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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 V{HZ/p_Y  
    C@buewk  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 1UJ(._0hR  
     设计包括两个步骤: Bo`fy/x#  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 E,xCfS)  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 Q~,E K  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 Al3Hu-Hf;`  
    Nk3 ]<#$  
    -v&Q 'a  
    照明光束参数 RT9fp(6*  
    X-3L4@T:?  
    T)3#U8sT  
    波长:632.8nm , ZD!Qb  
    激光光束直径(1/e2):700um
    9$~D4T  
    0+/L?J3  
    理想输出场参数 #Jy+:|jJ  
    D?}LKs[  
    <!y_L5S|   
    直径:1° VDPqI+z  
    分辨率:≤0.03° (+Gd)iO  
    效率:>70% `vDg~o  
    杂散光:<20% zO2<Igb  
    oFoG+H"&7\  
    x4*8q/G=D  
    2.设计相位函数 r4J4|&ym  
    A!Ng@r  
    >7vSN<w~m  
    -3wg9uZ &  
     相位的设计请参考会话编辑器 WN>.+qM~8  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 g|"z'_  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 cC"7Vt9b  
    U(3LeS;mr  
    3.计算GRIN扩散器 ^P"t "  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Lg9]kpOpa  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 bkmX@+Pe  
     最大层厚度如下: q1r\ 60M  
    `gfK#0x#  
    4.计算折射率调制 4yQ4lU,r  
    j[iJo 5  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 7; T S  
    ,{J2i#g<  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 0 v/+%%4}  
    vIN6W   
    6@H& S  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 J-Sf9^G  
    m1\>v?=K  
    -|J?-  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 \M:,Vg  
    u+(e,t  
    `dEWP;#cp  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 /Klwh1E  
    8 Sl[&  
    bTO$B2eh|  
    ~+l%}4RZ  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 xS,):R  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。  ynZ!  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 q?} G?n 4  
    !RiPr(m@y  
    5.X/Y采样介质 (ter+rTv  
    <Y~V!9(~{Q  
    rp=?4^(u  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 <@F4{*  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ? 1Z\=s  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 m6lNZb]  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    d[TcA2nF  
    KC}B\~ +  
    cTRCQ+W6:  
    H#w?$?nIWu  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Kz$Ijj  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 [jAhw>  
     应该选择像素化折射率调制。 Q=uwmg86  
    ;pAkdX&b  
    B-@f.NO/s  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 `e`4[I  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 jVfC4M7 ,  
    .~b6wi&n  
    6.通过GRIN介质传播 C$,S#n@  
    2GZUMXK  
    Aqp3amW!  
    u6(7#n02  
     通过折射率调制层传播的传播模型: K VQZ  
    - 薄元近似 BOh&Db*  
    - 分步光束传播方法。 laFkOQI  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 zQ)[re)  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 <a$cB+t  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 jg%D G2  
    Ln`c DZSM  
    7.模拟结果 z,2m7C  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    k{@z87+&  
    SxOM@A  
    8.结论 vP,WV9Q1u  
    [oKB1GkA  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 W@UHqHr:\  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 &TK%igL  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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