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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 !e@G[%k  
    GjZ@f nF  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 >SpXB:wx  
     设计包括两个步骤: vb/*ILS  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 '7o'u]  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 hu~02v5  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 :p@H  
    b7R#tT  
    ^(m`5]qr7J  
    照明光束参数 )?~3fb6^  
    #b\&Md|;  
    g! ~&PT)*  
    波长:632.8nm ^% BD  
    激光光束直径(1/e2):700um
    i,rP/A^q  
    !jY/}M~F1  
    理想输出场参数 Jpg_$~k  
    }`6-^lj  
    N%;Q[*d@/  
    直径:1° GbUcNROr  
    分辨率:≤0.03° xou7j   
    效率:>70% W093rNF~  
    杂散光:<20% fI`T3Y!7  
    -cyJj LL*  
    6yk  
    2.设计相位函数 eHK}U+"\  
    j>gO]*BX~  
    ehCc N4V(  
    seY0"ym&e  
     相位的设计请参考会话编辑器 Djx9TBZ5  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 /eDah3%d  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 @dX0gHU[c  
    =sRd5aMs  
    3.计算GRIN扩散器 a8M.EFa:  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 mkYM/*qyM&  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 9 U1)sPH;  
     最大层厚度如下: 9 pE)S^P  
    Q nZR  
    4.计算折射率调制 deaxb8'7  
    X^%I 3  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 C fQj7{  
    #[sC H  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 V'c9DoSRI\  
    8>j+xbw  
    SZg+5MD;X  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 SAs'u"EB  
    7qon:]b4  
    ./kmI#gaV  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 M7yJ2u<Ty  
    H;*:XLPF  
    l,h#RTfry  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 Bp^>R`,  
    [#j|TBMHM  
    5<IUTso5h  
    *[ Wh9 ,H  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 +x G](?  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 \ :})R{  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 Y~=5umNSX  
    %P_\7YBC>  
    5.X/Y采样介质 =%U t&6}sQ  
    {xEX_$nv  
    jR@-h"2*A  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 1}S_CR4XBs  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 oLruYSaD  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。  i2)SSQ  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    rZGbU&ZM8  
    9<7Q{  
    b_V)]>v+  
    Iay7Fkv  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 1{o CMq/v  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 Uw61X>y=  
     应该选择像素化折射率调制。  Ea\a:  
    kGc)Un?'{U  
    TM!R[-\  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 Y141Twjvd  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 $ }B"u;:SU  
    =AgY8cF!sl  
    6.通过GRIN介质传播 68I4MZK>4  
    @GnsW;$*~.  
    6ap,XFRMh  
    uO[4 WZ  
     通过折射率调制层传播的传播模型: BD4.sd+H,  
    - 薄元近似 M*c\=(  
    - 分步光束传播方法。 G#dpSNV3|  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 Om}&`AP};  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 "45BOw&72G  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 i":-g"d  
    F,:F9r?l,H  
    7.模拟结果 b17p; wS  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
     a$aI%  
    {B\.8)&8  
    8.结论 }=f}@JlFB  
    ,nHz~Xi1t  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 gLpWfT29V  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 _R5^4-Qe  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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