空间光调制器(SLM.0002 v1.1) !vG._7lPp uZ
OUp8QQ 应用示例简述 71wyZJ
TzPVO>s 1. 系统细节 sX@e1*YE_ 光源 u} KiSZxt — 高斯光束 %3FI>\3 组件 h#;yA"j1& — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 ,kLeK{ 探测器 Q>||HtF$A — 视觉感知的仿真 c-gaK\u}j} — 电磁场分布 )TXn7{M: 建模/设计 F= #zy#@. — 场追迹: G|H\(3hHLZ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 m.lNKIknQ K)^.96{/@ 2. 系统说明 3aW4Gs<g 6g$+ ))g }~\J7R' 3. 模拟 & 设计结果 VeCpz[r kV-a'"W5 4. 总结 k ^+h>B-;
d'DS7F(c{ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 nar=\cs~g =niU6Q} 第1步 E4 JS
将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 .t\Yv/|` t6LTGWs/_o 第2步 FUMAvVQ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 Z^#7&Pv0 >a^H7kp 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 k9Yr&8B
oq;}q 应用示例详细内容 {K:/(\
Qa"R?dfr 系统参数 eeuAo&L&
(A"oMnjWd 1. 该应用实例的内容 MJ>(HJY6?% bx`(d@ [_b10Z'{ 2. 设计&仿真任务 w6Ue5Ix,!
+)ro
EJ_ 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 !$Mv)c/_u qOkw6jfluh 3. 参数:输入近乎平行的激光束 6`%}s3Xq ~>)cY{wE_ T*'5-WV|3t 4. 参数:SLM像素阵列 Ip?Ueaei
gNe{P~ $= l$PO!JRD 5. 参数:SLM像素阵列 MQp1j:CK }p."7( \b~zyt6- 应用示例详细内容 &XN*T.Y`
JQI`9$asuC 仿真&结果 m|e!1_:H
[gD02a:u 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM {:fyz#>>^ 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 >uxak2nM- 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 #F[6$. Gr :Im_=S[0 2. VirtualLab的SLM模块 0]NjsOU=
Z<xSU?J
4dl?US[-
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 33-=Z9|r
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 7Nx@eoZ
4W$53LP8 3. SLM的光学功能 us$~6
Tf*X\{" 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 D[yaAG< 为此,将区域填充因子设置为60%。 kU4Zij-O 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 hoeOdWIpf /|BzpIfpN 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd SlsMMD NIQa{R/H 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 >P+V!-%# 7|IW\ 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ^ !E;+o' t mn4j#- 4. 对比:光栅的光学功能 EGU?54 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 E$*I.i_m 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 h4!$,%"'' 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 G;wv.|\ 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 ]';!r20 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 C6Dq7~{B
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R4pbi= 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd <)y'Ot0 y
,_P(!7Z8 5. 有间隔SLM的光学功能 ,T"(97" 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 aD24)?db- +=U` 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd .r[J} O" V|<qO-#. 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 *slZ17xg v#=WdaNz |M0 XLCNd_ 6. 减少计算工作量 CK'Cf{S xLq+njH E
dax|4R 采样要求: ~d){7OG 至少1个点的间隔(每边)。 Z/:(*F C 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 {tF=c0Z |oPqX %? 采样要求: k:`^KtBMl 同样,至少1个点的间隔。 x8tRa0-q 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 A7~)h}~ 随填充因子的增大,采样迅速增加。 kZSe#'R's TJLz^%t 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。
9CUMqaY2 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 rx|/]NE; 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 s13Iu# 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 Z*jhSy !Z<Z"R/ D;d'ss;
tAbIT;> 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
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[ 7. 指定区域填充因子的仿真 |'Ve75 W6u
E5-8tHV 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 ^
chlAQz( 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 *l_1T4]S 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 F2>o"j2 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 e[>(L% QV+ |I85]'K9a ax'Dp{Q
8. 总结 wz>j>e6k` 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 9bqfZ"6nXY h,
+2Mc< 第1步 &'T7 ~M: 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 g7_a8_ !i#;P9K 第2步 dy|r:~j3 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 )wSsxX7: 扩展阅读 D#^v=U 扩展阅读 AO>K
6{ 开始视频 O#cXvv]Z* - 光路图介绍 oA_AnD?G+ 该应用示例相关文件: *RN*Bh|$ - SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 'X@j
- SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究 ]5rEwPB