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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 r!a3\ep  
    :7?FF'u  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 TSWM |#u':  
     设计包括两个步骤: M*H nM(  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 /mu*-,a eX  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 Y6L ~K?  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 @)&=%  
    5vZ^0yFQ  
    :s6o"VkW  
    照明光束参数 JOLaP@IPT  
    WoRZW%  
    \3aoM{ztD  
    波长:632.8nm `&sH-d4v  
    激光光束直径(1/e2):700um
    V0XvJ  
    )fSOi| |C  
    理想输出场参数 _ T):G6C8  
    ?+a,m# Yx  
    W= qVc  
    直径:1° tX %5BTv  
    分辨率:≤0.03° wInh~p  
    效率:>70% M |`U"vO  
    杂散光:<20% s;vHPUB\n  
    )i^<r;_z  
    }\:Nu Tf  
    2.设计相位函数 6@0OQb  
    %k?U9pj^  
    zSja/yq  
    "Yj'oE% \  
     相位的设计请参考会话编辑器 4 bH^":i(  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 bNNr]h8y-  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 4'A!; ]:  
    ssxzC4m  
    3.计算GRIN扩散器 *P2S6z2  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 Q;JM$a?5iV  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ]4]6Qki  
     最大层厚度如下: @A89eZbW  
    gPsi  
    4.计算折射率调制 4 f'V8|QM{  
    2Kyl/C,  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ssRbhlD/*1  
    T<p !5`B1  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 4$S;(  
    DBD%6o>]K  
    &*G #H~\  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 pd;br8yE$@  
    iQ fJ  
    3ojlB|Z  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 t@N=kV  
    7KL v6]b  
    kZZh"#W: L  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 _p&]|~a  
    _EMwm&!  
    X4E%2-m@'  
    IS 2^g>T#1  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 -~30)J=e`  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 `A^"% @j  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 4.=3M  
    )V6Hl@v  
    5.X/Y采样介质 ;1.,Sn+zO  
    >eB\(EP  
    G) 7;;  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 M#VE]J  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 JB`\G=PiL  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 U`d5vEhT  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    pd7NF-KD  
    J/GSceHF  
    WP+oFkw>  
    PuT@}tw  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 vbBc}G"w  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 cmg ^J  
     应该选择像素化折射率调制。 !~&R"2/  
    7-T{a<g  
    I`LuRl w  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 `_{`l4i 5  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 7MHKeLq  
    {(wHPzq  
    6.通过GRIN介质传播 "zRoU$X  
    RUT,Y4 b  
    }J1tdko#  
    _/!y)&4"  
     通过折射率调制层传播的传播模型: w1#gOwA,$  
    - 薄元近似 Vq;A>  
    - 分步光束传播方法。 G *;a^]-  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 "WK{ >T  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 "zFNg';  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 z3M6V}s4  
    rKf-+6Na  
    7.模拟结果 JJ'.((  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    "7V2lu  
    ;Tc`}2  
    8.结论 [YT>*BH?  
    9Z'8!$LYg  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 uYil ?H{kH  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 mB9r3[  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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