空间光调制器(SLM.0002 v1.1) BTzBT%mP \.aKxj5 应用示例简述 y6dQ4Whv&
f\rE{% 1. 系统细节 i zYC0T9 光源 R XCjYzt — 高斯光束 =H`yzGt 组件 !}5f{,.RO — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统
_!_^B 探测器 qSDn 0^y — 视觉感知的仿真 =r)LG,w212 — 电磁场分布 Q#X'.](1 建模/设计 W}y)vrL — 场追迹: :?}mu1 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 TCFr-*x '6kD6o_p1 2. 系统说明 ZC%;5O` QE8`nMf [dR#!"6t 3. 模拟 & 设计结果 NBXhcfF aX~Jk >a0 4. 总结 '`YZJ
C;5`G
*e 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~F53{qxV +!GJ 第1步 `T+w5ONn 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 (&1.!R[X @tJ4^<`P{ 第2步 .R@s6}C`}= 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 kS35X)- s3T7M:DM4 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 ubZJ Um
/k[8xb 应用示例详细内容 RH:vd|q+
|g>Q3E 系统参数 eh%{BXW[p
cRMyYd J o 1. 该应用实例的内容 jU kxA7 }} 5*f54g"' {n&n^`Em 2. 设计&仿真任务 8{]nS8i
o<J6KTLv 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 (c&%1bJ J>k
6`gw 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Q)y5'u qZ #?k</~s6M` m[(_fOd 4. 参数:SLM像素阵列 Ozhn`9L+1!
z@J>A![m yf;TIh%)= 5. 参数:SLM像素阵列 2y \ogF ,NvXpN p!~1~q6 应用示例详细内容 '
tHa5`
j>e RV ol 仿真&结果 TpwN2 =
!Vg=l[ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM gwsIzYV 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 N6of$p'N 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 zeuj .4 U*.Rf
2. VirtualLab的SLM模块 ;Vc|3
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\>pm (gF
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 $H[q5(_~
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 cV0CI&
)qw;KG0F 3. SLM的光学功能 ,OubKcNg
1AN$s
在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 V" 8 G-dK 为此,将区域填充因子设置为60%。 3 (\D.Z 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 rD4umWi f+hHc8g 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd Hnk&2bY hmd3W`8D 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 &mmaoWR OqDP{X: 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd M2|h.+[Q LtX53c 4. 对比:光栅的光学功能 H\a"=&M 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 A] 'jsv!+ 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 Q8AAu&te7 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 !rr,(!Ip?O 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 0"%dPKi 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 q)Nw$dW<
qD ?`Yd
DE/SIy? 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd &e:+;7
[%^sl>,7 5. 有间隔SLM的光学功能 85H\v_[ 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 >@Ht*h{~ -qDqJ62mC 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 1u7D:h># V0_tk" 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 @WS77d~S <A8>To< [. 9[?8 6. 减少计算工作量 mc8Q2eQat} h2f8-}fsq
+sjzT[ Dn 采样要求: {~&Q"8
}G 至少1个点的间隔(每边)。 8\{z>y 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 ;J,(YNI
1 [UI>SN 采样要求: f%@~|:G: 同样,至少1个点的间隔。 "%Y=+ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 X:g5;NT 随填充因子的增大,采样迅速增加。 /CNsGx%% s.
A}ydtt 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 I
]ZZN6" 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 <n]P D;.4 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 ga%\n!S 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 }#H,oy;Dz ^wd@mWxx sb{K%xi%
z80P5^9 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
d7vPZ_j^z 7. 指定区域填充因子的仿真 4-x<^
ev=
8.B'O>\T 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 cZ:jht 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 j@z IJ 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 FefroaJ:u 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 w/m@(EBK jjj<B'zt Q*>)W{H&)
8. 总结 ?<!qF:r: 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 -t|/g5.w_ @}d;-m~ 第1步 Ia#!T"]@W6 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 'l.tV7 W34xrm 第2步 tjx8UgSi 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 F*PhV|XU 扩展阅读 2 3PRb<q 扩展阅读 <C'_:&M 开始视频 .u7}p# - 光路图介绍
JFm@jc 该应用示例相关文件: ~TRC-H - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 !t23
_b0
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 B&a{,.m&q6