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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    离线infotek
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 E"L'm0i[[  
    :"QRB#EC%  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 &Q&$J )0  
     设计包括两个步骤: l  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 }:jXl!:V  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 rtzxMCSEU  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 4tu2%Og)?  
    PMrvUM62  
    JT_#>',  
    照明光束参数 <?Lj!JGX  
    ]h|GaHiE  
    ;c;;cJc!  
    波长:632.8nm 9]7^/g*!  
    激光光束直径(1/e2):700um
    LXK+WB/s  
    F`3 8sq  
    理想输出场参数 ](a<b@p  
    =E,*8O]  
    FvvF4 ,e5  
    直径:1° TnKe"TA|9  
    分辨率:≤0.03° P"xP%zqo  
    效率:>70% @|cas|U.r  
    杂散光:<20% /sYD+*a  
    3-Ti'xM  
    g!K(xh EO  
    2.设计相位函数 A46y?"]/30  
    :ox+WY  
    G,$jU9 f  
    PVU(R J  
     相位的设计请参考会话编辑器 ,7/N=mz  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ,I)/ V>u  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 ~A6QX8a  
    3|@Ske1%Y  
    3.计算GRIN扩散器 .ipYZg'V  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Rr:,'cXGi  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ;up89a-,9  
     最大层厚度如下: =m1B1St2  
    tTP"*Bb  
    4.计算折射率调制  DMf:u`<  
    ^S[Mg6J  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 4m%_#J{  
    O[q {y  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 #:2 36^xYS  
    ^ b}_[B  
    MT|}[|_  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 V~ZAs+(2Z  
    LL.YkYu  
    Z9TG/C,eo  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 XG*Luc-v  
    CYs:P8^  
    $I+QyKO9k  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 )CEfG  
    kcI3pmgj  
    AEhh 6v  
     Wu9@Ecb  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 d\D.l^  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 A2g +m  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 @'s^  
    ^6oz3+  
    5.X/Y采样介质 XeKIue@_  
    U,~\}$<I  
    q:+,'&<D  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 YrL:!\p.  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 -y)ij``VY  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 5iwJdm  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    AK} wSXF  
    X@2[!%nm  
    a2SMNC]  
    ,dLh`t<\  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 `rN,*kcP  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 GBFYa6\4sT  
     应该选择像素化折射率调制。 py6|uGN  
    b*\K I  
    gu7mGHn-  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 $h"tg9L^)  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 g[!t@K  
    */;[ -9  
    6.通过GRIN介质传播 AK]{^Hvz  
    KuL2X@)}  
    }1VxMx@  
    L}T:Y).  
     通过折射率调制层传播的传播模型: SV0E7qX  
    - 薄元近似 t;!v jac  
    - 分步光束传播方法。 B&ItA76  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 DK;p6_tT  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 r BQFC 4L  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 pC2ZN  
    YBqu7&  
    7.模拟结果 l=,\ h&  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    VJmX@zX9  
    Cgq/#2BM  
    8.结论 {>PN}fk2QP  
    l?2(c  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 4=!SG4~o  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 q<Gn@xc'  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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