空间光调制器(SLM.0002 v1.1) bF Y)o Z y8~)/)l& 应用示例简述 eVCkPv*
(fGJP*YO 1. 系统细节 ^$Eiz. 光源 PM@s}( — 高斯光束 ZnhuIAAG 组件 [;CqvD<S — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 Lx:9@3'7' 探测器 f\F_?s)_y — 视觉感知的仿真 ik:)-GV;s — 电磁场分布 Q!+{MsZ
建模/设计 w`#0
Y9O — 场追迹: pXT$Y8M 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 xZ'`_x9l NX{-D}1X= 2. 系统说明 tCCi|*P
G +SA<0l 2wuW5H8w{ 3. 模拟 & 设计结果 u FYQ^ /qhm9~4e3 4. 总结 zR JKIm
hIO4%RQj_ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *6x^w%=A FiU;>t<) 第1步 ^Lv^W 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 4FHX#`
s8_NN 第2步 l[\,*C 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 @~U6=(+ >A(?P n{|a 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 I'%H:53^0
>RqT7n8h 应用示例详细内容 2hA66ar{$
fJ"~XTN}T 系统参数 NF\^'W@N
E~@HC 5.M 1. 该应用实例的内容 xEZVsz b;;Kxi:7$} k-DB~-L 2. 设计&仿真任务 {6y.%ysU
yJ`1},^ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 RdVis|7o "T1#*"{j 3. 参数:输入近乎平行的激光束 N9h@1'> *Qwhi&k Qbt>}?- 4. 参数:SLM像素阵列 8J?`_
"JLhOTPaHf mhkAI@)> 5. 参数:SLM像素阵列 BaTOh'52 !2M[ GKx,6E#JM 应用示例详细内容 sS2E8Z2
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f. 仿真&结果 D&6Qk&>
I;.E}k 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM Sq8Q* 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 G@<lwnvD*J 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 YGpp:8pen a;owG/\p 2. VirtualLab的SLM模块 +P)[|y +e
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为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 S9#N%{8P
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 3pjYY$'
RTA=|q 3. SLM的光学功能 x|i3e&D
xI\s9_"Qy 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 TvG:T{jwy 为此,将区域填充因子设置为60%。 '\E{qlI 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 QV7c9)<]'} ,u^0V"hJ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd a`X&;jH0ef YeVc,B' 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 4m(>" dHP \bQ!>l\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd G$`4.,g JG4*B|3 4. 对比:光栅的光学功能 YYr&r.6 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 GfPz^F=ie. 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 (BQ3M- 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 $$f$$ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 +9F#~{v`4a 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 +4nR&1z$
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^? xJpr%) 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd :;Rt#!
207oEO] 5. 有间隔SLM的光学功能 J6Nw-qF 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 (Tb0PzA zd4y5/aoS 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd 4
Wd5Goe: Q~!hr0
ZR 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 T`{MQ:s UKQ&TV}0 'J0s%m|j 6. 减少计算工作量 _W@Fk)E6N :bDn.`KG#
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J=|F 采样要求: q&6=oss! 至少1个点的间隔(每边)。 t%B!\] 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 X0QS/S-+ "$cT*}br 采样要求: KrG6z#)Uz 同样,至少1个点的间隔。 koY8=lh/ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 gO!h<1 ! 随填充因子的增大,采样迅速增加。 na:^7:I cB=u;$k@* 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 `0sk2fn 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 7[0k5- 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 'c{]#E1} 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 JP*mQzZL Y[?Wt/O; iB`]Z@ZC
H).5xx[` 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
0)a?W,+O 7. 指定区域填充因子的仿真 o xu9v/
u3brb'Y+ 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 u$p|hd
d 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ^O*hs%eO% 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 $%8n,FJ[ 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 K"$ky,tU .3&OFM {;M/J
8. 总结 Jc^ozw 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 x99
Oq! =PM#eu 第1步 { F8,^+b| 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 "0)G|pZI :#jv4N 第2步 =@XR$Uud6 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 o}Np}PE6 扩展阅读 %$?Q% 扩展阅读 1M+!cX 开始视频 g``4U3T%X - 光路图介绍 gg_(%.> 该应用示例相关文件: --)[>6)I - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 %'O(Y{$Y.
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 Z@A 1+kUS