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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 9T$u+GX'  
    |<1M&\oaQ'  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 @/LiR>,  
     设计包括两个步骤: X>}@EHT  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 l/M[am  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 y[7C% Wj  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 &; s<dDQK  
    V;k#})_-  
    T RDxT  
    照明光束参数 }Fm\+JOS   
    hD*(AJ  
    T!(sZf  
    波长:632.8nm rEmwKZF'  
    激光光束直径(1/e2):700um
    pD[pTMG@$  
    (V!0'9c  
    理想输出场参数 p=vV4C:  
    K>$qun?5  
    {U^j&E  
    直径:1° @C=m?7O98  
    分辨率:≤0.03° cN5"i0xk  
    效率:>70% e:BDQU  
    杂散光:<20% :s]\k%"  
    )O&z5n7t4s  
    o<nS_x  
    2.设计相位函数 AC'lS >7s  
    \WX@PfL  
    !UVk9  
    1LX)4TCC  
     相位的设计请参考会话编辑器 \+9;!VWhl  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 Td&d,;  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 kf'=%]9#_T  
    (Igu:=  
    3.计算GRIN扩散器 z>p]/Sa  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 \f<z*!,D$  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 cl_T F[n?  
     最大层厚度如下: 5x2L(l-2  
    .zIgbv s  
    4.计算折射率调制 Hr&Ere8.4p  
    ` jyKCm.$#  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 !?b/-~o7S  
    WGPD8.  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 },s_nJR:8  
    #N$9u"8C  
    M9DgO4xl  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 h 1*FPsc  
    ;?`@"YG)  
    ,\x$q'  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ntZ~m  
    x9D/s`!  
    _@K YF)  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 {[tZ.1.w  
    lC4PKm no  
    :X Lp  
    %N1"* </q  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 fM2^MUp[=1  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 7D9]R#-K  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 gH'3 dS!{  
    7"a4/e;^  
    5.X/Y采样介质 =ajLa/m'  
    |T y=7d,  
    *uU4^E(  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 [8z&-'J=  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 +q-c 8z  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 sG1BNb_  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    c=aO5(i0  
    t\%%d)d9  
    [T]Bfo  
    d"GDZ[6  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 32^#RlSu8  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 aj v}JV&:  
     应该选择像素化折射率调制。 q:8\ e  
    ~bGC/I;W>  
    )qd= {  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 5*1#jiq  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 7>&1nBh. f  
    2LZS|fB9o  
    6.通过GRIN介质传播 S(tEw Xy  
    QTE:K?  
    #g{Mne  
    aaT5u14%  
     通过折射率调制层传播的传播模型: }^9paU  
    - 薄元近似 >f%,`r  
    - 分步光束传播方法。 9 rS, ?  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 nALnB1  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 1daL y  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Km"&mT $  
    *m&%vj.Kc  
    7.模拟结果 `)2[ST  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    ])UwC-l  
    @ t|3gF$X  
    8.结论 K"^cq~   
    A _i zSzC1  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 70=(. [^+  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 fp tIc#4  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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