1.模拟任务 sva-Sd8 x>,wmk5) 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
P: L6Zo-J 设计包括两个步骤:
X}5"ZLa7l - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
U#- 5",X| - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
F >^KXq:Z 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
r_FI5f '4D7: BHS@whj 照明光束参数 qrjSG%i~J7 #T8jHnI lxbC 7?O 波长:632.8nm
M= |is*t 激光光束直径(1/e2):700um
$FDGHFM M,yxPHlN 理想输出场参数 I[gPW7&S@ XD?]+ 3 ]@wa!` 直径:1°
GMkni'pV 分辨率:≤0.03°
{.0I!oWv 效率:>70%
+fKV/tSWi 杂散光:<20%
f}KV4'n Tr4\ `a-i \TnK<83 2.设计相位函数 @[`]w`9Q7 ^|vP").aQm 2P${5WT YHke^Ind 相位的设计请参考会话编辑器
|}:q@]dC# Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
X+HPdrT 设计没有离散相位级的phase-only传输。
F&^&"(H} qF-Fc q 3.计算GRIN扩散器 ?' mP`9I GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
a+CJJ3T- 最大折射率调制为△n=+0.05。
;PqC*iz 最大层厚度如下:
%&lwp (&V)D?/hS 4.计算折射率调制 TEGg)\+D> =h?%<2t9< 从IFTA优化文档中显示优化的传输
/UY'E<wBx sFvYCRw
/ 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
l}T@Cgt 4PR&67|AH_ k8SY=HP 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
#,FXc~ V M1k_ldP
C43I(.2g 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
7Up-a^k^` \f VX<L !Htl e % 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
9x(t"VPuS KV'3\`v@LY &uV|Ie8@q o4j!:CI 数据阵列可用于存储折射率调制。
\l# H#~ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
;NAKU 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
sYSq >M pe). 5.X/Y采样介质 t-iQaobF
:RYYjmG5;
/Tw $}8 GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
vfVF^
WOd 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
Wcl =YB% 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
<h<_''+ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
[iyhrc:@ =%u=ma; LW/> % B4c;/W- 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
yM(ezb 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
jH;L7 应该选择像素化折射率调制。
Q&PEO%/D OU^I/TU 4
'vjU6gW 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
&t'P>6) 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
;7JyL|2 Q'j00/K 6.通过GRIN介质传播 ~X'hRNFx~ 3.=o }! >Il{{{\> s(=@J?7As 通过折射率调制层传播的传播模型:
dWo$5Bls<A - 薄元近似
-
s{&_]A~ - 分步光束传播方法。
*Ct
^jU7 对于这个案例,薄元近似足够准确。
EU Oa8Z 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
MQy,[y7I 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
b=L|GV@$ /"R{1 7.模拟结果 =~dXP 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
fq):'E) 4s <ZKU 8.结论 3XUsw1,[ N~(?g7 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
/$FpceB!W 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
7L]Y.7> 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。