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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 P_ x9:3  
    ?Dk&5d^d  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 &'-ze,k}  
     设计包括两个步骤: s@vHU4  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 7LY4q/  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 7nAB^~)6l  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 bjEm=4FI;  
    v-mhqhb  
    zQQ=8#]  
    照明光束参数 d'Z  
    INj2B@_  
    U6@ j=|q  
    波长:632.8nm >|22%YVX  
    激光光束直径(1/e2):700um
    1zUo.Tg0  
    \vvV=iw  
    理想输出场参数 m#a0HH  
    1FiFP5  
    2pEr s|r  
    直径:1° o3~ecJ?k  
    分辨率:≤0.03° L^zF@n^5A  
    效率:>70% h}o7/p  
    杂散光:<20% y QxzFy  
    qZ6Mk9@M  
    'X$2gD3c9  
    2.设计相位函数 Oy^)lF/  
    o%E^41M7E  
    .Bu?=+O~  
    DPE]<oM  
     相位的设计请参考会话编辑器 n$fYgZKn  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 2Po e-=  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 N>S_Vgk}  
    Z;6v`;[  
    3.计算GRIN扩散器 tGcp48R-:+  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 :NJ(QkTZv  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 3~7X2}qU  
     最大层厚度如下: 5P'<X p  
    }x^q?;7xW  
    4.计算折射率调制 ;LM,<QJ  
    WZ a?Xb  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 _S[@d^cY  
    o0Y {k8  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 A[F tPk{k  
    BuE=(v2}  
    a.r+>44M  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 k<098F  
    yrnIQu*Uu  
    n9}3>~ll  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 k/&~8l.$  
    #&A)%Qbg  
    Bg?f}nu7  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 j~d<n_   
    Vu3;U  
    ]\y:AkxhJ  
    _<`j?$P  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 )c:i 'L  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 =N5~iMorD-  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 #@QZ  
    38 Q>x  
    5.X/Y采样介质 mlsM;A d2  
    Ka|WT|1  
    9%i|_c}  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 #Ont1>T,G  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 o/grM+_  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 dvWQ?1l_  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    @pcmVsIp  
    'gDhi!h%  
    gZI88Q  
    &&/2oP+z  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 L 1FT h  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 dX4"o?KD>  
     应该选择像素化折射率调制。 fO+$`r>9  
    Fc{X$hh<  
    n2NxO0  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 8ug\GlZc  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 oDtgB O<  
    .d) X.cO  
    6.通过GRIN介质传播 n*UD0U}`  
    To_Y 8 G  
    |~'PEY  
    z?NMQ8l|:6  
     通过折射率调制层传播的传播模型: Rt &Oz!TQ  
    - 薄元近似 IkzY   
    - 分步光束传播方法。 \uT2)X( N  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ;<j[0~qp:  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 >}& :y{z~  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 IQ$cLr-S  
    hRU.^Fn#%  
    7.模拟结果 v{/z`J!JR  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    u@V|13p<  
    w}wABO  
    8.结论 ]kXiT Yg  
    1{ TmK9U  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ~]CQ DR:  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 z}'-gv\,  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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