空间光调制器(SLM.0002 v1.1) QM[A;WBr7 %ezb^O_6v 应用示例简述 2ec$xms
wovmy{K 1. 系统细节 _e?q4>B)c 光源 "K|)<6J — 高斯光束 #cj\~T.,, 组件 4pmTicA~ — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 hncS_ZA 探测器 Qy=HrL]x — 视觉感知的仿真 6o=qJ`m[? — 电磁场分布 *<*0".# 建模/设计 HY jMNj0 — 场追迹: )%iRZ\`f 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 0W T#6D 0$eyT-:d 2. 系统说明 -ajM5S=d* 0PnD|]9: )p$\gwr=2 3. 模拟 & 设计结果 \4h>2y 1Yc%0L( 4. 总结 @gt)P4yE
eecw]P_? 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 {fog<1c Z69+yOJI 第1步 hq/J6 M 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 c%|vUAq* J0^{,eY< 第2步 i(Ip(n 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 _ Ry_K3K az0cS*@ 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 1<xcMn0et
j~M#Ss-H8 应用示例详细内容 Gs[Vu@*
0o=!j3RjH 系统参数 s~S?D{!
z>4D~HX 1. 该应用实例的内容 Tr}R`6d$ U?bG`. X +$>N]1 2. 设计&仿真任务 B|cA[
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@'fpN 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ,LhEshf 'UY[ap 3. 参数:输入近乎平行的激光束 \r)%R5_CQ y^2#9\}K :3JCvrq 4. 参数:SLM像素阵列 mO#I nTO
+0VG[c\8 sz'p3 5. 参数:SLM像素阵列 cp$.,V iJ}2"i7M fD'/#sA#' 应用示例详细内容 "37*A<+f
Osnyd+dJY 仿真&结果 4[`[mE18.
Z;hyi'rPJ 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM BsKbn@'uC 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 $4=Ne3y 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 zVdKYs i^ g;8M<`qvf 2. VirtualLab的SLM模块 +Y7Pg'35
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ASR-a't6
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 H ZPcd_(
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 XTV0Le\f
^%;" [r 3. SLM的光学功能 29%=: *R$
b7bSTFZxC 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 >;,gGH 为此,将区域填充因子设置为60%。 pDGT@qJ 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 z
OtkC3hY 8/Mx5~ R 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd sc%dh?m7 Vn'?3Eb< 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 aVP5% J;~E<_"Hn 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 0C]4~F x~
=^Th[B 4. 对比:光栅的光学功能 CJp-Y}fGEA 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 :<|Z.4}kJb 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 \7yJ\I 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 glx2I_y 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 6+iK!&+= 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 ;Z*'D}
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`_GO=QQ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd DcN"=Y
e8{^f]5 5. 有间隔SLM的光学功能 :9`qogF> 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 `gI~|A4 9\AS@SH{^T 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd X'@'/[? Oxv+1Ub<Dv 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 S6GMUaR 2SciB*5 J?IC~5*2 6. 减少计算工作量 &Pq\cNYzW =:gjz4}_8
?I[h~vr6. 采样要求: _dr*`yXi 至少1个点的间隔(每边)。 \-OC|\{32 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 &\k?xN 7/?DP wbx 采样要求: p.C1 nh 同样,至少1个点的间隔。 l<xFnj 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 K_>/lirE? 随填充因子的增大,采样迅速增加。 333u] !!WJn} 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 b66R}=P l 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 )|RZa|`-G 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 &DLhb90 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Hd0Xx}3& vTd-x>n 4gOgWBv
GJ `UO 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
DWrbp 7. 指定区域填充因子的仿真 PBrnzkoY
OR;&TbWF(R 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 /UHp [yod 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 ;&
~929 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 U
Du~2% 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 $)*xC!@6X Lm|al.Z hgO?+x
8. 总结 Dx3 %KS 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 &$#99\/ B+46.bIH 第1步 [4>r6Hqxr 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 9"ugz^uKt F7T E|LZ 第2步 76u{!\Jo/{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 FJwt?3\u5 扩展阅读 -B9S}NPo 扩展阅读 J`<f 开始视频 zMGzReJ - 光路图介绍 `W"G!X- 该应用示例相关文件: fY_%33_I$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 8l23%iWxe
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 v=p0 +J>