示例.0012(1.0)
Y /l~R7 j? Vs"d| 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
AsI.8" :)%cL8Nz]$ 1. 描述 M*aYcIU(( 7yOBxb 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
Y[W]YPs 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
l0tFj>q" 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
1D%E})B6 — 预设公式
(iht
LFp — 测量数据
-jVg{f! — 用户自定义的公式
7?\r9bD 光源没有输入且只有一个输出通道。
^1Bk*?Yx\x VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
,_K:DSiB /f hS#+V* 2. 光路图中的光源
!$<Kp6 W9{y1,G9
EF;B)y= 1[\I9dv2 3. 光源-基本参数 (@S9>z4s
^BP4l_rO9
v+CW([zAx# |C>\ku* (A-Uo
通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
^[v>B@p*{ 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
!"'@c 用户可以直接定义光源后的介质。
ozA%u,\7k 支持以下附加配置:
01IfvK — 场尺寸
:^]FpUY — 场形状(矩形,椭圆)
nyOvB#f — 边缘宽度(切趾)
i(xL-&{ g^^^fKUp ) 4. 光源-场尺寸和形状 Gz7,g
Y 8qT^=K
$ 大多数分析的光分布都是无限扩展的
5e2yJ R 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
?l`|j* VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
Z-aB[hE 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
(>dL 场尺寸可自动定义也可手动定义。
q2M%AvR 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
oM,UQ!x< Wr,pm#gl6
xP 3>8Y 8,:lw3x1 5. 光源-空间参数 &cf_?4
!KHbsOT?9
^{-Z3Yxd i^eDM.#X _Fjax 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
Sbj{) dkZ[~hEQG- 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
mm N$\2 kqLpt 6. 光源-偏振 83Fmu/(
xic&m5j
m
{;hRFQ^b S?Uvt? 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
g+=f=5I3 以下偏振类型可用:
"9;Ay@'B — 线性偏振(输入到X轴的角度)
5I5#LQv0 — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
?gS~9jgcd — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
$PTl{ — 一般的(输入琼斯矩阵)
3L;&MG= 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
{-s7_\|p( tEllkHyef 7. 光源-光谱参数 >8DZj&j
\05 n$.
Yn-;+ 4 K 2tdr1+U?g 用户可以在3种不同的的模式中选择
['@R]Si"! — 单
波长(单色仿真)
+p &$`( — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
)>WSuf
j — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
q]z%<`.9* 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
UC?i>HsJrX .KE2sodq 8. 光源-光谱生成器 *7!*kqg!u bOdyrynh
c|~f[ N`!=z++G 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
AO^c=^ 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
"?Xb$V7 ^+Stvj:N 9. 光源-采样 n ,CMGe^: di#:KW H%`|yUE( 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
^[-3qi 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
e(sV4Z~
.g95E<bd a gxR
V 自动采样建议可以使用采样因子来修改
he1W22 如果需要,用户也可以手动定义采样。
>&2n\HR\ 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
p+d?k"WN? 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
rD SUhO{V 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
5K % vd!|k5t[d
LzJNQd'
NHq*&xy zWEt< `1M 数组通过以下定义:
YkbZ 2J*- warray—>数组尺寸
# ~T
KC|G wfield size—>场尺寸
+~]LvZtI_ wedge width—>绝对边缘宽度
.|9o`mF7 ∆x —>采样距离
$mp'/] Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
YXWlg%s Y>: e4Q 10. 光源-光线选择 A('_.J=
-THU5AB
SH${ \BKup 4Sxt<7[f 8h| 9;% 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
z4yV1 支持以下光线模式:
4?)-;Hx_X — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
!Cv:,q — 六角形(定义光线的密度)
,>Lj>g{~ — 随机的(随机分布的光线数量)
Y"&1jud4xl ,S7g=(27( 11. 光源-模式选择 M;Dk$B{;R
Rg?m$$X`
;jgJI~3l +Y 4Cdl^4(LT 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
YzD6S*wb 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
?g21U97Q 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
:UgCP ~Y m|5yET 12. 在主窗口中生成光源 9M&uQccY
RC| t-(Z
[Q=NGHB1/ 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
,:e##g~k 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
~20O&2 6GZzNhz
eZ^-gk? },G>+ s8h 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
2}^fhMS 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
`V1D&}H+G (gn)<JJS} 13. 总结 #~SQujgB -8]M
,,? VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
%;Dp~T`0 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
,%FBELqOW VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。