空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Xp"ZK=r GD<xmuo 应用示例简述 PJA%aRP,:
~mP#V 1. 系统细节 S
'S|k7Lp 光源 Squ'd — 高斯光束 ' te4mY} 组件 ~:~-AXaMT — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 AC;ja$A# 探测器 T$RVz
— 视觉感知的仿真 M >#kfSF+ — 电磁场分布 *Hx{ eqC 建模/设计 )F
Q
'^ — 场追迹: NI_.wB{ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 o{5es xs y5" 2. 系统说明 o,dO.isgh> 0\*[7!`s ,)^4H>~V 3. 模拟 & 设计结果 gM~dPM| ^}vL ZA 4. 总结 W9nmTz\8
H/n3il_-I 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 f mu `o- T|RW-i3 第1步 p2s*'dab7 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 {,61V;Bpm 'au7rX( 第2步 rvrv[^a( 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 1;Bgt v$ </~!5x62Oy 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 &o@IMbJ8
_P9Th#UAg 应用示例详细内容 C{AVV<
3.,O7 k7y 系统参数 oRmz'F
l>p S23 1. 该应用实例的内容 O]&DDzo Plpt7Pa_ B=?4; l7 2. 设计&仿真任务 >(nb8T|
w$%d"Jm#X 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 do0;"O0
( }@JPvIE 3. 参数:输入近乎平行的激光束 P(B:tg uXD?s3Wv [AgS@^"sf5 4. 参数:SLM像素阵列 /sHWJ?`&/,
IjJO; kex4U6&OQB 5. 参数:SLM像素阵列 x`:zC# #J&45 Reci:T(_ 应用示例详细内容 mhTi{t_fHM
ZmM/YPy 仿真&结果 cF6eMml;
rm}OVL 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM 8JYF0r7 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 cbsU!8 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ;#c=0*. DdO$&/`)YP 2. VirtualLab的SLM模块 ?&v+-4%4PI
v 809/c*
p) #7K
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 zg)-RCG
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 L{XNOf3
aH@GhI^@ 3. SLM的光学功能 Buazm3q8H
FwD"Pc2 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 'L$%)`;e 为此,将区域填充因子设置为60%。 ks{y=@<, 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 dS9L( &
ey4RKk, 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd ^eu={0k ]r6S|;: 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 Q#+y}pOLP 0|mF
/ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd dw6U} lN@SfM4\ 4. 对比:光栅的光学功能 ZcT%H*Ib]9 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 ?"23X Ke 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 rK^Sn7 U 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 (- ]A1WQ? 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 c& &^Do 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 4rpx
Pr|:nJs
){'Ef_/R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ^P)W/2
.&|Ivz6 5. 有间隔SLM的光学功能 %5) 1^ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 }V@ *
:3w8 bU3e*Er 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 55aJ=T Atdr|2 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 0f"9wPC 7bC1!x*qw R<"fcsU 6. 减少计算工作量 "Q{)H8,E)x -)='htiU
}F v:g! 采样要求: EMe3Xb
` 至少1个点的间隔(每边)。 =1/d>kke 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ):LgZ4h \U(;%V 采样要求:
OHEl.p]| 同样,至少1个点的间隔。 x:Mh&dq? 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 1=R6||8ws 随填充因子的增大,采样迅速增加。 rt5FecX\ ^T^l3B[ 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 +`y{r^xD 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 !|\$|m<n 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 dp&8:jy 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 ao+lLCr 701mf1a WAd5,RZ?
i .O670D 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
?vnO@Bb/a 7. 指定区域填充因子的仿真 MM+x}g.?
. 5cL+G1k# 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 p }p@])}8 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 [;/4' 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 !c 3c%=W 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 {Kbb4%P+h T/m4jf2 *wvd[q h
8. 总结 ] 2Vu+AP 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &oU) ,H RB,`I#z1f 第1步 //x^[fkNq) 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 m'j]T/WF {c(@u6l28 第2步 8ztVv 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 v--Qbu 扩展阅读 ,sa%u Fm 扩展阅读 w)nFH)f 开始视频 PG51+# - 光路图介绍 }fS`jq; 该应用示例相关文件: 4@qHS0$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 _S$SL%;\
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 LBcnBo</v