1.模拟任务 D-~Jj&7 wYxizNv, 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
*.+>ur?t 设计包括两个步骤:
y-@!, @e - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
q-o>yjT~ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
z84W{!
P 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
"TV.$s$. EiN.VU ` $%E9^F 照明光束参数 bOFLI#p& E*I]v FEZ6X 波长:632.8nm
87Uv+((H 激光光束直径(1/e2):700um
.;F+ QP0 \I'Zc] 理想输出场参数 X @Bpjg 7E5Dz7 ~pA;j7* 直径:1°
(g)@wNBW 分辨率:≤0.03°
]EcZ|c7o9y 效率:>70%
LAKZAi%O0 杂散光:<20%
6m"
75 '-S&i{H M"vcF5q 2.设计相位函数 =c.q]/M ]dK]a:S aK&+p#4t B0
I? 相位的设计请参考会话编辑器
]~.J@ 1? Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
ZYt
__N 设计没有离散相位级的phase-only传输。
iy#OmI>j vg.%. ~!9 3.计算GRIN扩散器 M$W#Q\<*#r GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
.fsk DW 最大折射率调制为△n=+0.05。
bZ9NnSuH 最大层厚度如下:
j>Z]J'P LA?\~rh! 4.计算折射率调制 \l:g{GnoT LJ/qF0L!H 从IFTA优化文档中显示优化的传输
^'fKey` u#M)i30j 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
sBb.Y
k <ut DZ#k DqMK[N,0 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
u,akEvH~a Qkib;\2
_o?(t\B9{ 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
]Z-oUO
Z<k G; [AQ:Iy rc$!$~|I3Z 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
&a=e=nR5 &7T
H
V 1D[P\r- ij i.3- 数据阵列可用于存储折射率调制。
<s>/< kW: 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
-k
<9v.: 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
E)JyKm. !"J#,e| 5.X/Y采样介质 dn\F!
NoO+xLHw8 8>{W:?I GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
n6-Ic',; 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
'
f$L 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
"x;k'{S 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
+w.Kv
; 3> #mO}\ K)`:v|d !1'-'Q@f 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
qysa!B 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
R-Q1YHUQM 应该选择像素化折射率调制。
5g1M_8e'+ HS:}![P &@HNz6KO 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
B^_Chj*m 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
F> QT| N+M&d3H` 6.通过GRIN介质传播 ]rg+nc3 [b.'3a++ Dw`m>'J0 q Iy^N:C2' 通过折射率调制层传播的传播模型:
d%lHa??/h - 薄元近似
sk
?'^6Xh - 分步光束传播方法。
Yv>BOK 对于这个案例,薄元近似足够准确。
^Y7 /Ow 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
ZJ9Jf2 c 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
`8(h,aj; E ;!<Z4 7.模拟结果 XU_,Z/Yw_ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
lW$&fuDHF e[QxFg0E 8.结论 tw/#ENo 5eOj,[? VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
qggk:cN1 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
c',:@2R 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。