1. 建模任务 eLk:">kj 1.1
模拟条件
avxI%% | 模拟区域:0~10
42 0cbD3a 边界条件:Periodic
g
(V_&Y 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
5z"[{#/ 单位长度:0.5
*5R91@xt
61`tQFx, lsB.>N lU 1.2堆栈
结构 wbh^ZMQ yb'v*B] 2. 建模过程 1:Xg&4s 2.1设置模拟条件
2w/qH4
HG[gJ7 RJLhR_t7n 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 :w:ql/?X $
Bdxu @{x+ln1r 2.3创建掩膜并生成多畴结构
k 1;Jkq~ 2Q[q)u 3. 结果分析 @1)C3(=A 3.1 指向矢分布和透过率
a,\GOy(q{ H^8t/h gBE1aw; 3.2所有畴的V-T曲线
$lf\1)B~* d$v{oC} 73(5.'F 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
6>-Gi