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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 |,bP` Z  
    zRU9Q 2Y  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 {+~ JTrp  
     设计包括两个步骤: c@E;v<r'  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 v9\U2j  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 5cvvdO*C0  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 rp '^]Zx  
    ~6"=d  
    oVTXn=cYDp  
    照明光束参数 2Z-[x9t  
    u`.3\Geh  
    Y{Ff I+  
    波长:632.8nm A`--*$8\  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Dm@h'*  
    XU`ly3!  
    理想输出场参数 1{ H=The  
    qeW.~B!B  
    -Qn l)JB  
    直径:1° g~ii^[W  
    分辨率:≤0.03° }4g$ aTc  
    效率:>70% )oALB vX  
    杂散光:<20% #bJp)&LO  
    MK-+[K  
    ~?4 BP%g-y  
    2.设计相位函数 r$1b=m,0d  
     y!dw{Lz  
    l^XOW- ;u  
    cyLl,OA  
     相位的设计请参考会话编辑器 m68>`  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 3-=AmRxW't  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 M&jlUr&l  
    x=Aq5*A0  
    3.计算GRIN扩散器 bU/4KZ'-^  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 v}J0j  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 9Trk&OB  
     最大层厚度如下: 0~z`>#W,  
    K^6d_b&  
    4.计算折射率调制 33 S CHQ  
    `M*jrkM]x  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 b9ud8wLE[  
    (&1.!R[X  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 @tJ4^<`P{  
    .R@s6}C`}=  
    Sgr. V)  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 s3T7M:DM4  
    s q;!5qK  
    /k[8xb  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 @eZBwFe  
    |g >Q3E  
    h-//v~V)  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 |VzXcV-"8)  
    u|Oc+qA(  
    ::+;PRy_E  
    Z ^}[CQ&Am  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 j /_&]6!  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 W"*2,R[}%  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 $hHV Ie]+  
    CPL,QVO9  
    5.X/Y采样介质 b\KbF/ T  
    mo3A*|U  
    |d z2Drc  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 6:L2oW 6}{  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 98)C 7N'  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 2X[oge0@  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    SSxz1y  
    {NQCe0S+p  
    .heU Ir,  
    ).IyjHY  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 ,v 2^Ui  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 ^%!SKhRIK  
     应该选择像素化折射率调制。 c_CVZR?  
    $5/d?q-ts{  
    G@`ZDn  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 -)B_o#2=2  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 $qr6LIKGw  
    |` ?&  
    6.通过GRIN介质传播 k0O5c[ j  
    K9.Gjw  
    >d=pl}-kOQ  
    mhX66R  
     通过折射率调制层传播的传播模型: |`Noj+T47I  
    - 薄元近似 fN&uat7  
    - 分步光束传播方法。 #AB5}rPEI  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 rjiHP;-t1  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 gC7Po  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Ef?hkq7X<  
    ;x 2o|#`b  
    7.模拟结果 YvcV801Go  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    $i6z)]rjg  
    },#7  
    8.结论 : \qapFV  
    8PH4v\tJEK  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 /gl8w-6  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 09anQHa  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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