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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 )3i}(h0  
    3HsjF5?W  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 =m@5$  
     设计包括两个步骤:  >m!l5/  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Nkfu k  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 z~d\d!u1  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 wEK@B&DV  
    .ON+ ( #n  
    {b@rQCre7  
    照明光束参数 c`UJI$Q/  
    1\d$2N"  
    f[)_=T+  
    波长:632.8nm ^ K8JE,  
    激光光束直径(1/e2):700um
    [kqxC  
    *"E?n>b  
    理想输出场参数 e=t?mDh#E  
    5 Vm |/  
    Vy = fm  
    直径:1° S3"js4a  
    分辨率:≤0.03° ;S+c<MSl  
    效率:>70% HF-Msu6  
    杂散光:<20% rVkoj;[  
    G+ =6]0HT  
    pk'@!|g%=  
    2.设计相位函数 1r}fnT<  
    :)nn/[>fC  
    z`uqK!v(K  
    WNT m  
     相位的设计请参考会话编辑器 G)l[\6Dn  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 o"^}2^)_SR  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 zx\N^R;Jq  
    )@Yp;=l  
    3.计算GRIN扩散器 maLJ M\C  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 iL1.R+  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 {+[~;ISL  
     最大层厚度如下: =$5[uI2  
    uPe4Rr  
    4.计算折射率调制 96F:%|yG  
    &sL5 Pt_  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 wxZnuCO%H8  
    lwLK#_5u  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 yz-IZt(  
    %5RYa<oP  
    @1P1n8mH]  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 vII&v+C  
    ~%^af"_  
    <9bQAyL9  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 xtjTU;T  
    :5?ti  
    > c7/E  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 t; n6Q0  
    # RJy  
    l3}n.ODA  
    i`r,B`V`08  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 "}K/ b  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 k`js~/Xv  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 +nd'Uf   
    d8M"vd  
    5.X/Y采样介质 I(Nsm3L  
    W<2%J)N<  
    cFUYT$8>  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 GMU<$x8o  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 (W+9 u0Zq  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。  -/  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    N(&FATZUW  
    /db?ltb  
    D4'? V Iz  
    8<P$E!  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 |k&.1NkZ  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 w0SzK-&  
     应该选择像素化折射率调制。 TFxb\  
    =[{Pw8['  
    ENC_#- 1x  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 +nuv?QB/  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 { r&M  
    g) v"nNS  
    6.通过GRIN介质传播 zwU8iVDe  
    + y.IDn^  
    EFql g9bK  
    RU"w|Qu>pM  
     通过折射率调制层传播的传播模型: *BXtE8 BU  
    - 薄元近似 &;)~bS(   
    - 分步光束传播方法。 `4}!+fXQ  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 *`}_e)(k  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 cYR6+PKua  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 ";s5It  
    phXVuQ  
    7.模拟结果 +1d\ZZA|6&  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    <Dm6CH  
    {'DP/]nK  
    8.结论 EE}NA{b  
    )lw7 W9  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 4 >&%-BhN  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 lR.a3.~  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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