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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务  *4{GI D  
    aQ.mvuMa7'  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 .c2Zr|X  
     设计包括两个步骤: N:7;c}~  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Z3nmC-NE  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 'wP\VCL2>  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 ^ )[jBUT  
    P{h$> 6c  
    $_0~Jzt,  
    照明光束参数 JnZlz?}^  
    HP eN0=7>  
    ]tDuCZA  
    波长:632.8nm *lws7R  
    激光光束直径(1/e2):700um
    M}b[;/~  
    FaE,rzn)iD  
    理想输出场参数 :=^_N}  
    9..! g:  
    #MI4 `FZ  
    直径:1° 58.b@@T  
    分辨率:≤0.03° Nh/B8:035  
    效率:>70% wT+b|K  
    杂散光:<20% I^yInrRh5  
    IA?v[xu  
    _^"0"<,  
    2.设计相位函数 S2EeC&-AR  
    x5)YZ~5  
    Ct,|g =(  
    ]&RC<imq  
     相位的设计请参考会话编辑器 O!#bM< *  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 mtg3}etA  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 o+T %n1$+V  
    d%='W|i\p&  
    3.计算GRIN扩散器 | ?])]F  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 (*\*7dIo  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 WT9 k85hqj  
     最大层厚度如下: MZInS:Vj  
    ,"Nfo`7  
    4.计算折射率调制 exQU  
    A ^wIsAxT  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ^;]Q,*Q  
    y7)$~R):-  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 v*k}{M  
    1'{A,!  
    *D$[@-7  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 )cd5iE:FO  
    Ps!~miN|>  
    P7`sJ("#  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 %qf ?_2v  
    0X"D!G):  
    |X$O'Gf#n  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 ) FnJLd  
    0pu=,  
    0j )D[K  
    Pa-p9]gq  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 @3F4Lg6H|  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 xmI!N0eta  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 orcPKCz|"  
    i{ " g 7  
    5.X/Y采样介质 k&h3"  
    - P$mN6h  
    qz .{[ l  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 )LP=IT  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 z|:3,$~sN  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 vdLBf+Zi  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    CtO`t5  
    hH|moj]  
    #M5R>&?Jqz  
    @ !UuK;  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 );zLy?n  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 a*4l!-7  
     应该选择像素化折射率调制。 :t36]NM  
    [h GS*  
    ^+m6lsuA  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 7;T6hKWV[  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 L(bYG0ZI5C  
    G(~ s(r{%I  
    6.通过GRIN介质传播 cU^Z=B  
    I#m0n%-[  
    nYc8+5CcK'  
    zFn-V EJ)  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 6ofi8( n[  
    - 薄元近似 NQx`u"=  
    - 分步光束传播方法。 O_u2V'jy9  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 HoIK^t~VT#  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ph;ds+b  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 X_6h8n}i  
    -9Ll'fbq  
    7.模拟结果 l".LtUf-  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    N^{"k,vB-  
    QX]~|?q  
    8.结论 ,'E+f%  
    5w# Ceg9  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 sfv{z!mo  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 7vRFF@eq}  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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