1. 建模任务 <Hh5u~ 1.1
模拟条件
2rO)qjiH 模拟区域:0~10
#K#Mv/ 边界条件:Periodic
,.oa,sku 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
jj3Pf>D+k 单位长度:0.5
|rxKCzjm
O+o ;aa6 w`j*W$82 1.2堆栈
结构 ]CIQq1iY OgKWgvy 2. 建模过程 /1 US, 2.1设置模拟条件
Q)G!Y
(g\
B 9LSxB K=tx5{V 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 J&63Z &gWMl`3^*! Yz2{LW[K 2.3创建掩膜并生成多畴结构
,TF<y#wed >G<\1R 3. 结果分析 Ehb?CnV#J 3.1 指向矢分布和透过率
$-$5ta{s n9kd2[s| tg7C;rJ 3.2所有畴的V-T曲线
-_2Dy1 qSEB}1 YER:ICQ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
Ii~; d3.