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    [技术]空间光调制器像素处光衍射的仿真 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-11-11
    空间光调制器(SLM.0002 v1.1) Rg?m$$X`  
    ^7 oXJu=  
    应用示例简述 L&2 Zn{#`  
    M:? :EJ  
    1. 系统细节 XV> )[Nd\H  
    光源 D7"RZF\)  
    — 高斯光束 ?nya;Z-~Hc  
     组件 56 raZC  
    — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 )D1=jD(  
     探测器 y! lEGA7  
    — 视觉感知的仿真 sjISVJ?  
    — 电磁场分布 ;.<0lnV  
     建模/设计 T@ecWRro  
    — 场追迹: }JKK"d}U  
     一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 WKB8k-.]ww  
    xJ(4RaP  
    2. 系统说明 ;%H/^b.c  
    sC=fXCGW\p  
    X( H-U q*(  
    3. 模拟 & 设计结果 dLs40 -R  
    /?,c4K,ap  
    4. 总结 XvIrO]F-  
    3Y}X7-|)Z  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 jml 4YaGZ  
    &b#O=LF  
    第1步 +80yyn#  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 s}pn5zMp:8  
    SqF9#&F  
    第2步 #6%9*Rh  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 PafsO,i-  
    Alsr6uLT1  
    产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 @}{~Ofs  
    dfmxz7V  
    应用示例详细内容 eaI!}#>R +  
    "$VqOSo  
    系统参数 zu~E}  
    KF#,Q  
    1. 该应用实例的内容 X~ AE??  
    >,Zf3M  
    D/$$"AT  
    2. 设计&仿真任务 J,bE[52  
    SbLx`]rI  
    由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 ,`3kDqS_4  
    (\Qk XrK  
    3. 参数:输入近乎平行的激光 N!fTt,  
    Wy2 pa #Q  
    G:]w UC\  
    4. 参数:SLM像素阵列 x-:a5Kz!  
    PV*U4aP  
    u5, \Kz  
    5. 参数:SLM像素阵列 q~^qf  
    @GB~rfB[  
    =vv4;az X  
    应用示例详细内容 #sOkD  
     !XvQm*1  
    仿真&结果 .5',w"R  
    pD+_ K  
    1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM PN!NB.  
     由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 ` R;6]/I?  
     内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 m{/?6h 1  
    <3wfY #;><  
    2. VirtualLab的SLM模块 e Akjpc  
    `|1#Vuk  
    Wn(pz)+Y  
     为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 JY+ N+c\  
     必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 MVGznf?  
    VFZ_Vw  
    3. SLM的光学功能 }=':)?'-.  
    F9sVMV  
     在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 |G+6R-_  
     为此,将区域填充因子设置为60%。 e%(,)WlTaU  
     首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 M>pcG.6V  
    V Q6&7@ c  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd 6iiH+Nc  
    ,~@Nhd~k  
     此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 <5s51b <  
    z9k3@\7  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ay\e# )  
    !^dvtv`K  
    4. 对比:光栅的光学功能 Q0)6 2[cMm  
     上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 K[%)_KW  
     所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 - I$qe Xy  
     通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 ~bp^Q| wM  
     级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 v'"0Ya  
     这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 B?qLXRv  
    'n7 )()"2  
    c :S A#.  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd 9'tElpDJ6#  
    v-;j44sB  
    5. 有间隔SLM的光学功能 pXfg{2  
    现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 .^<4]  
    9oly=&lJ  
    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd ]-Z="YPY  
     vO 85h  
    下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 XwKB+Yj0  
    oT5 N_\  
    iRo/~(  
    6. 减少计算工作量 nATEv2:G  
    wHSas[4k  
    v !~lVv&  
    采样要求: 1 m)WM,L  
     至少1个点的间隔(每边)。 pDGX$1O"  
     如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 G@Z,Hbgm  
    "r6DZi(^K  
    采样要求: qVOlUH  
     同样,至少1个点的间隔。 }B{bM<dF  
     假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 #$&!)13  
     随填充因子的增大,采样迅速增加。 Xsvf@/]U  
    ('qu#.'  
     为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 D<=:9  
     如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 [b-wak})aD  
     如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 g$c\(isY;  
     通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 E2M|b  
    i%m]<yElm  
    o ]UG*2  
    a?4'',~  
    减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
    yQA6w%  
    7. 指定区域填充因子的仿真 `uz15])1<  
    Mqu>#lL  
     由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 KLpe!8tAe  
     全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 1wX0x.4d  
     因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 $Hr qX?&r  
     在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 (Sr D  
    3jMHe~.E<  
    ?lg  
    8. 总结
    b5kw*h+/'h  
    考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 3<ikMUq&  
    ZT>?[`Vgc  
    第1步 _`4jzJ*  
    将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 2!Ip!IQ:  
    =Ri'Pr x&  
    第2步 !;";L5()  
    分析不同区域填充因子的对性能的影响。 YGRv``(  
    扩展阅读 4l0ON>W(  
    扩展阅读 Bnju_)U5)  
     开始视频 [42vO  
    -    光路图介绍 @D<q=:k  
     该应用示例相关文件: Q{hXP*5  
    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相调制器设计 Z x9oj  
    -     SLM.0003: 一个基于SLM光束整形系统的中透镜像差的研究
    AS;EO[Vn  
     
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