空间光调制器(SLM.0002 v1.1) HS.^y
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hk_ 应用示例简述 `"@g8PWe
gF0q@M y~ 1. 系统细节 V`RNM%Y 光源 S3@|Q\*r — 高斯光束 q-`RI*1] 组件 9!Ar`Io2@ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ]ZoD'-, 探测器 pFm=y#!t — 视觉感知的仿真 DF
g,Xa# — 电磁场分布 %<\6TZr 建模/设计 c1_5, 1U' — 场追迹: $YXMI",tt< 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 MzP7Py
8. %uoQ9lD' 2. 系统说明 0k'e:AjP OKP9CLg9
m1IKVa7-\} 3. 模拟 & 设计结果 =e}H'5?! \2(SB 4. 总结 \/SQ,*O
}?@rO`:EF+ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 z OSs[[ k $fGom 第1步 Q3 eM2i8Y 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 `iJhG^w9M X5]TY] 第2步 ncX/L[L 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Sje wuIi1 *5wu
产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 uU> wg*m
I0'[!kBF| 应用示例详细内容 O4g+D#Lu
Bcjx>#3?L 系统参数 78Aa|AJU
s%!`kWVJ. 1. 该应用实例的内容 %&Fk4Z}M "&/]@)TPz )m&U#S _; 2. 设计&仿真任务 "ywh9cp
+hRmO 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 YqV8D&I AWjm~D-? 3. 参数:输入近乎平行的激光束 ?6k}ii!c cNKUu~C+ Lqp8yVO 4. 参数:SLM像素阵列 M^7MU}5w
+@Ad1fJi `Bw9O%]-S 5. 参数:SLM像素阵列 k78Vh$AA6% g'l?~s`SB yE\wj 应用示例详细内容 S/`%Q2za4
+'G0 {;b 仿真&结果 Otz E:qe
x-'~Bu 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 6 8iV/7 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ]O`
{dnP 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 <X_!x_x E_1="&p 2. VirtualLab的SLM模块 : 5U"XY x@
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 o3Vn<Z$/Cl
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 \#rO!z
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zD)pF1,7:8 3. SLM的光学功能 ,WQ^tI=O
/EMJSr 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 a1.|X i'/z 为此,将区域填充因子设置为60%。 j+8TlVur 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 3p*-tBOO -z:&*= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ;XC@=RpX ` r']^
, 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 6] z}#" vU*x2fVb} 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 3I|3wQ ( k]rLjcB 4. 对比:光栅的光学功能 .A1\J@b 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 Bd3~E bFL 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 l+wc'=] 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 3"UsZyN: 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 eV6o3u:9 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 1#
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cE{ =(OQ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 6<5Jq\-h
E4D (,s 5. 有间隔SLM的光学功能 "%@uO)A / 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 =ZsGT !7U\J] 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd }Uf<ZXW M8@_Uj 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 'FzN[% K" !]S=z^"< S*)o)34U 6. 减少计算工作量 uu%?K@Qq hxC!+ArVe
z8Q"%@ 采样要求: xq!IbVV/h 至少1个点的间隔(每边)。 &!y]:CC{ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ^ft]b2i mYNEz
@ 采样要求: >sj
bK% 同样,至少1个点的间隔。 {5Eyr$ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 j5%qv(w 随填充因子的增大,采样迅速增加。 d<@Mdo<;?g b0a}ME&1 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 .}9FEn 8 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 agd)ag4"[u 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 qi+&|80T. 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 r(}nhU Q%E |,}E0G. +=8X8<Pu
ggou*;' 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
?An,-N-ezf 7. 指定区域填充因子的仿真 o&^NwgRCF
l_v*7d 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 R I@*O6\/I 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 3:|-#F*k{ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 * Zd_
HJi 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 7nz!0I^ DMkhbo&+ bZ#X9fT
8. 总结 >IR$e=5$ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 B4O6>' 2q%K)h 第1步 }f}IA\8] 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 3#Y3Dz` y3yvZD 第2步 O}gX{_|6 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 DuF7HTN[K 扩展阅读 7Qh_8M 扩展阅读 r] t )x* 开始视频 U1Yo7nVf - 光路图介绍 3cu9[~K 该应用示例相关文件: )!C7bTv 4 - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 g 2'x#%ET
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
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