示例.0012(1.0)
&BVUK"}P Aez2n(yac 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
%Z;RY5 H4Bt.5O* 1. 描述 ,\`ruWWLb= A;!5c;ftj, 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
H UJqB0D
? 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
H )X[%+ 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
4vg,g(qi< — 预设公式
,Wtw0)4 — 测量数据
6Ga'_P: — 用户自定义的公式
[gzaOP`f 光源没有输入且只有一个输出通道。
Gm+D1l i VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
^C gg1e1 .+7n@Sc 2. 光路图中的光源 }3
/io0"D p{?duq=
V``|<`!gd GTs,?t16/ 3. 光源-基本参数 {\Pk;M{Y&
5%'ybh)@
GzEw~JAs RqROl!6 5N9Cd[4 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
R;"$ PHD 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
q\tr&@4iC 用户可以直接定义光源后的介质。
BDt$s(
\ 支持以下附加配置:
2_$8Ga — 场尺寸
(4Db%Iw — 场形状(矩形,椭圆)
"t2T*'j{ — 边缘宽度(切趾)
hyxv+m[ 4lo7yx 4. 光源-场尺寸和形状 1P]J3o R0M>'V?e 大多数分析的光分布都是无限扩展的
x.t<@y~ 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
lB}?ey VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
zDg*ds\ 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
E2Sj IR} 场尺寸可自动定义也可手动定义。
hn .(pI1 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
Iq|h1ie
m+ {UH45#Ua
?`TQ!m6y ]xf89[;0 5. 光源-空间参数 :F d1k
Jm
QXI~Toddj
[KUkv t{,$?} 1uo |a 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
58?WO} 7L+Wj }m 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
w !kk(QMV HubG>] 6. 光源-偏振 3SM'vV0[
C,;?`3bH@
~N/%R>(v N+V#=Uy 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
+4J'> dr 以下偏振类型可用:
hgZvti — 线性偏振(输入到X轴的角度)
yO-2.2h — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
\*PE#RB#6 — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
\;%D;3Au — 一般的(输入琼斯矩阵)
wz+mFf 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
2SU'lh\E n4?;!p<F 7. 光源-光谱参数 2 U%t
pg!mOyn
{?
yRO] EQnU:a 用户可以在3种不同的的模式中选择
EAY+#>L* — 单
波长(单色仿真)
oe6Ex5h — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
;E}&{w/My — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
n2aUj(Zs= 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
0r@LA|P SFzoRI=qG 8. 光源-光谱生成器 ,>g(%3C 0?R$>=u
R||$Wi[$ G>Bgw>#_ 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
7d{xXJ- 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
B8cg[;e81 :A#'8xE/ 9. 光源-采样 Gj#BG49g2 wPyc?:|KD? m:EYOe,w 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
zBrIhL]95 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
zv1,DnkqF
+=`w WOYZ 自动采样建议可以使用采样因子来修改
F0m[ls$ 如果需要,用户也可以手动定义采样。
rI)&.5^ 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
bz&9]%S< 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
,g P;XRe1 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
%[,^2s (1,4egMpR
N9c#N%cu
1^Q!EV p<VW;1bt5 数组通过以下定义:
J(~xU0gd' warray—>数组尺寸
oOQan wfield size—>场尺寸
hHt.No wedge width—>绝对边缘宽度
z_C7=ga< ∆x —>采样距离
xAsy07J? Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
$YBH;^# aBF<it> 10. 光源-光线选择 +'e3YF+'
y9:o];/
=c[mch%E <
Lrd(b; ?!34qh 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
UR`pZ.U? 支持以下光线模式:
oRn 5blj — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
5OFb9YX — 六角形(定义光线的密度)
Z${@;lgP — 随机的(随机分布的光线数量)
KbRKPA` ht)KS9Xu 11. 光源-模式选择 ]o8~b-
87VXVI
<>1*1%m *
8D(Lp1 P[cGCmM 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
d#- <=6 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
MU_
>+Wnf 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
H%c{ }F $r)nvf`\ 12. 在主窗口中生成光源 !91<K{#A{
%hzNkyD)Y
Z Q9's 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
XN'X&J 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
|B*`%7{+ =7("xz%
I=`efc]T \-s'H: 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
X"G3lG 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
dv\oVD Fx*IeIs(:~ 13. 总结 YI?y_S [[u&=.Au VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
|7T!rnr 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
e.g$|C^$m VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。