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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 1Df, a#,y"  
    pSXEJ 2k  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 :^5>wDu{  
     设计包括两个步骤: Qqh^E_O  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ILNXaJ'0a  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 ~9bv Wd1D  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 w?i)/q  
    A`g.[7  
    _V&x`ks  
    照明光束参数 <oQ6ZX  
    +2El  
    VH[l\I(h  
    波长:632.8nm Gg}t-_M  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8M~u_`6  
    i!tc  
    理想输出场参数 4NJVW+:2  
    88#N~j~P  
    OFp#<o,p  
    直径:1° +~:x}QwGT  
    分辨率:≤0.03° -G FwFkWm  
    效率:>70% q{[1fE"[K4  
    杂散光:<20% g(1"GKg3K  
    y%JF8R;n  
    _E&U?>g+  
    2.设计相位函数 t={poQC~  
    pA*i!.E/b  
    &D)Hz  
    qR_SQ VN  
     相位的设计请参考会话编辑器 @::lJDGVv  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 4I z.fAw  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 y>4p~  
    raSF3b/0  
    3.计算GRIN扩散器 MV9r5|3-  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 s* @QT8%  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 =1eV   
     最大层厚度如下: V@Ax}<$A  
    $vz_%Y  
    4.计算折射率调制 N-Qu/,~+  
    ,=yOek}  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 z_'dRw  
    xJ$Rs/9C  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 S3nB:$_-;  
    p1C_`f N,  
    DZ,<Jmg&e*  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 BF>T*Z-Ki  
    vs* >onCf  
    e#K rgUG  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 F_K  
    K6ciqwUO  
     PE^eP}O1  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 \A` gK\/h  
    $ V3n~.=  
    w 7Cne%J8  
    dvC0 <*V  
     数据阵列可用于存储折射率调制。  |h  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 BDWim`DK"  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ^ sS>Mts  
    4 fZY8  
    5.X/Y采样介质 9zmD6G!}t  
    )j]gm i"  
    !Jk(&.  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟。 6\%r6_.d  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ,G/\@x%  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 pM1=U F  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    ~JIywzcf8  
    |~7+/VvI+  
    oXnC "y}0P  
    t `N ">c"  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 (N)r#"F V  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 SJso'6 g  
     应该选择像素化折射率调制。 [Od>NO,n+]  
    (xI)"{   
    H(  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 8XLxT(YFIs  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 Xw&QrTDS`  
    SD)5?{6<  
    6.通过GRIN介质传播 F<6KaZ|  
    ;D%$Eh&oma  
    ?j &V:kF  
    @m*&c*r  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 2tm~QL  
    - 薄元近似 g(ZeFOn  
    - 分步光束传播方法。 }S'I DHla  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 MzBfHt'Rk  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Y\ #.EVz  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 n's2/9x  
    jx^|2  
    7.模拟结果 Jnh;;<  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    ujI 3tsl  
    !=8L.^5c  
    8.结论 Co{MIuL  
    x!Z:K5%O  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 eO|^Lu]+  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 '6Pu[^x  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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