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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 (TX\vI&  
    o+w G6 9  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 x)]_]_vX  
     设计包括两个步骤: tx+KxOt9Y  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ?Z1&ju,Hd-  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 KTmduf7DL  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 x5X;^.1Fr  
    3PBGIo  
    sy\w ^]  
    照明光束参数 03%`ouf  
    rnkq.  
    UI?AM 34  
    波长:632.8nm <[oPh(!V  
    激光光束直径(1/e2):700um
    u%s@B1j  
    'Nqa=_<WW  
    理想输出场参数 !{WIN%O  
    QE#Ar8tU  
    I7S#vIMXR.  
    直径:1° 34Fc oud);  
    分辨率:≤0.03° *EB`~s  
    效率:>70% yF _@^V  
    杂散光:<20% `R\nw)xq  
    HCCEIgCT  
    &az :YTq  
    2.设计相位函数 5PRS|R7  
    *l-f">?|  
    e7$ZA#A_5v  
    ^&Exa6=*FT  
     相位的设计请参考会话编辑器 4t]YHLBS  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 2 omKP,9,2  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 2!Gb4V  
    2~wIHtd  
    3.计算GRIN扩散器 'g@Yra&09  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 lQq&tz,  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 nZtP!^#  
     最大层厚度如下: fqY; > Z  
    J^Mq4&  
    4.计算折射率调制 ! D \u2h  
    8M~^/Zc  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 %x]8^vze  
    7gx 7NDt  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 'f "KV|  
    L3@upb  
    .^F(&c*['  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 4[.DQ#r  
    Jfe<$-$$7  
    B(zcoWQ*B  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 nG~#o  
    'LyEdlC]  
    70MSP;^  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 }j_2K1NS{  
    p!_3j^"{  
    j} .,|7X  
    zT< P_l  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 WxrG o o^  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 tW8&:L,m  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 en?J#fz  
    aQTISX;  
    5.X/Y采样介质 !,0%ZG}]7  
    e*Gt%'  
    b<]Ae!I'  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 zQ=c6xvm8  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 /E32^o|,>  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 "B34+fOur  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    N+3]C9 2o  
    ?r}'0dW  
    ER'zjI>t@  
    F3Y/Miw  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 s{:l yp  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 F^/b!)4X  
     应该选择像素化折射率调制。 ~w,c6 Z  
    NU <K+k  
    ToXgl4:kd  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 N,?4,+Hc-  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 5X1z^(   
    -H+<81"B#  
    6.通过GRIN介质传播 6 *GR_sMm  
    NE1n9  
    0LW|5BVbIO  
    G oHdhne3  
     通过折射率调制层传播的传播模型: 5nA *'($j  
    - 薄元近似 v&]k8Hc-  
    - 分步光束传播方法。 Gp.XTz#=  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 0g{`Qd  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 Mcfqo0T-  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 =uil3:,[S  
    4b/>ZHFOF;  
    7.模拟结果 - fx?@  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    ^OZ*Le  
    , |lDR@  
    8.结论 tSf$`4  
    z,+LPr  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 /qwl;_Jcf  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 rQLl[a  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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