空间光调制器(SLM.0002 v1.1) MA,*$BgZ 1~t.2eU G 应用示例简述 D%~tU70a
[3"F$?e5 1. 系统细节 -nXP<v=V 光源 k:I,$"y4 — 高斯光束 Pr1qX5> = 组件 y{/7z}d — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 }[Z'Sg]s 探测器 ("\{=XAQ — 视觉感知的仿真 jB8Q% {% — 电磁场分布 dzEi^*
(8 建模/设计 L/Q[N^ (^ — 场追迹: Asv]2> x 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 Z/%FQ QuqznYSY{ 2. 系统说明 OL>)SJj5 M#;
ks9 GQ;0KIN 3. 模拟 & 设计结果 ep=r7Mft `mzlOB 4. 总结 &EqLF
+9w[/n ^,G 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ka~_iUU4 U xBd14-R_ 第1步 <mQXS87 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 tsAV46S U3X5tED 第2步 _8a;5hS 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 qFD ZD)K ,U3 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 eJ99 W=
H"FK(N\ 应用示例详细内容 .JPN ';
X>8,C^~$1 系统参数 QkBw59L7
g%&E~V/g$ 1. 该应用实例的内容 7pm'b,J< !HvA5'|:} @khFk.LBD 2. 设计&仿真任务 d.FU))lmD
U?#wWbE1 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 wAKHD*M) xj3qOx$ 3. 参数:输入近乎平行的激光束 fZ$b8 hyH[`wiq $Z:O&sD{ 4. 参数:SLM像素阵列 053bM)qW
#RBrii-, 3PE.7-HF 5. 参数:SLM像素阵列 {Sf[<I
H)Btm D5,]E`jwu 应用示例详细内容 )i~AXBt}
m\56BP-AM 仿真&结果 jVQy{8{G
vN Bg&m 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM t3@+idE b 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 YNr"]SA@ ; 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ;Z]Wj9iY G&ck98 2. VirtualLab的SLM模块 fB8, )&
PMfW;%I.
zmo2uUEd
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 +>"s)R43
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 gQ_<;'m)2
4j={ 9e< 3. SLM的光学功能 >v]^nJl
G?s9c0f 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 cUY- 为此,将区域填充因子设置为60%。 )[ V8YiyU 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 KqK]R6> F\m^slsu7= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd .d<K` .O; rYb5#aT[ 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 wZ(1\
M( lq-KM8j 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ,8e'<y =W~7fs 4. 对比:光栅的光学功能 V$?6%\M^* 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 S(gr>eC5 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 |Xt.[1 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 E_
wVAz3 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 y
bhFDx 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 2:38CdkYp
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ui%#f1Iq 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd $
VT)
]l,D,d81 5. 有间隔SLM的光学功能 q3x"9i
` 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。
7kLurv ,Y:oTo=~ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd sY;h~a0n jZA1fV 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 uj8saNu Z[#8F&QV!m $gl|^c\ 6. 减少计算工作量 eC-&.Fl p:~#(/GWf
0z>IYw|UB 采样要求: 4|?(LHBD) 至少1个点的间隔(每边)。 y\??cjWb] 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 }b4 56J A%^?z. 采样要求: Y/sav; 同样,至少1个点的间隔。 j9fBl:Fr 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 f Fi=/} 随填充因子的增大,采样迅速增加。 tK3$,9+ "9; 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 fEBi'Ad 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 Qsbyy>o) 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 [j6]!p]S$ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 G#%Sokkb' #(tdJ<HvC| QD-\'Bp/X
k6#$Nb606 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
y6$a:6 7. 指定区域填充因子的仿真 HM% +Y47a
lf=G 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 #N][-i 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Zf$mwRS[_ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 Tb]7# v 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 ^]o
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8. 总结 KpGx<+0p 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 2bCfY\k Q&I # 第1步 - +a,Ej 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 {iyJHY &k'<