空间光调制器(SLM.0002 v1.1) \w{@u)h PYdIP\<V 应用示例简述 ?F!EB4E\y}
gb.f%rlZ` 1. 系统细节 C}n'>],p 光源 LiiK3!^i — 高斯光束 @''&nRC1 组件 3CA|5A.Pa — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 f&6w;T= 探测器 J$1j-\KS — 视觉感知的仿真 " <<A — 电磁场分布 mG0L !5 建模/设计 X7e>Z)l — 场追迹: `-~`<#E[ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 v2IEJ MinbE13?U 2. 系统说明 [_j6cj] lo"j )Zt #]?tY}~ 3. 模拟 & 设计结果 \|v `l{ {d| |q<.- 4. 总结 J
cP~-cp
Kp8fh-4_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 AnRlH - oU@D 第1步 E^7C
_JP 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 9X!ET! 9~=gwP 第2步 I4rV5;f
H4 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 `tX@8| `GPQ((la 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 _B}9f
a[q84[OQ 应用示例详细内容 :*#rRQ>t
g8KY`MBnC& 系统参数 +yGY785b
kmIoJH5 1. 该应用实例的内容 R|-6o)$ !IN@i:m oBb?"2 ~9 2. 设计&仿真任务 t
@;WgIp(&
" <qEXX 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 UIQQ\,3 +a #lofhv 3. 参数:输入近乎平行的激光束 i^R{Ul[ tzPC/? ;xhOj<: 4. 参数:SLM像素阵列 2@sr:,\1
+)zDA:2Wa" 5!tb$p#z 5. 参数:SLM像素阵列 D@#0 dDT 6nc0=~='$ $.wA?`1aSk 应用示例详细内容 Mxo6fn6-46
/oFc03d 仿真&结果 R0vww_fz
B=r0?%DX"1 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM cI3 y 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 i =-8@ 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 !Qcir&]C> YwGHG{?e 2. VirtualLab的SLM模块 kymn)Ea
\2j|=S6
%Z7%jma
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 `os8;`G
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 BY$[ g13
Rnr#$C% 3. SLM的光学功能 p!}ZdX[u
G)8ChnJa!m 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 +>4^mE" \ 为此,将区域填充因子设置为60%。 BB63xEx 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 U-eI\Lu 9s(i`RTM 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd
.1LPlZ c yP,[?N 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 0vn[a,W<A 0aogBg_@K 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 9#Bx]wy e=7W7^"_ 4. 对比:光栅的光学功能 'l|R5 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 =-Nsc1& 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 ei|cD[
NY 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 r1;e 0\?` 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 +;dXDZ2 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 doM?8C#`
@(>XOj?+
&wjB{% 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd [x5mPjgw
=JW[pRI5a 5. 有间隔SLM的光学功能 L,$3Yj 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 J(e7{aRJ9 B)6#Lp3 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd (ND%} Xu6K%]i^ 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 `|EH[W&y s"coQ!e1. I+"
lrU 6. 减少计算工作量 4H-j
.|e 88 l,&2q
Sy 采样要求: _*E!gPO 至少1个点的间隔(每边)。 iP#=:HZu; 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ezn`
_x_? )7Ixz1I9g 采样要求: .$0Pr%0pWI 同样,至少1个点的间隔。 ne*#+Q{E 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 Q'K$L9q 随填充因子的增大,采样迅速增加。 0hwj\{" H\#:,s {1 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 :Q7mV%% 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 NR3`M?Hjf 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 |')-VhLLK 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 O%g\B8; b\giJ1NJB 0
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<e 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
V!&P(YO: 7. 指定区域填充因子的仿真 >1ZJ{se
D:JS)+] 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 J(s;$PG 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 h1f8ktF 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 %4,?kh``D 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 1bSD,;$sQ 9M'DC^x*T ,@.EpbB
8. 总结 EB,4PEe: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 Q9sl fQ *aRX \TnN 第1步 Uu'dv#4Iw 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 |=5/Rax^ CT*,<l-D 第2步 9 Cvn6{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 g_z/{1$ 扩展阅读 ;`UecLb# 扩展阅读 Fo}7hab 开始视频 .=<$S#x^Hb - 光路图介绍 _~M^ uW^l 该应用示例相关文件: ST;t,
D: - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 !#}7{
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 H l<$a"K7\