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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 D-~Jj&7  
    wYxizNv,  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 *.+>ur?t  
     设计包括两个步骤: y-@!, @e  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 q-o>yjT~  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 z84W{! P  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 "TV.$s$.  
    EiN.VU `  
    $%E9^F  
    照明光束参数 bOFLI#p&  
    E*I]v  
    FEZ6X  
    波长:632.8nm 87Uv+((H  
    激光光束直径(1/e2):700um
    .;F+ QP0  
    \I'Zc]  
    理想输出场参数 X@Bpjg  
    7E5Dz7  
    ~pA;j7*  
    直径:1° (g)@wNBW  
    分辨率:≤0.03° ]EcZ|c7o9y  
    效率:>70% LAKZAi%O0  
    杂散光:<20% 6m" 75  
    '-S&i{H  
    M"vcF5q  
    2.设计相位函数 =c.q]/M  
    ]dK]a:S  
    aK&+p#4t  
    B0 I?  
     相位的设计请参考会话编辑器 ]~.J@ 1?  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 ZYt __N  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 iy#OmI>j  
    vg.%.~!9  
    3.计算GRIN扩散器 M$W#Q\<*#r  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 .fsk DW  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 bZ9NnSuH  
     最大层厚度如下: j>Z]J'P  
    LA?\~rh!  
    4.计算折射率调制 \l:g{GnoT  
    LJ/qF0L!H  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ^'fKey`  
    u#M)i30j  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 sBb.Y k  
    <ut DZ#k  
    DqMK[N,0  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 u,akEvH~a  
    Qkib;\2  
    _o?(t\B9{  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ]Z-oUO Z<k  
    G; [A Q:Iy  
    rc$!$~|I3Z  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 &a=e=nR5  
    &7T H V  
    1D[P\r-  
    ij i.3-  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 <s >/< kW:  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 -k <9v.:  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 E)JyKm.  
    !"J#,e|  
    5.X/Y采样介质 dn\F!  
    NoO+xLHw8  
    8>{W:?I  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 n6-Ic',;  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 ' f$L  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 "x;k'{S  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    +w.Kv ;  
    3> #mO}\  
    K) `:v|d  
    !1'-'Q@f  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 qysa!B  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 R-Q1YHUQM  
     应该选择像素化折射率调制。 5g1M_8e'+  
    HS:}! [P  
    &@HNz6KO  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 B^_Chj*m  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 F>QT|  
    N+M&d3H`  
    6.通过GRIN介质传播 ]rg+n c3  
    [b.'3a++  
    Dw`m>'J0  
    q Iy^N:C2'  
     通过折射率调制层传播的传播模型: d%lHa??/ h  
    - 薄元近似 sk ?'^6Xh  
    - 分步光束传播方法。 Yv>BOK  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ^ Y7/Ow  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 ZJ9Jf2 c  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 `8(h,aj;  
    E ;!<Z4  
    7.模拟结果 XU_,Z/Yw_  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    lW$&fuDHF  
    e[QxFg0E  
    8.结论 tw/#ENo  
    5eOj, [?  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 qggk:cN1  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 c',:@2R  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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