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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 p/ziFpU  
    u4Y6B ]Q  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 >Jm-2W5J  
     设计包括两个步骤: pX>ua5Z  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 G]L0eV  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 jHkyF`<+  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 bjM-Hd/K  
    &%|xc{i  
    w$DG=!  
    照明光束参数 cOzg/~\1  
    f0-RhR  
    /p"U  
    波长:632.8nm 0=N4O!X9  
    激光光束直径(1/e2):700um
    5S&aI{;9<  
    4/*]`  
    理想输出场参数 K:}h\ In  
    +}Kk2Kg8  
    v;)BVv  
    直径:1° i:l80 GK  
    分辨率:≤0.03° W@:^aH  
    效率:>70% GAg.p?Sq  
    杂散光:<20% QT`fix{  
    ?~F]@2)5w  
    xT{TVHdU  
    2.设计相位函数  C#A@)>  
    '4J&Gpx  
    Tx y]"_  
    I x( 6  
     相位的设计请参考会话编辑器 h=X7,2/<  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 -(6eVI  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 >=4sPF)  
    5|yZEwq  
    3.计算GRIN扩散器 'jh2**i 34  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。  II.<SC  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 <$"7~i /X  
     最大层厚度如下: H"2U)HJl  
    aF D="Zh  
    4.计算折射率调制 Sv.KI{;v$  
    r`?&m3IOP  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 u=(H#o<#  
    6o$Z0mG  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 %0NLRfp  
    F?!FD>L{`  
    S|l&fb n  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 YavfjS:2  
    ].LJt['%8  
    D*|( p6v1&  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 kBrvl^D{5  
    kJ/+IGV^v  
    aLV~|$: 2  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 w(aUEWYL  
    *hV4[=  
    HTxB=Q|  
    #X4LLS]VV  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 ozVpfs  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 7}gA0fP9  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 2q12y Y f  
    AzZi{Q ?  
    5.X/Y采样介质 t9ER;.e  
    4\v~HFsv  
    _\p`4-.V  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 AlUJ1^o)  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 8^i\Y;6  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 wbBE@RU>!  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    TV? ^c?{5  
    L%f-L.9`u  
    2%bhW,?I  
    ,Ak ^nX  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 C:Vv!u  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 R j-jAH  
     应该选择像素化折射率调制。 *8/VSs  
    xOhRTxic  
    0"hiCGm'  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 6ezcS}:+  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 OthG7+eF  
    r|M'TA~:  
    6.通过GRIN介质传播 9-B@GFB;8  
    k@7kNMl  
    gEE9/\>%-  
    g/x_m.  
     通过折射率调制层传播的传播模型: S3;lKr  
    - 薄元近似 *}7U`Aa  
    - 分步光束传播方法。 %z=`JhE"Q  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 b"^\)|*4;  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 &ryiG  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 {JTmP`&l  
    v< Ty|(gd  
    7.模拟结果 #iiwD|  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    Rb?~ Rs\  
    %,XI]+d  
    8.结论 9g96 d-  
    l4zw]AYk+X  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 6I"C~&dt  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 r-*l1([eW  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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