1.模拟任务 r!a3\ep :7?FF'u 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
TSWM
|#u': 设计包括两个步骤:
M*HnM( - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
/mu*-,aeX - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
Y6L~K? 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
@)&=% 5vZ^0yFQ :s6o"VkW 照明光束参数 JOLaP@IPT WoRZW% \3aoM{ztD 波长:632.8nm
`&sH-d4v 激光光束直径(1/e2):700um
V0XvJ
)fSOi||C 理想输出场参数 _ T):G6C8 ?+a,m# Yx W=qVc 直径:1°
tX %5BTv 分辨率:≤0.03°
wInh~p 效率:>70%
M|`U"vO 杂散光:<20%
s;vHPUB\n )i^<r ;_z }\:NuTf 2.设计相位函数 6@0OQb %k?U9pj^ zSja/yq "Yj'oE%\ 相位的设计请参考会话编辑器
4 bH^":i( Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
bNNr]h8y- 设计没有离散相位级的phase-only传输。
4'A!; ]: ssxzC4m 3.计算GRIN扩散器 *P2S6z2 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
Q;JM$a?5iV 最大折射率调制为△n=+0.05。
]4]6Qki 最大层厚度如下:
@A89eZbW gPsi 4.计算折射率调制 4f'V8|QM{ 2Kyl/C, 从IFTA优化文档中显示优化的传输
ssRbhlD/*1 T<p !5`B 1 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
4$S;( DBD%6o>]K &*G#H~\ 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
pd;br8yE$@ iQ
fJ
3ojlB |Z 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
t@N=kV 7KL v6]b kZZh"#W: L 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
_p&]|~a _EMwm&! X4E%2-m@' IS
2^g>T#1 数据阵列可用于存储折射率调制。
-~30)J=e` 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
`A^"%@j 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
4.=3M )V6Hl@v 5.X/Y采样介质 ;1.,Sn+zO
>eB\(EP G) 7;; GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
M#VE ]J 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
JB`\G=PiL 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
U`d5vEhT 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
pd7NF-KD J/GSceHF WP+oFkw> PuT@}tw 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
vbBc}G"w 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
cmg^J
应该选择像素化折射率调制。
!~&R"2/ 7-T{a<g I`LuRlw
优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
`_{`l4i5 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
7MHKeLq {(wHPzq 6.通过GRIN介质传播 "zRoU$X RUT,Y4 b }J1tdko# _/!y)&4" 通过折射率调制层传播的传播模型:
w1#gOwA,$ - 薄元近似
Vq;A>
- 分步光束传播方法。
G *;a^]- 对于这个案例,薄元近似足够准确。
"WK{ >T 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
"zFNg'; 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
z3M6V}s4 rKf-+6Na 7.模拟结果 JJ'.(( 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
"7V2lu ;Tc`}2 8.结论 [YT>*BH ? 9Z'8!$LYg VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
uYil ?H{kH 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
mB9r3[ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。