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dbI>\khI 内容简介 }9~^}99} Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Sc)^k 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R><g\{G] 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }^
rxsx` C|'DKT4M& 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 (eHyas %X 目录 z _!ut Preface 1 ex3Qbr 内容简介 2 J2UQq 7-y 目录 i zM'eqo>!c> 1 引言 1 } M#e\neii 2 光学薄膜基础 2 ZN[<=w&(cB 2.1 一般规则 2 I \:WD" 2.2 正交入射规则 3 }F`|_8L*v) 2.3 斜入射规则 6 O9=/\Kc 2.4 精确计算 7 =2Y;)wrF 2.5 相干性 8 jr6_|(0
i6 2.6 参考文献 10 VYvfx 3 Essential Macleod的快速预览 10 A1WUK=P 4 Essential Macleod的特点 32 c}(WniR-" 4.1 容量和局限性 33 t@q'm.:uw< 4.2 程序在哪里? 33 &!!*xv-z 4.3 数据文件 35 r*X,]\V0x 4.4 设计规则 35 6{Wo5O{!\ 4.5 材料数据库和资料库 37 -YRIe<}E - 4.5.1材料损失 38 I>c,Bo7 4.5.1材料数据库和导入材料 39 u-_r2U 4.5.2 材料库 41 s#2t\}/ 4.5.3导出材料数据 43 fgLjF,Y 4.6 常用单位 43 >lI7]hbIs 4.7 插值和外推法 46 U|^xr~q!f- 4.8 材料数据的平滑 50 ui8 Q2{z 4.9 更多光学常数模型 54 v2T2/y% 4.10 文档的一般编辑规则 55 3h:j.8Z 4.11 撤销和重做 56 sZ;|NAx) 4.12 设计文档 57 ^t>mdxuq 4.10.1 公式 58 gI+8J.AG= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 D3pz69W 4.10.3 沉积密度 59 sD|l}f 4.10.4 平行和楔形介质 60 _)A|JC!jId 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 $Y/9SD
4.10.4 性能 61 nl@an!z 4.10.5 保存设计和性能 64 RObnu* 4.10.6 默认设计 64 .;#T<S" 4.11 图表 64 \kADh?phV 4.11.1 合并曲线图 67 [ks_wvY:' 4.11.2 自适应绘制 68 Ni$'#
W?t 4.11.3 动态绘图 68 SV7;B?e%Y 4.11.4 3D绘图 69 JsEJ6!1 4.12 导入和导出 73 !_I1=yi 4.12.1 剪贴板 73 d;i|s[6ds` 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 0K!3Ny9( 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &@=Jm
/5 4.13 背景 77 | /.J{=E0K 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 t)SZ2G1r 4.15 生成Rugate 84 PyeNu3Il4 4.16 参考文献 91 dFg>uo 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 0G%9
@^B 5.1 Jobs 92 C@M-_Ud>Q 5.2 创建一个新Job(工作) 93 V&Y`?Edc 5.3 输入材料 94 :X2_#qW#C 5.4 设计数据文件夹 95 2& Q\W 5.5 默认设计 95 rPxRGoR 6 细化和合成 97 jNZ.Fb 6.1 优化介绍 97
:e1h!G 6.2 细化 (Refinement) 98 dQ:,pe7A 6.3 合成 (Synthesis) 100 dSI"yz 6.4 目标和评价函数 101 YAi-eL67l 6.4.1 目标输入 102 Mz+I
YP`L 6.4.2 目标 103 "be\%W+< 6.4.3 特殊的评价函数 104 g[xoS\d 6.5 层锁定和连接 104 kk4 |4 6.6 细化技术 104 ucCf%T\: 6.6.1 单纯形 105 t}t(fJHY` 6.6.1.1 单纯形参数 106 !j~wAdHk 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 n Ja!&G& 6.6.2.1 Optimac参数 108 7?lz$.*Avp 6.6.3 模拟退火算法 109 S"bN9?;#u 6.6.3.1 模拟退火参数 109 vu0Ql1 6.6.4 共轭梯度 111 i4D(8; 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *CN *G" 6.6.5 拟牛顿法 112 1(' wg! 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 c[@_t.%) 6.6.6 针合成 113 kBUkE-~ 6.6.6.1 针合成参数 114 A|biOz 6.6.7 差分进化 114 f \&X$g 6.6.8非局部细化 115 v>X!/if<y 6.6.8.1非局部细化参数 115 ~E}kwF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 <^S\&v1C_ 6.7.1 细化 116 _kKG%U.gbK 6.7.2 合成 117 O>`k@X@9/ 6.8 参考文献 117 >`QBN1 Y 7 导纳图及其他工具 118 ss^a=?~ 7.1 简介 118 ammi4k/ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ~ !uX"F8Xl 7.2.1 四分之一波长规则 119 _|~Dj)z 7.2.2 导纳图 120 "&L8d(ZuA 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 KpN]9d 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b42%^E 7.5 斜入射导纳图 141 18$d-[hX 7.6 对称周期 141 (g6e5Sgi> 7.7 参考文献 142 lKbWQ> 8 典型的镀膜实例 143 VuLb9Kn 8.1 单层抗反射薄膜 145 QO@86{u#Y 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 =By@%ioIGG 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 M+"6VtZH 8.4 W-膜层 148 ;< |