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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 s${ew.eW  
    q,A;d^g  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 NLf6}  
     设计包括两个步骤: jNBvy1  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 Mt"j< ]EW  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。  $ac VJI?  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 h.(CAm%Y7  
    _Gv n1"l  
    ] X%T^3%G  
    照明光束参数 gq\ulLyOeZ  
    .IXkdy  
    Lj`MFZ  
    波长:632.8nm Ksr.'  
    激光光束直径(1/e2):700um
    8bd&XieE  
    HG{r\jh  
    理想输出场参数 E]/` JI'%  
    k` cz$>  
    nO.RB#I$F  
    直径:1° q$7SJ.pF  
    分辨率:≤0.03° l.NV]up +  
    效率:>70% b=(?\  
    杂散光:<20% >VIb|YA  
    ?VaWOwWI  
    qVjl8%)  
    2.设计相位函数 {]ie|>'=C  
    lC):$W  
    KG=h!]Meq  
    H=,0p  
     相位的设计请参考会话编辑器 LX5, _`B  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 OFH!z{*  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 pu3ly&T#a_  
    tn>z%6;&Z  
    3.计算GRIN扩散器 f}qR'ognUu  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 {kVhht]X  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 9=D09@A%e  
     最大层厚度如下: W(.q. Sx>  
    a$-:F$z  
    4.计算折射率调制 KVQ|l,E, /  
    <O+T4.z  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ksb.]P d.  
    N{rC#A3  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 &ZmWR  
    z86[_l:  
    6'E3Q=}d  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 Ni bOtIZ  
    nZ7FG  
    8y:c3jzP_  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 Ut|G.%1Vd%  
    *?dw`j_b >  
    oVDqX=G  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 0H;,~ WY  
    >Z-f</v03  
    n^kszIu~  
    %uA\Le  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 uj 6dP  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 &\[3m^L  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 >d1gVBhk  
    k(As^'>  
    5.X/Y采样介质 Rd#V,[d  
    'Ll,HgU;  
    q4Z9;^S  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 s{q)P1x  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 Dj0`#~  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 AiMD"7 )c  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    oz54IO  
    ~ 8hAmM  
    0qND2_  
    X }UR\8g  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 cU`sA_f  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 &}N=a  
     应该选择像素化折射率调制。 ?<7o\Xk#{  
    U2~7qC,!Do  
    !+Ia#(  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 =[X..<bW9:  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 N^u,C$zP9C  
    8`edskWrU  
    6.通过GRIN介质传播 e<Pbsj  
    +vR$%  
    8V]oR3'  
    {i}z|'!  
     通过折射率调制层传播的传播模型: }\p>h  
    - 薄元近似 y:\ ^[y IQ  
    - 分步光束传播方法。 qJ\tc\  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 >=<qAkk  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 HkH!B.H]  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 X[F<sxw  
    jSY&P/[ xb  
    7.模拟结果 M@LI(;  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Z33&FUU  
    gc%aaYf>  
    8.结论 D'dE!CAUs  
    G'*_7HD  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 H[K(Tt4<&  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 GQZLOjsop  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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