1.模拟任务 p/ziFpU u4Y6B
]Q 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
>Jm-2W5J 设计包括两个步骤:
pX>ua5Z - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
G]L0eV - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
jHkyF`<+ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
bjM-Hd/K &%|xc{i w$DG=! 照明光束参数 cOzg/~\1 f0-RhR /p"U 波长:632.8nm
0=N4O!X9 激光光束直径(1/e2):700um
5S&aI{;9< 4/*]` 理想输出场参数 K:}h\ In +}Kk2Kg8 v;)BVv 直径:1°
i:l80 GK 分辨率:≤0.03°
W@:^aH 效率:>70%
GAg.p?Sq 杂散光:<20%
QT`fix{ ?~F]@2)5w xT{TVHdU 2.设计相位函数 C#A@)> '4J&Gp x Tx y]"_ Ix( 6 相位的设计请参考会话编辑器
h=X7,2/< Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
-(6eVI 设计没有离散相位级的phase-only传输。
>=4sPF) 5|yZEwq 3.计算GRIN扩散器 'jh2**i 34 GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
II.<S C 最大折射率调制为△n=+0.05。
<$"7~i/X 最大层厚度如下:
H"2 U)HJl aF D="Zh 4.计算折射率调制 Sv.KI{;v$ r`?&m3IOP 从IFTA优化文档中显示优化的传输
u=(H#o<# 6o$Z0mG 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
%0NL Rfp F?!FD>L{` S|l&fb n 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
YavfjS:2 ].LJt['%8
D*|(
p6v1& 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
kBrvl^D{5 kJ/+IGV^v aLV~|$:2 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
w(aUEWYL
*hV4[= HTxB=Q| #X4LLS]VV 数据阵列可用于存储折射率调制。
oz Vpfs 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
7}gA0fP9 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
2q12yY f AzZi{Q ? 5.X/Y采样介质 t9ER;.e
4\v~HFsv _\p`4-.V GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
AlUJ1^o) 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
8^i[j\Y;6 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
wbBE@RU>! 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
TV?
^c?{5 L%f-L.9`u 2%bhW,?I ,Ak ^nX 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
C:Vv!u 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
R j-jAH 应该选择像素化折射率调制。
*8/VSs xOhRTxic 0"hiCGm' 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
6ezcS}:+ 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
OthG7+eF r|M'TA~: 6.通过GRIN介质传播 9-B@GFB;8 k@7kNMl gEE9/\>%- g/x_m. 通过折射率调制层传播的传播模型:
S3; lKr - 薄元近似
*}7U`Aa - 分步光束传播方法。
%z=`JhE"Q 对于这个案例,薄元近似足够准确。
b"^\)|*4; 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
&ryiG 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
{JTmP `&l v< Ty|(gd 7.模拟结果 #iiwD| 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
Rb?~ Rs\ %,XI]+d 8.结论 9g96 d- l4zw]AYk+X VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
6I"C~&dt 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
r-*l1([eW 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。