示例.0012(1.0)
[79iC$8B| ?bGk%jjHXM 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
tLzb*U8'1w 2?nEHIUT 1. 描述 i9eE/
. NCivh&HR 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
C;I:?4 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
L>&9+<-B 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
G]zyx"0Sqb — 预设公式
H(tT8Q5i — 测量数据
i\dd — 用户自定义的公式
r!;wKO 光源没有输入且只有一个输出通道。
^l{q{O7U$ VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
x5R|,bY _6.Y3+7I 2. 光路图中的光源 V`m9+<.1 b 2" u,f
\49s;\I] ~oz??SX 3. 光源-基本参数 +vIsYg*#2M
w >w zV=R
oVQbc\P3 bD`h/jYv (*Z:ByA 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
'x<o{Hi"\B 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
[LM9^*sG2V 用户可以直接定义光源后的介质。
PZihC
支持以下附加配置:
@_0tq { — 场尺寸
NH<~BC]I — 场形状(矩形,椭圆)
?N=`}}Ky- — 边缘宽度(切趾)
Ff1!+P, ]OV}yD2p 4. 光源-场尺寸和形状 RMHJI6?LB zy`T!
$ 大多数分析的光分布都是无限扩展的
<>H^:iqn 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
Y)2#\ F VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
hv *XuT/ 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
YySo%\d 场尺寸可自动定义也可手动定义。
_&N}.y)+t 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
fZb}- Sym}#F\s
V1yP{XT= Y|S>{$W 5. 光源-空间参数 ?\$6"c<G
EMzJyGt7
fR]KXfZ [1e]_9)p C!U$<_I\2 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
=w/AJ%6 B+z>$6 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
\_x~lRqJJ W3jwc{lj 6. 光源-偏振 VniU:A
-""(>$b2
i,wZNX 5?m4B:W 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
&gcZ4gpH 以下偏振类型可用:
/[!<rhY — 线性偏振(输入到X轴的角度)
~ ReX$9 — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
Ol;DJV — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
uU=!e&3 — 一般的(输入琼斯矩阵)
S6Y:Z0 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
2I283%xr =#vJqA 7. 光源-光谱参数 "^)GnK +-
0U8'dYf
/ ;+Mz* Z!3R 用户可以在3种不同的的模式中选择
&Q* 7 — 单
波长(单色仿真)
qkqtPbQ 7 — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
2R W~jn" — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
]Y@_ 2` 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
b,X+*hRt }<zbx*! 8. 光源-光谱生成器 xQl}~G]! 33&l.[A"!}
O[\mPFu5 %cBOi_}}~ 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
: 76zRF 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
=~5N/! -/2B fIq 9. 光源-采样 j{D tjV8 w OOu/Y E#,\[<pc 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
4sW'pH 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
y06xl:iQwF
Z}{]/=h 5nTcd@lX 自动采样建议可以使用采样因子来修改
'$rCV,3q 如果需要,用户也可以手动定义采样。
?J-\}X 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
TZGk[u^* 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
p5% %k- 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
sWB@'P:x d]:G#<.
4LW~
9dm<(I} e7b MK<:r 数组通过以下定义:
^;F5ymb3U warray—>数组尺寸
]0BX5Z' wfield size—>场尺寸
A}}dc:$C wedge width—>绝对边缘宽度
<sw=:HU ∆x —>采样距离
n`@dk_%yI Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
f( Dtv z`.<dNg 10. 光源-光线选择 .;qh>Gt
K|OPtYeb
luyu7` 8vtembna4 nA{yH}D4 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
:KR
KD 支持以下光线模式:
pw5{=bD — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
BoST?"&}' — 六角形(定义光线的密度)
\ q3ui}-9 — 随机的(随机分布的光线数量)
Dv
L8}dz ?>iUz.];t 11. 光源-模式选择 7=5eLc^
Pf<yLT]
0TSB<,9a[ La3rX l5~O}`gfh 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
Iqn
(NOq^[ 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
13w(Tf 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
BFg&@7.X HTz`$9 12. 在主窗口中生成光源 bM5o-U#^ C
(CgvI*O
W amOg0 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
X/90S2=P 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
0xO*8aKT M_-L#FHX
eB=&(ZT <pjxJ<1l 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
cIG7Q"4 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
(vX<Bh Pqw<nyC. 13. 总结 kU=U u> )J0h\ky VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
awvP;F?q| 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
h_+ VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。