示例.0012(1.0)
eU/o I} A !0i6:2nw 关键词：
LED，
激光，谐波场，谐波场设置，
光谱，脉冲，偏振
#pDWwnP[rt _D<=Yo 1. 描述 Itaq4 ^CE }t5-%&gBY0 通过该案例，介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
!C ]5_ 在一般的VirtualLab中，区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
x~3N})T5 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义：
`wIMu$ i — 预设公式
oih n`DY { — 测量数据
!V/Vy/'` * — 用户自定义的公式
I_ O8 9Sgn 光源没有输入且只有一个输出通道。
D XFU~J* VirtualLab中，除了激光谐振器工具箱外，光源内部的处理不做仿真。
v0psth?qV ktE~)G 2. 光路图中的光源 FO[x
c; rLP:kP'b 
vZhC_G+tGd MPa F 3. 光源-基本参数 Fl8 *dXG&
CY kU -
R-%v?? bxU 2.YC Vz4 /u|gt 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
C=k]g 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
`4GEq2% 用户可以直接定义光源后的介质。
8kn> ? 支持以下附加配置：
) 67pBj — 场尺寸
barY13)$U — 场形状(矩形，椭圆)
LsW7JIQd — 边缘宽度(切趾)
>aw` kr u?Pec:3% 4. 光源-场尺寸和形状 \ B \G=Y (%N=7? 大多数分析的光分布都是无限扩展的
{S l#z }@s 对于计算机，所有的光分布必须是有限扩展的。
7\;4 d4u VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念，
st4WjX_Q 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
Z|t`}lK 场尺寸可自动定义也可手动定义。
@la/sd4` 此外，提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
,1|Qm8O d1[;~) 
/w|!SZ B ?ZF ~U 5. 光源-空间参数 MP
LgE.n
A-6><X's6
,_wpYTl*X GMv.G Fy6(N{hql 在空间参数页面，用户可以定义横向分布的附加参数。
. 5_zh;
` 4` X]$. 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
PH1jN?OEwZ o&U'zaj 6. 光源-偏振 ":I@>t{H*
s@$SM,tnn
V7S [rI<<r 2h;#BJ )) 在偏振表中，用户可以定义光源的偏振特性。
Hoj'zY 以下偏振类型可用：
BE$Wj;Q — 线性偏振(输入到X轴的角度)
g6D7Y<} d — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
&m PR[{ — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
O-3R#sZ0 — 一般的(输入琼斯矩阵)
5 $PDA*]9 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
O)FkpZc@9c .EfGL _ 7. 光源-光谱参数 S!Bnz(z
~[Fh+t(Y
px=k&|l H~1o^
gU 用户可以在3种不同的的模式中选择
qx'F9I — 单
波长(单色仿真)
&=.SbS — 三波长(三个波长，并通过权重进行定义)
F?c :
).g — 波长列表(带权重的波长列表，通过图表或ASCII导入)
Tfytc$ aQ 如果是可见光则结果显示为色彩，否则为黑色。
c,,(s{1 ^1\[hyZ! 8. 光源-光谱生成器 UCBx?9O/0 vEZ d;40y 
~a ]R7X7 hfL8]d- 在光源工作区内有几种生成器，可用于定义光源和脉冲的光谱
u gy: ^U 生成的数据阵列可以表示光谱信息，并可导入光源。
).i :C(| m=#< 9. 光源-采样 D,,$ DQy;W ov u-k! h 在采样选项卡中，用户可以定义用于生成场的采样参数。
e_ h`x+\: 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型，该模型已能够满足大部分情况的需要。
JTS<n4<a 
KB`">zq$u krSOS W J 自动采样建议可以使用采样因子来修改
vO
3-B 如果需要，用户也可以手动定义采样。
hmES@^n!_ 手动模式下，用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
5M=
S7B3 = 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
Y-
tK 因此，输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义：
X B[C&3I $.Qu55=z< 
)uK Tf=; 
C %QC^,KL
o%3VE8- 数组通过以下定义：
q +*>T=k warray—>数组尺寸
~|R/w%*C wfield size—>场尺寸
Aw,#oG {N wedge width—>绝对边缘宽度
dMDSyd <( ∆x —>采样距离
FV>xAU$ Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
E>L_$J -A- 9oA-Swc[ 10. 光源-光线选择 &B@qb?UE1
3F\UEpQ
_>/OqYR_jQ <xaB$}R w rEYbb 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
r Cn"{.rI 支持以下光线模式：
lFc4| _c g — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
IfF&QBi — 六角形(定义光线的密度)
VK/i5yT5N — 随机的(随机分布的光线数量)
-z?O^:e#x U\`yLsKvH` 11. 光源-模式选择 F9 4Qb}
c
6$n:
InfUH8./t JNSH'9!n6 nH(H k%~ 对于部分相干光模式，该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
&k0c|q] 对于所有的光源，用户可以修改模式并生成光源。
1Jn:huV2 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
nk+*M9r|I yL%k5cO$N 12. 在主窗口中生成光源 }ej-Lu,b3
D OGg=`XK1
#7dM % 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
!Z`xwk"! 对于基本光源，可以指定单色或多色的不同相干光源。
ealh>Y R WK##VHK 
d$*SVd : ?Ulc`-d 对于部分相干光模式，主窗口中也有可用的生成器。
_.ELN/$- 这些光源可以用于，如仿真LED，受激准分子
激光器和多模激光器仿真
$C ?G7Vs ~zA{ =| I2 13. 总结 :>GT<PPD; _ =oN Q VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活，而且界面友好，易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
{ 1j[RE 通过标准的方式指定光源所有参数，使用户对使用的概念更加熟悉，并可通过相同的步骤配置所有光源。
YcJ2Arml VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED，受激准分子激光器和多模激光器)。
