1.模拟任务 P_ x9:3 ?Dk&5d^d 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
&'-ze,k} 设计包括两个步骤:
s@ vHU4 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
7LY4q/ - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
7nAB^~)6l 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
bjEm=4FI; v-mhqhb zQQ=8#] 照明光束参数 d' Z INj2B@_ U6@j=|q 波长:632.8nm
>|22%YVX 激光光束直径(1/e2):700um
1zUo.Tg0 \vvV=iw 理想输出场参数 m#a0HH 1FiFP5 2pEr
s|r 直径:1°
o3~ecJ?k 分辨率:≤0.03°
L^zF@n^5A 效率:>70%
h}o7/p 杂散光:<20%
yQxzFy qZ6Mk9@M 'X$2gD3c9 2.设计相位函数 Oy^)lF/ o%E^41M7E .Bu?=+O~ DPE]<oM 相位的设计请参考会话编辑器
n$fYgZKn Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
2Po e-= 设计没有离散相位级的phase-only传输。
N>S_Vgk} Z;6v`;[ 3.计算GRIN扩散器 tGcp48R-:+ GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
:NJ(QkTZv 最大折射率调制为△n=+0.05。
3~7X2}qU 最大层厚度如下:
5P'<X p }x^q?;7xW 4.计算折射率调制 ;LM,<QJ WZa?Xb 从IFTA优化文档中显示优化的传输
_S[@d^cY o0Y
{k8 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
A[F tPk{k BuE=(v2} a.r+>44M 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
k<098F yrnIQu*Uu
n9}3>~ll 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
k/&~8l.$ #&A)%Qbg Bg?f}nu7 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
j~d<n_ Vu3;U ]\y:AkxhJ _<`j?$P 数据阵列可用于存储折射率调制。
)c:i'L 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
=N5~iMorD- 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
#@QZ 38Q>x 5.X/Y采样介质 mlsM;Ad2
Ka|WT|1 9%i|_c} GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
#Ont1>T,G 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
o/grM+_ 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
dvWQ?1l_ 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
@pcmVsIp 'gDhi!h% gZI88Q &&/2oP+z 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
L1FTh 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
dX4"o?KD> 应该选择像素化折射率调制。
fO+$`r>9 Fc{X$hh< n2NxO0 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
8ug\GlZc 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
oDtgBO< .d)X.cO 6.通过GRIN介质传播 n*UD0U}` To_Y
8 G |~'PEY z?NMQ8l|:6 通过折射率调制层传播的传播模型:
Rt
&Oz!TQ - 薄元近似
IkzY - 分步光束传播方法。
\uT2)X( N 对于这个案例,薄元近似足够准确。
;<j[0~qp: 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
>}& :y{z~ 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
IQ$cLr-S hRU.^Fn#% 7.模拟结果 v{/z`J!JR 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
u@V|13p< w}wABO 8.结论 ]kXiT Yg 1{TmK9U VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
~]CQ
DR: 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
z}'-gv\, 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。