示例.0012(1.0)
^T*!~K8A <#wVQ\0C 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
S,EL=3},= 3Vbt(K 1. 描述 on;>iKta9 $<9u:.9xf 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
-
~4na{6x 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
T^F83Py< 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
+cbF$,M4 — 预设公式
CH#K0hi — 测量数据
hQ}_(F_H — 用户自定义的公式
)~Gn7 光源没有输入且只有一个输出通道。
A2ufET VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
/~Bs5f.]? JVGTmS[3 2. 光路图中的光源 sjOv!|]A G3 |x%/Fbp
UM`{V5NG# O c.fvP^ZD 3. 光源-基本参数 puLgc$?
B&7NF}CF2
-k@1#c+z L[Ot$ A;^ iy]" 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
4*L*"vKa 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
MsBm0r`a 用户可以直接定义光源后的介质。
E[7E%^:Mg 支持以下附加配置:
SME9hS$4 — 场尺寸
as'yYn8 — 场形状(矩形,椭圆)
?"^{:~\N — 边缘宽度(切趾)
Mna
yiJl [Y~~C J 4. 光源-场尺寸和形状 4"H*hKp g*(z.
大多数分析的光分布都是无限扩展的
ZyDNtX% 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
a]Pw:lT VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
a#{"3Z2| 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
{6WG 场尺寸可自动定义也可手动定义。
73]8NVm 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
"GR*d{
q)f_!N
4lWqQVx :p,|6~b$ 5. 光源-空间参数 V0rQtxE{F
/ Y od
j
RcE241 (~%NRH<\ h_{f_GQ" 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
wJ pb$; 6^t#sEff] 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
IC5QH<.$C nu7 R 6. 光源-偏振 [^?i<z{0C
4H(8BNgzV
;[UI]?A% Y<u%J#'[ 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
NmXRA(m 以下偏振类型可用:
Ws7fWK; — 线性偏振(输入到X轴的角度)
1
z~|SmP1 — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
7K
"1^ — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
K#N9N@W jR — 一般的(输入琼斯矩阵)
bhGRD{= 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
RRPPojKZ >Oj$Dn= 7. 光源-光谱参数 9 " t;6
-seLa(8F
s+v9H10R %qz-b. 用户可以在3种不同的的模式中选择
iN.
GC^l — 单
波长(单色仿真)
B1J,4 — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
U3z23LgA — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
auc:|?H~1n 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
P8}IDQ9 ;Z"MO@9: 8. 光源-光谱生成器 qqe"hruFJ ?gUraSFU
,*U-o}{8C? x?V^l* 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
S*=^I2; 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
l^ay*H O|+ZEBP 9. 光源-采样 m3Wc};yE*Q 0RtZTCGO \XmplG: 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
,hu@V\SKv 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
Nwt[)\W `
]
1pIIX} u9|Eos i 自动采样建议可以使用采样因子来修改
vT0Op e6m 如果需要,用户也可以手动定义采样。
G#e]J;
手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
8^+|I, 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
x%r$/= 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
q[VQ?b~9 JyTETf,y
s7sd(f]=
j@(S7=^C6% e-P{)L<s5 数组通过以下定义:
T@.+bD warray—>数组尺寸
8)eRm{ wfield size—>场尺寸
|(*btdqy3 wedge width—>绝对边缘宽度
Z(c
SM ∆x —>采样距离
P8ej9ULX, Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
{ 22ey`@`h PvV\b<Pe+ 10. 光源-光线选择 <Tjhj*
MbCz*oW
nVWU\$Ft )cRHt: r3U7`P 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
W|@SXO)DY 支持以下光线模式:
O0z-jZ,]) — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
{CR`~)v& — 六角形(定义光线的密度)
FT~c|ep. — 随机的(随机分布的光线数量)
9ThsR&h3 4y+hr 11. 光源-模式选择 ;kZD>G8
Gdb0e]Vt+
Y=<ABtertS @HMH>;haE iUh7eR9 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
m`fdf>gWp 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
!gRU;ZQU_ 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
lshSRir nt|n[-} 12. 在主窗口中生成光源 =Xr{ Dg
<ZZfN@6
~h8k4eM 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
W`_Wi*z4 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
B^dMYFelJ ]wV\=m?z&
~l'[P=R+8 T<7}IH$6xE 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
Pfvb?Hy 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
`_Iyr3HAf
A ;`[va 13. 总结 u"v$[8 &f 'Lll VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
Q_,!(N 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
xP1D 9 VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。