示例.0012(1.0)
0M>%1* &nZ.$UK< 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
U0S}O(Ptr k<S!| 1. 描述 6d/b*,4[ [h2V9>4: 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
BcoE&I?[m| 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
dzMI5fA<_ 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
zphStiwIQ — 预设公式
k)USLA — 测量数据
8 _[f#s`) — 用户自定义的公式
w@2LFDp 光源没有输入且只有一个输出通道。
ihhnB VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
!PrO~ %25_ 2. 光路图中的光源 & ~[%N
O AuYi$?8|5
HM1y$ej O^gq\X4} 3. 光源-基本参数 }fs;yPl,
Dy^4^ J5+
UoxF00H@! W.,J' M>k7
'@G 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
aa1XY&G"! 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
%jM|*^\% 用户可以直接定义光源后的介质。
BmUzsfD 支持以下附加配置:
osX23T~- — 场尺寸
n*6',BY — 场形状(矩形,椭圆)
|,&!Q$<un — 边缘宽度(切趾)
7"JU)@ U] Fk(0q/b 4. 光源-场尺寸和形状 [%nG_np =-pss 47 大多数分析的光分布都是无限扩展的
z?"5="D 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
aLXA9? VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
cuk2\> Xl 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
j)IK 场尺寸可自动定义也可手动定义。
?3z+|;t6C 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
<p0$Q!^dK= N<> dg
(\/HGxv e#HP+b$ 5. 光源-空间参数 Z#o\9/{(R
_@prv7e
Jp-ae0 Ewa ^Q :K$! Z ''P5B; 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
g&E_|}u4 AYZds >#Q 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
=OZ_\vO \]OD pi
2 6. 光源-偏振 8:xQPd?3
=;/h{
t
V_W=MWs&+ VYAe!{[ 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
B=c^ma 以下偏振类型可用:
^&rbI,D — 线性偏振(输入到X轴的角度)
}\*Sf[EMD — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
(
L6`_) — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
%-'U9e KN — 一般的(输入琼斯矩阵)
d|NNIf 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
8c|IGC }b^lg&$( 7. 光源-光谱参数 BVNh>^W5B
anwn!Eqk"
|B`tRq `WW0~Tp3 用户可以在3种不同的的模式中选择
9,c>H6R7 — 单
波长(单色仿真)
`cv:p|s — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
q%vUEQLBp — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
n|*V
8VaL 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
fIcv}Y r4lG 5dV 8. 光源-光谱生成器 5~X%*_[], E>1USKxn
]1[;A$7 W[m_IY 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
WE7l[<b 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
}Tef;8d 7A|jnm 9. 光源-采样 rN~`4mZ awK'XFk nJya1AH; 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
]x G4T>S 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
T7Ac4LA
\nyFN ({9!P30: 自动采样建议可以使用采样因子来修改
Y"jDZG? 如果需要,用户也可以手动定义采样。
;~bn@T- 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
S_CtEM 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
W<L6, 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
yi?&^nX@9, {EUH#':
:qp"Ao{M
`IoX'|C[h !%X`c94 数组通过以下定义:
h,+=h;! warray—>数组尺寸
_2Z3?/Y wfield size—>场尺寸
K?je(t^ wedge width—>绝对边缘宽度
~e+w@ lK ∆x —>采样距离
gsp7N Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
v^pP&
<G *La =7y: 10. 光源-光线选择 ^IpiNY/%Q
9F](%/
k
I~]u kk'w@Sn.( G~L?q~b 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
?Q3~n ^ 支持以下光线模式:
Fc~w`~tv — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
srLr~^$j[ — 六角形(定义光线的密度)
g8"7wf`0k — 随机的(随机分布的光线数量)
0Y2^}u@5 !y`e,(E 11. 光源-模式选择 '[8b0\
)''wu\7A)'
'>Y
2lqa B,833Azi HJR<d&l;p 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
cvA\C_ 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
..!-)q'? 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
)<F\IM ~,68S^nP)H 12. 在主窗口中生成光源 B7MW" y
*h:EE6|
1>VS/H` 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
0Zh
_Q 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
Y0\\(0j64 Td1ba ^J
&2=KQ\HO #cG479X" 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
!(K{*7|h 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
;-GzGDc~0 TrU@mYnE 13. 总结 _D9@<+MS* o}+Uy VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
sC_UalOC_ 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
s;7qNwYO VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。