1.模拟任务 V{HZ/p_Y C@buewk 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
1UJ(._0hR 设计包括两个步骤:
Bo`fy/x#
- 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
E,xCfS) - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
Q~,E
K 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
Al3Hu-Hf;` Nk3]<#$ -v&Q'a 照明光束参数 RT9fp(6* X-3L4@T:? T)3#U8sT 波长:632.8nm
,ZD!Qb 激光光束直径(1/e2):700um
9$~D4T 0+/L?J3 理想输出场参数 #Jy+:|jJ D?}LKs[ <!y_L5S| 直径:1°
VDPqI+z 分辨率:≤0.03°
(+Gd)iO 效率:>70%
`vDg~o 杂散光:<20%
zO2<Igb oFoG+H"&7\ x4*8q/G=D 2.设计相位函数 r4J4|&ym A!Ng@r >7vSN<w~m -3wg9uZ& 相位的设计请参考会话编辑器
WN>.+qM~8 Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
g|"z'_ 设计没有离散相位级的phase-only传输。
cC"7Vt9b U(3LeS;mr 3.计算GRIN扩散器 ^P"t
" GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
Lg9]kpOpa 最大折射率调制为△n=+0.05。
bkmX@+Pe 最大层厚度如下:
q1r\60M `gfK#0x# 4.计算折射率调制 4yQ4lU,r j[iJo
5 从IFTA优化文档中显示优化的传输
7; TS ,{J2i#g< 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
0 v/+%%4} vIN6W 6@H&S 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
J-Sf9^G m1\>v?=K
-|J?- 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
\M:,Vg u+(e,t `dEWP;#cp 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
/Klwh1E 8 Sl[& bTO$B2eh| ~+l%}4RZ 数据阵列可用于存储折射率调制。
xS,):R 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
ynZ! 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
q?}G?n4 !RiPr(m@y 5.X/Y采样介质 (ter+rTv
<Y~V!9(~{Q rp=?4^(u GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
<@F4{* 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
? 1Z\=s 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
m6lNZb] 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
d[TcA2nF KC }B\~ + cTRCQ+W6: H#w?$?nIWu 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
Kz$Ijj 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
[jAhw> 应该选择像素化折射率调制。
Q=uwmg86 ;pAkdX&b