1. 建模任务 p{xO+Nx1a 1.1
模拟条件
}"wWSPD 模拟区域:0~10
\Xc6K!HJM 边界条件:Periodic
2;r(?ebw 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
?~uTbNR 单位长度:0.5
}legh:/*?O
o)Kx:l +f % @3AA< 1.2堆栈
结构 ~ ?m'; %/b?T]{ 2. 建模过程 [5,aBf)X 2.1设置模拟条件
|lOxRUf~
GLQ1rT su/l'p' 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 I0P)DR %s P C3L s t P~/} 2.3创建掩膜并生成多畴结构
Enm#\(j EWNh:<F? 3. 结果分析 ]]`hnzJX 3.1 指向矢分布和透过率
KhAj`vOzK )dgXS//Y KRQKL`}} 3.2所有畴的V-T曲线
_Sy-&}c+
+ `4__X; /9 NQ u 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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