1.模拟任务 )3i}(h0 3HsjF5?W 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
=m@5$ 设计包括两个步骤:
>m!l5/ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
Nkfu k - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
z~d\d!u1 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
wE K@B&DV .ON+ (
#n {b@rQCre7 照明光束参数 c`UJI$Q/ 1\d$2N" f[)_=T+ 波长:632.8nm
^
K8JE, 激光光束直径(1/e2):700um
[kqxC *"E?n>b 理想输出场参数 e=t?mDh#E 5 Vm
|/ Vy
= fm 直径:1°
S3"js4a 分辨率:≤0.03°
;S+c<MSl 效率:>70%
HF-Msu6 杂散光:<20%
rVkoj;[ G+=6]0HT pk'@!|g%= 2.设计相位函数 1r}fnT< :)nn/[>fC z`uqK!v(K WNTm 相位的设计请参考会话编辑器
G)l[\6Dn Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
o"^}2^)_SR 设计没有离散相位级的phase-only传输。
zx\N^R;Jq )@Yp;=l 3.计算GRIN扩散器 ma LJ M\C GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
i L1.R+ 最大折射率调制为△n=+0.05。
{+[~;ISL 最大层厚度如下:
=$5[uI2 uPe4Rr 4.计算折射率调制 96F:%|yG &sL5Pt_ 从IFTA优化文档中显示优化的传输
wxZnuCO%H8 lwLK#_5u 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
yz-IZt( %5RYa<oP @1P1n8mH] 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
vII&v+C ~%^af"_
<9bQAyL9 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
xtjTU;T :5?ti >c7/E 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
t; n6Q0 #RJy l3}n.ODA i`r,B`V`08 数据阵列可用于存储折射率调制。
"}K/ b 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
k`js~/Xv 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
+nd'Uf
d8M"vd 5.X/Y采样介质 I(Nsm3L
W<2%J)N< cFUYT$8> GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
GMU<$x8o 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
(W+9 u0Zq 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
-/ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
N(&FATZUW /db?ltb D4'?
V
Iz 8<P $E! 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
|k&.1NkZ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
w0SzK-& 应该选择像素化折射率调制。
TFxb\ =[{Pw8[' ENC_#-1x 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
+nuv?QB/ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
{r&M g) v"nNS 6.通过GRIN介质传播 zwU8i VDe
+ y.IDn^ EFql
g9bK RU"w|Qu>pM 通过折射率调制层传播的传播模型:
*BXtE8
BU - 薄元近似
&;)~bS( - 分步光束传播方法。
`4}!+fXQ 对于这个案例,薄元近似足够准确。
*`}_e)(k 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
cYR6+PKua 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
";s5It
phXVuQ 7.模拟结果 +1d\ZZA|6& 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
<Dm6CH {'DP/]nK 8.结论 EE}NA{b )lw7W9 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
4
>&%-BhN 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
lR.a3.~ 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。