1.模拟任务 (TX\vI& o+wG69 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
x)]_]_vX 设计包括两个步骤:
tx+KxOt9Y - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
?Z1&ju,Hd- - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
KTmduf7DL 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
x5X;^.1Fr 3PBGIo sy\w ^] 照明光束参数 03%`ouf rnkq. UI?AM 34 波长:632.8nm
<[oPh(!V 激光光束直径(1/e2):700um
u%s@B1j 'Nqa=_<WW 理想输出场参数 !{WIN%O QE#Ar8tU I7S#vIMXR. 直径:1°
34Fc
oud); 分辨率:≤0.03°
*EB`~s 效率:>70%
yF _@^V 杂散光:<20%
`R\nw)xq HCCEIgCT &az
:YTq 2.设计相位函数 5PRS|R7 *l-f">?| e7$ZA#A_5v ^&Exa6=*FT 相位的设计请参考会话编辑器
4t]YHLBS Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
2omKP,9,2 设计没有离散相位级的phase-only传输。
2!Gb4V 2~wIHtd 3.计算GRIN扩散器 'g@Yra&09 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
lQq&tz, 最大折射率调制为△n=+0.05。
nZtP!^# 最大层厚度如下:
fqY;>Z J^Mq4& 4.计算折射率调制 !D \u2h 8M~^/Zc 从IFTA优化文档中显示优化的传输
%x]8^vze 7gx
7NDt 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
'f
"KV| L3@upb .^F(&c*[' 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
4[ .DQ#r Jfe<$-$$7
B(zcoWQ*B 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
nG~#o 'LyEdlC] 70MSP;^ 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
}j_2K1NS{ p!_3j^"{ j}.,|7X zT< P_l 数据阵列可用于存储折射率调制。
WxrGoo^ 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
tW8&:L,m 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
en?J#fz aQTISX; 5.X/Y采样介质 !,0%ZG}]7
e*Gt%' b<]Ae!I' GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
zQ=c6xvm8 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
/E32^o|,> 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
"B34+fOur 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
N+3]C9 2o ?r}'0dW ER'zjI>t@ F3Y/Miw 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
s{:l yp 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
F^/b!)4X 应该选择像素化折射率调制。
~w,c6Z NU <K+k ToXgl4:kd 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
N,?4,+Hc- 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
5X1z^( -H+<81"B# 6.通过GRIN介质传播 6 *GR_sMm NE1n 9 0LW|5BVbIO G oHdhne3 通过折射率调制层传播的传播模型:
5nA
*'($j - 薄元近似
v&]k8Hc- - 分步光束传播方法。
Gp.XTz#= 对于这个案例,薄元近似足够准确。
0g{`Qd 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
Mcfqo0T- 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
=uil3:,[S 4b/>ZHFOF; 7.模拟结果 -
fx?@ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
^OZ*L e ,|lDR@ 8.结论 tSf$`4 z,+LPr VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
/qwl;_Jcf 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
rQLl[a 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。