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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 #/"?.Z;SSH  
    $0[t<4K`yn  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 cmcR @zv  
     设计包括两个步骤: 58]C``u@Y  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 *OM+d$l!  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 >^!)G^B  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 :<QmG3F  
    H;D CkVL  
    yq6Gyoi<  
    照明光束参数 q0sdL86  
    lEXER^6  
    ==!k99`f,  
    波长:632.8nm _GW,9s^A  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ,#V }qSKUS  
    z79c30y]"  
    理想输出场参数 v?O6|0#x  
    woyn6Z1JQ  
    zm~sq_=^  
    直径:1° B'}pZOa[Wb  
    分辨率:≤0.03° jA' 7@/F/  
    效率:>70% Bx" eX>A8  
    杂散光:<20% fUKi@*^ZUa  
    _Dq, \}  
    )&px[Dbx  
    2.设计相位函数 wdMVy=SS  
    jt?DogYx  
    qK-\`m  
    !+o`,KTYp  
     相位的设计请参考会话编辑器 [sc4ULS &  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 nhImO@Q:  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 Sv>bU4LHf  
    Eb~e=){  
    3.计算GRIN扩散器 XF Cwa  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 /6@$^paB  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 >c30kpGg  
     最大层厚度如下: '7yVvd  
    v/G)E_  
    4.计算折射率调制 D:=Q)Uh0I  
    \R|qXB $  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 WB|N)3-1  
    XCyAt;neon  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 {^A,){uX]  
    <(tnClAn  
    f7v|N)  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 J`'wprSBb  
    kJNu2S  
    $*qQ/hi  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 X$(YCb  
    As+^6  
    e3=-7FU  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 <d~IdK'\x  
    .`~=1 H\R"  
    ^X| Bzz)  
    Y*-dUJK-`  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 PL*1-t?#  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 8Y P7'Fz  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 =y]F cxF  
    =v6qr~  
    5.X/Y采样介质 2'-o'z<  
    I;UCKoFT  
    |*y'H*  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 n0vhc;d  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ,jJbQIu#  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 .mvpFdn  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    @WnW @'*F  
    4Ixu%  
    q 1~3T;Il  
    ueLdjASJ  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 'M=V{.8U  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 AkA2/7<[  
     应该选择像素化折射率调制。 R=<uf:ca  
    tE]Y=x[Ux  
    UUR` m  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 -m_H]<lWZ  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 {33B%5n"  
    DpvMY94Qh  
    6.通过GRIN介质传播 z c&i 4K  
    yv2wQ_({  
    aB2t/ua  
    7"p%c`*;  
     通过折射率调制层传播的传播模型: d#u*NwY}  
    - 薄元近似 g&fq)d  
    - 分步光束传播方法。 IaYaIEL-  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 w3 K>IDWI7  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Dz<vIMLF{  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 Fh~ pB>t  
    C~c|};&%  
    7.模拟结果 Qt"i  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    `8b4P>';O'  
    p{w:^l(  
    8.结论 nrJW.F]S8[  
    9e0t  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 !d{Ijs'T  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 ^wMZG'/  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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