空间光调制器(SLM.0002 v1.1) bg ,}J/ #c^Q<&B 应用示例简述 #8z,'~\
sv;zvEn;-L 1. 系统细节 Ke ?uE 光源 Vf?#W,5>= — 高斯光束 jOb[h=B" 组件 H{f_:z{{ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 }91mQ`3 探测器 <nvWC/LU — 视觉感知的仿真 _onp%* — 电磁场分布 3] qlz?5 建模/设计 Hk]BC — 场追迹: $&8h=e~]- 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 O$Vm#|$sq h6h1.lZ 2. 系统说明 (oXN >^-D m"G N^V7
Is@a,k 3. 模拟 & 设计结果 N}Ks[2 }o^A^ 4. 总结 uit-Q5@~
eUkoVr 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 kP)o=\|W{z v\Y}(fD 第1步 5FSv"= 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 gOyY#]g b.4Xn0-M 第2步 _g 4/% 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 <}
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xD 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 I/Jp,~JT*
&ZE\@Vc 应用示例详细内容 >J}n@MZ
{(OIu]: 系统参数 tin|,jA =
z@~&Kwf\} 1. 该应用实例的内容 }[z<iij4 z9 w&uZzi f9,EWuQNS 2. 设计&仿真任务 P/pjy
+oy&OKCa 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 .H^P2tp @%<?GNS O 3. 参数:输入近乎平行的激光束 hoR=%pC* yIIETE ^$IZLM?E~ 4. 参数:SLM像素阵列 GzFE%< 9F
-@L's{J{M :B=8_M 5. 参数:SLM像素阵列 wm=RD98 ns#~}2"d qon{
g 应用示例详细内容 0[lsoYUq
u<]mv 仿真&结果 )_8}53C
*J_iXu| 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM -~][0PVL9 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 9&%#nN4`8 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 _(6`{PWY 6z3T?`}Y 2. VirtualLab的SLM模块 8PBU~mr
#+"4&:my
sz/ *w 7
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 "#pzZ)Zh
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 (`6%og#8
j/9WOIfa 3. SLM的光学功能 sS2_-X[_
{y-2 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 :)p)=c8% 为此,将区域填充因子设置为60%。 O4EIE)c 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 d=XpO*v,[ 't(}Rq@ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd st?gA"5w / Mod=/e 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 l(%k6 Sty!atEWT 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd k&)K( ]U,CKJF%/ 4. 对比:光栅的光学功能 9g
Bjxqm 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 S
Pn8\2Cj 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 P8wy*JvT 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ^/>Wr'w 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 {'h_'Y`bOQ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 x(PKFn
pe()f/Jx(
Gg%tVQu 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd -J,Q;tj
r C_d$Jv 5. 有间隔SLM的光学功能 s`hav 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 u7;`4P:o@ u#`+[AC` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd W+gpr|R2 HG2GZ}~^1 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 /_V'DJV &%^K,Q" I%@e@Dm,h 6. 减少计算工作量 +UxI{,L Y@Y`gF6F
QDS0ejhp 采样要求: XHs d- 至少1个点的间隔(每边)。 ?6i;)eIOI 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 +YTx
2;G98H 采样要求: mD7}t 同样,至少1个点的间隔。 \a\= gn 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 S5N@\ x 随填充因子的增大,采样迅速增加。 %>Bko,ET v~"Ef_` 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ~m=$VDWm 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Xo Y7/&& 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 Z_FNIM0f 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 XaW4C-D& K;x~&G0= 2F1ZAl
W;q+, Io 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
}W$8M>l 7. 指定区域填充因子的仿真 ASW4,% cl
o(qEkR:4kd 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 zmI5"K"'F 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 %M9;I 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 -#aZF2z 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 =}v ;1m 1Bg_FPu vU!8`x)
8. 总结 IIxJqGN: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 /7gi/uh~-( IaLMWoh 第1步 Seda } 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 aG!
*WHt R&#tSL 第2步 nUc;/ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 KCUU#t|8V\ 扩展阅读 BwxnDe G) 扩展阅读 :y#T9R9 开始视频 QR"bYQ - 光路图介绍 +8AvTSgX% 该应用示例相关文件: 3]/.\(2 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 2n|CD|V$ux
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 J &YQ]l