示例.0012(1.0)
:i+Tf~k{ rz0~W6 U 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
cMxTv4|wui -%"Kxe 1. 描述 dC;@ Fn W@jBX{k 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
z>+@pj
在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
01q5BQ7u 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
aB~?Y+m — 预设公式
ZZp6@@zyq' — 测量数据
gS~QlW V — 用户自定义的公式
Ak[}s|,) 光源没有输入且只有一个输出通道。
fLl~a[(5 VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
"1_eZ ` SUxz &xH 2. 光路图中的光源 A?'Tigi %gDMz7$~
+4EQ9 - 5
rkIK 3. 光源-基本参数 ?)k;.<6
LDHuf<`
7:t+ jD9^DzFx fQq'_q5 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
b_@MoL@A! 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
Lh0Pvq0C 用户可以直接定义光源后的介质。
*j RNpB{)z 支持以下附加配置:
$5T3JOFz — 场尺寸
Qp~O!9ph — 场形状(矩形,椭圆)
'ek7e.x|V — 边缘宽度(切趾)
1foy.3g- Zo}wzY~x>I 4. 光源-场尺寸和形状 wYK-YY:Q3 z/(^E8F 大多数分析的光分布都是无限扩展的
`WSm/4m 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
eS9uKb5n( VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
.zO/8y(@ 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
4~=/CaG~ 场尺寸可自动定义也可手动定义。
wB}s>o\ 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
Vr0-evwfo EOWLGleD1
0\84~t'[ E'zLgU)r` 5. 光源-空间参数 XhjH68S(
tWy0%
-
LO0<=4iN( ^=@L(;Y
rAq2 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
?bu-6pkx] B B*]" gT 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
AdDlS~\? f"j~{b7 6. 光源-偏振 86$9)UI
tb#. Y
jFfuT9oId Ge=+0W)& 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
;LM`B^Q]s 以下偏振类型可用:
v:kTZB — 线性偏振(输入到X轴的角度)
qV2aa9p+ — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
/iFtW#K+ — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
zsnXPRF — 一般的(输入琼斯矩阵)
v {E~R 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
2.6%?E] qg6283'? 7. 光源-光谱参数 /ghXI"ChI
H7!j5^
~Qjf-| jy#'oadS? 用户可以在3种不同的的模式中选择
s
8O"U% — 单
波长(单色仿真)
@*'$QD, — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
H;5Fs KIF — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
7jP
C{W 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
2;N)>[3*J k!-(Qfz 8. 光源-光谱生成器 luAmq+ f/Cf2
K
i|A0G%m] $ t_cNH@^3<3 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
AdV&w: ^yf 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
4,kdP)Md$ AB92R/ 9. 光源-采样 M-Gl".*f dNd(57 ^ 'W<| 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
_qwKFC 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
n@IpO
i$Q
HX\^ecZ#E @}sxA9a 自动采样建议可以使用采样因子来修改
^]_[dqd 如果需要,用户也可以手动定义采样。
e%_2n=p~)% 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
p2Yc:9r9+A 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
.;#Wf@V 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
BVAxeXO >p"ytRu^
LDilrG)
tB-0wD=PR ;la sk4| 数组通过以下定义:
);X&J:-l+ warray—>数组尺寸
4H@:| wfield size—>场尺寸
n1D,0+N= wedge width—>绝对边缘宽度
"_!D
b&AH ∆x —>采样距离
K1i@.`na/$ Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
a B(_ZX'L h+ixl#: 10. 光源-光线选择 RE~9L5i5
_`'VOY`o
[N]5)n iKs @oHW PtP{_9%Dz 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
F\LAw#IJ 支持以下光线模式:
(t$jb|Oa — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
Pv@P(y?\ — 六角形(定义光线的密度)
Vqr#%.N — 随机的(随机分布的光线数量)
gl k-: # PHZ+u@AA6@ 11. 光源-模式选择 `v;9!ReZV
S.G"*'N
L-J 7z+{ > J4Tk1//b OQl7#`G!H% 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
ollJ#i9 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
9@'^}c# 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
W@"s~I6 V 5ve 12. 在主窗口中生成光源 *2nQZ^c.
;/hR#>ib
,0j7qn@tm 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
[WZGu6$SU 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
7sgK+
ip X*4iNyIs_
#Tm^$\*h\] =t@8Y`9w 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
F@4TD]E0^ 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
Tf0"9 }K<% h 13. 总结 I[P43>F3 W DrC VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
|r|<cc# 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
"#<P--E 9 VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。