迹: ) ;Y;Q 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 O+x!Bg7 >uEzw4w 2. 系统说明 >Y@H4LF;1x G7/ +ogV {(Es(Sb}c 3. 模拟 & 设计结果 W: z;|FF aV0"~5 4. 总结 Xne1gms
=~LJ3sIX 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。
6(R<{{ +D*Z_Yh6 第1步 4Ftu 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 <<O$ G7c AbW6x 第2步 C\hM =% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 JC}D`h 1s;Saq+ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 _Y m2/3!
|CbikE}kL 应用示例详细内容 (S Yln>o
?:eV%`7 系统参数 #fM`}Ij.A
lPAQ3t!, 1. 该应用实例的内容 w_V P
J Z0r'S]fe %iqD5x$OA 2. 设计&仿真任务 vW@=<aS Z
<9b&<K: 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ;}p [{/jI\?v 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ChQxa )D%~`,#pQ J]r^W)O 4. 参数:SLM像素阵列 7F.4Ga;
l9"s>P U ZS o) 5. 参数:SLM像素阵列 j B{8u&kz) f*
wx< %\:Wi#w> 应用示例详细内容 b|(:[nB
"d}Gp9+$VY 仿真&结果 V0Hj8}l;M
&uVnZ@o42 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ;mi%F3 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 akTk( 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 M
D#jj3y F((4U"
2. VirtualLab的SLM模块 x.4m|f0;
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 (^>J&[=
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 K:WDl;8(d
PQE=D0 3. SLM的光学功能 2B`JGFcdcB
iU:cW=W|M\ 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 \
B%+fw 为此,将区域填充因子设置为60%。 43 :X,\~) 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 !p/goqT~dY |1Z)E+q*: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd BFt> 9x]T !ubD/KE 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 wdoR%b{M f?)-}\[IR{ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd J9 I:Q<; YchH~m| 4. 对比:光栅的光学功能 )YI(/*+] 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 O33`+UV"W 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 4I(Xy]wm 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 H6gSO(U 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 Kf-JcBsrT 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 c4z R*
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UL9n-M= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd L\iFNT}g`
7mfS*aCb 5. 有间隔SLM的光学功能 L4l!96]a 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 d0 /#nz Ht&YC<X 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd |+"(L#wk a09<!0Rp 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 ~bpgSP" Xlt|nX~#; XB5DPx 6. 减少计算工作量 {f p[BF )=-szJjXZ
e8b:)"R 采样要求: YA5g';$H* 至少1个点的间隔(每边)。 Yz93'HDB 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ?Ss!e$jf ??/
'kmd 采样要求: lk80#( :Z 同样,至少1个点的间隔。 Jfl!#UAD|n 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 K"@M,8hb 随填充因子的增大,采样迅速增加。 '}#9)}x! t.C5+^+% 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 Ssg&QI 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 J4U1t2@)9 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Mrb) 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 0C,`h` 1m0c|ckb 3HK\BS
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@fk] ]R 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
E&:,oG2M 7. 指定区域填充因子的仿真 o3}3p]S\
% %UE+u@J 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 q-d:TMkc 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ( &x['IR 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 6;5Ss?ep 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 "5$B>S(Q eb$#A _m 1[-tD0{H
8. 总结 IMONgFBS 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 y1L,0 ] A\5L
7 第1步 "U"Z 3* 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 'H <\x )whA<lC 第2步 <1M-Ro?5k 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Ozf@6\/t 扩展阅读 ;gr9/Vl 扩展阅读 r",GC] 开始视频 SByW[JE - 光路图介绍 y"wShAR 该应用示例相关文件: FzC'G57Kl - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 DM>eVS3}
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