1.模拟任务 !e@G[%k GjZ@fnF 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
>SpXB:wx 设计包括两个步骤:
vb/*ILS - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
'7o'u] - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
hu~02v5 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
:p@H b7R#tT ^(m`5]qr7J 照明光束参数 )?~3fb6^ #b\&Md|; g!~&PT)* 波长:632.8nm
^% BD 激光光束直径(1/e2):700um
i,rP/A^q !jY/}M~F1 理想输出场参数 Jpg_$~k }`6-^lj N%;Q[*d@/ 直径:1°
GbUcNROr 分辨率:≤0.03°
xou7j
效率:>70%
W093rNF~ 杂散光:<20%
fI`T3 Y!7 -cyJjLL* 6yk 2.设计相位函数 eHK}U+"\ j>gO]*BX~ ehCc
N4V( seY0"ym&e 相位的设计请参考会话编辑器
Djx9TBZ5 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
/eDah3%d 设计没有离散相位级的phase-only传输。
@dX0gHU[c =sRd5aMs 3.计算GRIN扩散器 a8M.EFa: GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
mkYM/*qyM& 最大折射率调制为△n=+0.05。
9 U1)sPH; 最大层厚度如下:
9pE)S^P QnZR 4.计算折射率调制 deaxb8'7 X^% I 3 从IFTA优化文档中显示优化的传输
C
fQj7{ #[sC H 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
V'c9DoSRI\ 8>j+xbw SZg+5MD;X 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
SAs'u"EB 7qon:]b4
./kmI#gaV 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
M7yJ2u <Ty H;*:XLPF l,h#RTfry 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
Bp^>R`, [#j|TBMHM 5<IUTso5h *[
Wh9 ,H 数据阵列可用于存储折射率调制。
+x
G] (? 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
\ :})R{ 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
Y~=5umNSX %P_\7YBC> 5.X/Y采样介质 =%Ut&6}sQ
{xEX_$nv jR@-h"2*A GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
1}S_CR4XBs 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
oLruYSaD 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
i2)SSQ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
rZGbU&ZM8 9<7Q { b_V)]>v+ Iay7Fkv 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
1{o
CMq/v 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
Uw61X>y= 应该选择像素化折射率调制。
Ea\a: kGc)Un?'{U TM!R[-\ 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
Y141Twjvd 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
$
}B"u;:SU =AgY8cF!sl 6.通过GRIN介质传播 68I4 MZK>4 @GnsW;$*~. 6ap,XFRMh uO[4 WZ 通过折射率调制层传播的传播模型:
BD4.sd+H, - 薄元近似
M*c\=( - 分步光束传播方法。
G#dpSNV3| 对于这个案例,薄元近似足够准确。
Om}&`AP}; 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
"45BOw&72G 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
i":-g"d F,:F9r?l,H 7.模拟结果 b17p;wS 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
a$aI% {B\.8)&8 8.结论 }=f}@JlFB ,nHz~Xi1t VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
g LpWfT29V 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
_R5^4 -Qe 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。