1.模拟任务
*4{GID aQ.mvuMa7' 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
.c2Zr|X 设计包括两个步骤:
N:7;c}~ - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
Z3nmC-NE - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
'wP\VCL2> 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
^)[jBUT P{h$> 6c $_0~Jzt, 照明光束参数 JnZlz?}^ HPeN0=7> ]tDuCZA 波长:632.8nm
*lws7R 激光光束直径(1/e2):700um
M}b[;/~ FaE,rzn)iD 理想输出场参数 :=^_N} 9..! g: #MI4 `FZ 直径:1°
58.b@@T 分辨率:≤0.03°
Nh/B8:035 效率:>70%
wT+b|K 杂散光:<20%
I^yInrRh5 IA?v[xu _^"0"<, 2.设计相位函数 S2EeC&-AR x5)YZ~5 Ct,|g =( ]&RC<imq 相位的设计请参考会话编辑器
O!#bM< * Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
mtg3}etA 设计没有离散相位级的phase-only传输。
o+T%n1$+V d%='W|i\p& 3.计算GRIN扩散器 | ?])]F GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
(*\*7dIo 最大折射率调制为△n=+0.05。
WT9k85hqj 最大层厚度如下:
MZInS:Vj ,"Nfo`7 4.计算折射率调制 exQU A ^wIsAxT 从IFTA优化文档中显示优化的传输
^;]Q,*Q y7)$~R):- 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
v*k}{M 1'{A,! *D$[@-7 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
)cd5iE:FO Ps!~miN|>
P7`sJ("# 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
%qf ?_2v 0X"D!G): |X$O'Gf#n 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
)FnJLd 0pu=, 0j)D[K Pa-p9]gq 数据阵列可用于存储折射率调制。
@3F 4Lg6H| 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
xmI!N0eta 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
orcPKCz|" i{
" g7 5.X/Y采样介质 k&h3"
-
P$mN6h qz
.{[l GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
)LP=IT 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
z|:3,$~sN 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
vdLBf+Zi 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
CtO `t5 hH|moj] #M5R>&?Jqz @!UuK; 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
);zLy?n 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
a*4l!-7 应该选择像素化折射率调制。
:t36]NM [h
GS* ^+m6lsuA 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
7;T6hKWV[ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
L(bYG0ZI5C G(~
s(r{%I 6.通过GRIN介质传播 cU^Z=B I#m0n%-[ nYc8+5CcK' zFn-VEJ) 通过折射率调制层传播的传播模型:
6ofi8(n[ - 薄元近似
NQx`u"= - 分步光束传播方法。
O_u2V'jy9 对于这个案例,薄元近似足够准确。
HoIK^t~VT# 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
ph;ds+b 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
X_6h8n}i - 9Ll'fbq 7.模拟结果 l".LtUf- 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
N^{"k,vB- QX]~|?q 8.结论 ,'E+f% 5w#
Ceg9 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
sfv{z!mo 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
7vRFF@eq} 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。