示例.0012(1.0)
p8Pvctc D_@^XS 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
^;'3(m= MDRSI g 1. 描述 c7'Pzb)' .gB#g{5+J 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
E @7! : 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
9%x[z%06 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
'vXrA — 预设公式
{2,V3*NF — 测量数据
U7OW)tUf — 用户自定义的公式
l)?c3 光源没有输入且只有一个输出通道。
wFh{\ VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
h5~tsd}OU A&z 2. 光路图中的光源
@>BFhH j0Q;OKu
SQ@@79A %f@]- 3. 光源-基本参数 kWWb<WRW:
ydpsPU?wj5
"kMpa]<c-6 N-suBRnW vJYy` k^Y 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
h5F1mr1Sa 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
IuPwFf) 用户可以直接定义光源后的介质。
?R";EnD 支持以下附加配置:
3o6N&bQ b — 场尺寸
~(}zp<e| — 场形状(矩形,椭圆)
En1pz\' — 边缘宽度(切趾)
*'Ch(c:rtH bY#> 4. 光源-场尺寸和形状 -E.EI@" <.Pr+g 大多数分析的光分布都是无限扩展的
\i{=%[c 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
tvP"t{C6, VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
&0M^UvO 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
@L`t/OD 场尺寸可自动定义也可手动定义。
2+0'vIw} 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
=\tg$ QQqWJq~
"}EydG"= ++xEMP) 5. 光源-空间参数 &}rh+z
^G15]Pyw
P\SE_*& `6UW?1_Z5 aVd{XVE 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
2OEOb,` qW),)i 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
gg5`\} R:=i/P/ 6. 光源-偏振 lepgmQ|oY
%A?Ym33
;[&g`%-H< je.mX /Lpj 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
IS"UBJ6p 以下偏振类型可用:
,_p_p^Ar\4 — 线性偏振(输入到X轴的角度)
Ip|7JL0Z — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
(eHvp — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
4u A;--j — 一般的(输入琼斯矩阵)
s(F^P 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
8xlj:5;(w ?$9C[Kw` 7. 光源-光谱参数 LDO@$jg
DqbN=[!X~n
s\_
,aI R:zjEhH) 用户可以在3种不同的的模式中选择
Q']:k}y — 单
波长(单色仿真)
zS]Yd9;X1 — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
,Epg&)wC] — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
(',G
Ako 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
u
JGYXlLE XswEAz0= 8. 光源-光谱生成器 %=%jy [[ HXOPaV
p<tj6O 's+ Fd~' 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
:U^a0s%B 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
t: r Lr_+)l 9. 光源-采样 RR*<txdN jmz, 1[ ="z\ 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
ZI-)' 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
P8piXG
OiZPL" Q(K j'I$F1>Te 自动采样建议可以使用采样因子来修改
Q];+?Pu. 如果需要,用户也可以手动定义采样。
ZoF\1C ^ 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
=&< s*-l[ 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
i` n,{{x&4 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
iE0A-;:5 [?yOJU%`
#Q"el3P+q
5,|^4
ZA /!ux P~2U 数组通过以下定义:
k5P&F warray—>数组尺寸
:;#Kg_bz wfield size—>场尺寸
dq[j.Nmq wedge width—>绝对边缘宽度
z{7&= $ ∆x —>采样距离
;a*i*{\Rm Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
J+kxb"#d [89#8|+ 10. 光源-光线选择 'cu(
Sd}
3_+-t5
o'?Y0Wt -H#{[M8xX &1{RuV&t 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
D9 OS,U/l 支持以下光线模式:
S9t_2%e — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
W -8<sv$b — 六角形(定义光线的密度)
<U (gjX — 随机的(随机分布的光线数量)
RgZBh04q y}R{A6X) 11. 光源-模式选择 a{mtG{Wc
dc|"34;^"
mTwz&N\ V#'sH &>ii2% 4 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
(>%Ddj6_> 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
[>=D9I@~ 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
x;?4A J{ x}?y@.sn8 12. 在主窗口中生成光源 EgFV
I QS|
:MV]OLRM 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
7
g8SK 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
<=l!~~% @TdPeTw\
l`UJHX 4/&Us 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
2G=Bav\n+ 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
k"uqso/ nw+L _b 13. 总结 J}Bg<[n rp6Y&3p. VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
0m(/hK 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
Xai , VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。