示例.0012(1.0)
lG\lu'<C >/e#Z
h 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
`Yoafa bXJ,L$q 1. 描述 g^B6NF 71K6] ~< 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
%*|XN*i XC 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
M_9|YjwS 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
^o,@9GTs — 预设公式
C,tlp — 测量数据
D3XQ>T [*q — 用户自定义的公式
%NeKDE 光源没有输入且只有一个输出通道。
Hd;>k$B VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
HD=WHT& K\?vTgc( 2. 光路图中的光源 ReSP)%oW 50_%Tl[
q#OLb"bTr /^4)V8D_S 3. 光源-基本参数 !o*oT}6n
X+&@$v1
ld9zOq ShCAkaj_ 5fVdtJk7 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
5n(p1OM2q 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
r\Man'h$ 用户可以直接定义光源后的介质。
m{b(^K9} 支持以下附加配置:
cG"jrQ — 场尺寸
z2"2Xqy<U — 场形状(矩形,椭圆)
@Ki`g(],P — 边缘宽度(切趾)
u;=("S{"0 7RdL/21K 4. 光源-场尺寸和形状 +?mZ_sf8w Q8\Ks|u] 大多数分析的光分布都是无限扩展的
-$e\m]
}Z 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
&mY<e4 VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
M.|hnGXN 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
<Xl G :nmY 场尺寸可自动定义也可手动定义。
Lo;T\CN 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
w5~<jw%> o<C~67o_
-O(.J'=8 !3HMGzt 5. 光源-空间参数 (5Cm+Sy
Yt|{l
j4G,Z4 >aa-ix
& Q^mJ _~ 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
[0J0<JnK E"u>&uPH 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
F~*
5`o [=LQ,e$r7 6. 光源-偏振 A1YIPrav(
Q>sq:R+'
DM>j@(uWF NEJ
Nu_Z 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
O"Xjv`j: 以下偏振类型可用:
T[<9Ty'^ — 线性偏振(输入到X轴的角度)
u 4)i7 — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
lW>bXC — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
o ue;$8 — 一般的(输入琼斯矩阵)
ZYL]|/"J9 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
RYvS,hf6z n*_FC 7. 光源-光谱参数 ~~yo& ]
>L=l{F6
p
!FO||z(vb F;MFw2G 用户可以在3种不同的的模式中选择
JsiJ=zo< — 单
波长(单色仿真)
?rr%uXQjH — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
m\jp$ — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
F!SmCE(0x 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
5ue{&z
@T uFECfh 8. 光源-光谱生成器 {){i
ONd eOLS
}0f[x ?V &|gn%<^ 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
wAy;ZNu 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
/4=O^; Zkxt>%20~ 9. 光源-采样 eR5swy& !xa,[$w(^ SJ+.i
u/ 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
2Uk$9s 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
ZM4q@O)/
vw+
@'+
|yQ3H)qB# 自动采样建议可以使用采样因子来修改
)7J@A%u 如果需要,用户也可以手动定义采样。
(u$Q 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
>Wy@J]Y# 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
qFvtqv2 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
"4L' 2w+ 4$vya+mAk5
#ljfcQm
.eJ4F-V rEZa%)XJ 数组通过以下定义:
l} h<2 warray—>数组尺寸
6K*7%8Y/G wfield size—>场尺寸
WKmGw^ wedge width—>绝对边缘宽度
&a-:ZA@ ∆x —>采样距离
Y_f6y9?ZE Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
>mh:OJH45 t5e% "}>7H 10. 光源-光线选择 6C) G
UyIjM;X
]36 R_Dp %.[GR V^.~m;ETu] 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
9I9J}&4 支持以下光线模式:
knF *~O :y — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
9<-AukK m — 六角形(定义光线的密度)
2rD`]neA — 随机的(随机分布的光线数量)
6P+8{?V& VU)ywIs 11. 光源-模式选择 QJ pUk%Wj
1kTJMtZG~
5/Swn9vwl v,1.n{!; (~/D*<A 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
sx(yG9 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
hwkol W 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
[YJP 3P'.)=} 12. 在主窗口中生成光源 CWt,cwFW
f{5)yZ`J*
t~X wF("; 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
)SUT+x(DU 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
r"J1C ~])\xC
rN}{v}n F]SexP4:A 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
RH>b, 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
}q27M IN`05 Q 13. 总结 lHz:Iibt Lj({
T'f( VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
4d9iAN 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
Qn<J@% VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。