1.模拟任务 |,bP`Z zRU9Q2Y 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
{+~ JTrp 设计包括两个步骤:
c@E;v<r' - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
v9\U2j - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
5cvvdO*C0 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
rp
'^]Zx ~6"=d oVTXn=cYDp 照明光束参数 2Z-[x9t u`.3\Geh Y{Ff I+ 波长:632.8nm
A`--*$ 8\ 激光光束直径(1/e2):700um
Dm@h'* XU`ly3! 理想输出场参数 1{ H=The qeW.~B!B -Qn l)JB 直径:1°
g~ii^[W 分辨率:≤0.03°
}4g$aTc 效率:>70%
)oALB vX 杂散光:<20%
#bJp)&LO MK- +[K ~?4BP%g-y 2.设计相位函数 r$1b=m,0d y!dw{Lz l^XOW- ;u cyLl,OA 相位的设计请参考会话编辑器
m68>` Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
3-=AmRxW't 设计没有离散相位级的phase-only传输。
M&jlUr&l x=Aq5*A0 3.计算GRIN扩散器 bU/4KZ'-^ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
v}J0j 最大折射率调制为△n=+0.05。
9Trk&OB 最大层厚度如下:
0~z`>#W, K^6d_b& 4.计算折射率调制 33SCHQ `M*jrkM]x 从IFTA优化文档中显示优化的传输
b9ud8wLE[ (&1.!R[X 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
@tJ4^<`P{ .R@s6}C`}= Sgr. V) 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
s3T7M:DM4 sq;!5qK
/k[8xb 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
@eZBwFe |g>Q3E h-//v~V) 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
|VzXcV-"8) u|Oc+qA( ::+;PRy_E Z^}[CQ&Am 数据阵列可用于存储折射率调制。
j/_&]6! 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
W"*2,R[}% 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
$hHV Ie]+ CPL,QVO9 5.X/Y采样介质 b\KbF/T
mo3A *|U |d z2Drc GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
6:L2oW 6}{ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
98)C
7N' 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
2X[oge0@ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
SSxz1y {NQCe0S+p .heU
Ir, ).IyjHY 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
,v
2^Ui 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
^%!SKhRIK 应该选择像素化折射率调制。
c_CVZR? $5/d?q-ts{ G@`ZDn 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
-)B_o#2=2 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
$qr6LIKGw |`?& 6.通过GRIN介质传播 k0O5c[j K9.Gjw >d=pl}-kOQ
mhX66R 通过折射率调制层传播的传播模型:
|`Noj+T47I - 薄元近似
fN&uat