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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 8.R~Ys*  
    !$|h[ct  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 E A}Vb(2  
     设计包括两个步骤: r>gU*bs(  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 RFq&#3f$  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 l4`HuNR1  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 [n{c,U F  
    "I`g(q#Uo  
    #K _E/~  
    照明光束参数 li~#6$  
    Q]oCzSi  
    Q( \2(x\  
    波长:632.8nm E3<~C(APW  
    激光光束直径(1/e2):700um
    Fi!XaO  
    xfJ&11fG2  
    理想输出场参数 Fi*j}4F1  
    n.\|NR'v  
    C=|X]"*:u0  
    直径:1° SF2<   
    分辨率:≤0.03° V]I+>Zn| 7  
    效率:>70%  #3m7`}c  
    杂散光:<20% `lA[-x~  
    ); <Le6  
    w` ;>+_ E7  
    2.设计相位函数 v<wR`7xG  
    xIh,UW#  
    ~56F<=#,  
    ;^`WX}]C(  
     相位的设计请参考会话编辑器 ]&l%L4Z  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 :i>/aRNh1  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 !c3li .  
    q&`>&k  
    3.计算GRIN扩散器 +f- E8q  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 s.oh6wz  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 UAi]hUq  
     最大层厚度如下: 1FQ_`wF4  
    A(#4$}!n5  
    4.计算折射率调制 :n t\uwh  
    ID1/N)5 6  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 +S3r]D3v/  
    n-Qpg  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 YPY'[j(p`n  
    OG&X7>'3I{  
    UPI'O %  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 |Q _]+[  
    [)&(zJHX  
    z8"(Yy7m  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 RU' WHk  
    t:h~p-&QB  
    yF#:*Vz>  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 lx!9KQAM*  
    `p. O  
    \HsrUZ~  
    s[HQq;S  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 8a SH0dX  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 VP<_~OLc  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 z2GT9  
    4Nx]*\\  
    5.X/Y采样介质 %!;6h^@  
    tLzX L *  
    o/U"'FP  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ~!Q\\_  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 - #ta/*TT:  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 a &89K  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    BVt)~HZ  
    l$s8O0-'T  
    i1kTP9  
    9se ,c  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 Qs^Rh F\d  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 I>jDM  
     应该选择像素化折射率调制。 Gpauy=4f  
    J:q:g*Wi  
    -brn&1oJ  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 q["T6  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 e{dYLQd  
    {{\ d5CkX  
    6.通过GRIN介质传播 y,`SLgBID  
    EZ.|6oug\  
    F5#P{ zk|  
    JlF$|y,gV,  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Po=@ 6oB  
    - 薄元近似 y^SDt3Am  
    - 分步光束传播方法。 ;6?VkF  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 . >{.!a  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 laQM*FLg  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 QE.a2 }  
    abVz/R/o  
    7.模拟结果 4l6+8/Y  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    jd&kak  
    c-2##Pf_8O  
    8.结论 F^v <z)x  
    `V;vvHP A  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 <~[ A  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 iYyJq;S   
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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